【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】环形等离子体处理装置本文所使用的各部分的标题仅用于组织的目的，并且不应被理解为以任意方式来限制本申请所描述的主题。
技术介绍
有许多类型等离子体放电，并且它们在各种各样的条件下工作。在某些应用中，使用低至10 3托的压力。在低压力下，解离主要由于对分子的电子轰击而发生。对气态物质的加热在解离过程中起着相对较小的作用。在其他应用中，使用高得多的气体压力，该气体压力能够为I托到大于I个大气压。分子的解离由于电子轰击加上对气态物质的加热的结合而发生。一般地，最有效的解离在压力和气体温度都相对较高时发生。当气体压力为I托或更大并且等离子体所吸收的电功率大于1Wcm 3时，气体温度能够超过数千摄氏度。在这些高的气体温度下，热效应在维持高度解离的气体方面开始起着重要的作用。【附图说明】根据优选的示例性实施例的本教导连同其更多的优点一起将在下面结合附图进行的详细描述中更具体地描述。本领域技术人员应当理解，下面所描述的附图只是用于说明的目的。这些附图并不一定是按比例的，而是一般要强调对本教导的原理进行说明。这些附图并非意指以任意方式来对本教导的范围进行限定。图1示出了根...
【技术保护点】
一种等离子体处理装置，包含：a)真空室，包含：管道、处理室、用于将气体引入所述真空室的第一气体输入口，以及用于将气体从所述真空室排出的泵出口；b)包围所述管道的磁芯；c)具有与所述磁芯电连接的输出的射频电源，所述射频电源给所述磁芯供电，由此在所述真空室内形成环形等离子体回路放电；以及d)用于支撑在等离子体处理期间位于所述处理室内的工件的台板。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：W·霍尔伯，R·J·巴斯奈特，
申请(专利权)人：普拉斯玛比利提有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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