一种双波长可调谐半导体激光器制造技术

技术编号:12424474 阅读:66 留言:0更新日期:2015-12-03 10:15
本发明专利技术公开了一种双波长可调谐半导体激光器,该激光器包括有源区、相位区和光栅区;从下往上依次附着有第一缓冲层、有源层和第一覆盖层,第一缓冲层、有源层和第一覆盖层构成了有源区;从下往上依次附着有第二缓冲层、波导层和第二覆盖层,第二缓冲层、波导层和第二覆盖层构成了相位区;从下往上依次附着有第三缓冲层、光栅层和第三覆盖层,第三缓冲层、光栅层和第三覆盖层构成了相位区;在第一覆盖层的上表面设有第一电极,在第二覆盖层的上表面设有第二电极,在第三覆盖层的上表面设有第三电极;有源区的左端面为解理面,光栅区的右端面镀有增透膜。本发明专利技术提供的激光器能够实现双波长的稳定输出,同时波长可调。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于激光
,更具体地,涉及一种双波长可调谐半导体激光器,该激 光器是一种具有双层布拉格光栅的分布式布拉格反射激光器。
技术介绍
随着光通信技术的日益发展,低成本的可调谐半导体激光器在接入网和数据交换 中有着非常大的应用潜力和发展空间。另一方面,双波长激光器由于其在太赫兹产生、光远 端探测和双稳态等方面的独特优势,引起了人们的广泛关注和研究。例如,基于双波长激光 器,利用注入锁定技术可以实现波长和功率的双稳态,从而进一步应用于波长转换、光存储 和光开关等。所以,如果使激光器同时兼具双波长输出和波长可调谐特性,势必会在诸多领 域展现出巨大的应用价值。 为了实现单片集成的双波长激光器,格拉斯哥大学的Francesca Pozzi等人提出 一种侧向親合 DFB 激光器,报道于 "Dual-Wavelength InAlGaAs - InP Laterally Coupled Distributed Feedback Laser',,IEEE Photonics Technology Letters, vol. 18, no. 24, 2006。这种激光器是在传统DFB激光器的基础上,独辟蹊径,将具有不同周期的两组布拉格 光栅刻蚀在波导的两侧,每组光栅对应一个激射波长,从而实现双模激射。但是,由于受DFB 激光器本身特点的限制,无法实现大范围内的波长可调。 2000年,在典型的分布式布拉格反射(DBR)激光器基础上,美国伊利诺伊大学 的S. D Roh等人采用光栅级联的方法,将具有不同周期的布拉格光栅前后级联,通过改变 注入光栅区的电流实现了波长可调的双波长激光器,其结构如附图1所示。相关研究报 道在"Single and Tunable Dual-Wave length Operation of an InGaAs - GaAs Ridge Waveguide Distributed Bragg Reflector Laser',, IEEE Transactions on Photonics Letters,vol. 12,no. 1,2000。采用光栅级联的方法,由于两个激射波长所对应的腔长不同, 会使得后光栅段所对应的激射波长具有较大的损耗,从而导致功率不均衡。此外,将光栅级 联将大大扩展器件的体积,这对于光芯片的高集成化而言,是十分不利的。
技术实现思路
针对现有技术的缺陷,本专利技术的目的在于提供一种双波长可调谐半导体激光器, 旨在解决现有技术中采用光栅级联的方式,由于两个激射波长所对应的腔长不同,会使得 后光栅段所对应的激射波长具有较大的损耗,从而导致功率不均衡的技术问题。 为实现上述目的,本专利技术提供了一种双波长可调谐半导体激光器,该激光器包括 有源区、相位区和光栅区;从下往上依次附着有第一缓冲层、有源层和第一覆盖层,所述第 一缓冲层、所述有源层和所述第一覆盖层构成了所述有源区;从下往上依次附着有第二缓 冲层、波导层和第二覆盖层,所述第二缓冲层、波导层和第二覆盖层构成了所述相位区;从 下往上依次附着有第三缓冲层、光栅层和第三覆盖层,所述第三缓冲层、光栅层和第三覆盖 层构成了所述光栅区;在所述第一覆盖层的上表面设有第一电极,在第二覆盖层的上表面 设有第二电极,在第三覆盖层的上表面设有第三电极;所述有源区的左端面为解理面,所述 光栅区的右端面镀有增透膜。 更进一步地,所述光栅层包括刻蚀在第三覆盖层下表面的第一布拉格光栅和刻蚀 在第三缓冲层上表面的第二布拉格光栅;所述第一布拉格光栅的周期与所述第二布拉格光 栅的周期不同。 更进一步地,所述光栅层的有效折射率大于第三缓冲层的折射率;所述光栅层的 有效折射率大于所述第三覆盖层的折射率。 更进一步地,所述有源层的带隙小于所述波导层的带隙;所述有源层的带隙小于 所述光栅层的带隙。 更进一步地,工作时,通过在所述第一电极中注入电流使得激光器开始工作;通过 改变所述第三电极的注入电流,使得光栅层的两个布拉格反射峰同时发生移动,实现对腔 内纵模的选择,来对激光器的输出波长进行粗调节;通过改变所述第二电极的注入电流,使 得所述波导层的折射率发生改变,整个激光器有效腔长发生改变,腔内的纵模位置发生移 动,来对激光器的输出波长进行细调节。 更进一步地,同一个时刻输出的两个波长之间的间距等于两个光栅的布拉格反射 峰的间距。 通过本专利技术所构思的以上技术方案,与现有技术相比,由于采用上下放置的双层 布拉格光栅结构,可以很好的保证光栅反射谱中具有两个完全相同的反射峰,采用上述光 栅结构,激光器能够实现双波长的稳定输出,同时波长可调。通过对光栅结构参数的优化, 可以进一步精确控制两个反射峰之间的间距;同时,由于光栅上下放置,相比于采用光栅前 后级联的方法,可以大大减小光栅的体积,结构紧凑,利于集成。【附图说明】 图1为
技术介绍
中采用光栅级联技术实现双波长激射的可调谐半导体激光器纵 向截面的结构示意图。 图2是本专利技术实施例纵向截面的结构示意图。 图3是实施例中光栅区采用的双层布拉格光栅的三维图。 图4是实施例中双层布拉格光栅的反射谱。 图5是实施例中改变光栅区电极注入电流得到的波长静态调谐特性图。 图6是实施例中改变相位区电极注入电流得到的波长静态调谐特性图。 其中,1为有源区,2为相位区,3为光栅区,4为有源层,5为波导层,6为光栅层,7 为第一覆盖层,8为第一缓冲层,9为第二覆盖层,10第二缓冲层,11为第三覆盖层,12为第 三缓冲层,13为解理面,14为增透膜,15为第一电极,16为第二电极,17为第三电极。【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对 本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并 不用于限定本专利技术。本专利技术的目的在于提供一种双波长可调谐半导体激光器,它不仅可以 实现双波长激射,还能够实现两个波长的同时调谐,光栅区可采用全息曝光的方法制作,具 有结构紧凑,成本低廉的优点。 本专利技术提供了一种双波长可调谐半导体激光器,附图2是其纵向截面图。所述半 导体激光器包括有源区1、相位区2和光栅区3 ;从下往上依次附着有第一缓冲层8、有源层 4和第一覆盖层7,第一缓冲层8、有源层4和第一覆盖层7构成了有源区1 ;从下往上依次 附着有第二缓冲层10、波导层5和第二覆盖层9,所述第二缓冲层10、波导层5和第二覆盖 层9构成了相位区2 ;从下往上依次附着有第三缓冲层12、光栅层6和第三覆盖层11,第三 缓冲层12、光栅层6和第三覆盖层11构成了相位区2 ;在第一覆盖层7的上表面设有第一 电极15,在第二覆盖层9的上表面设有第二电极16,在第三覆盖层11的上表面设有第三电 极17 ;有源区1的左端面为解理面13,光栅区3的右端面镀有增透膜14。 光栅层6包括两层布拉格光栅,第一布拉格光栅设置在第三缓冲层12的上表面, 第一布拉格光栅的凹槽中填充有与第三缓冲层12材料相同的材料,凸起中填充有与波导 层5材料相同的材料;第二布拉格光栅设置在第三覆盖层11的下表面,且第二布拉格光栅 的凹槽中填充有与第三覆盖层11材料相同的材料,凸起中填充有与波导层5材料相同的材 料。将两本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种双波长可调谐半导体激光器,其特征在于,该激光器包括有源区(1)、相位区(2)和光栅区(3);从下往上依次附着有第一缓冲层(8)、有源层(4)和第一覆盖层(7),所述第一缓冲层(8)、所述有源层(4)和所述第一覆盖层(7)构成了所述有源区(1);从下往上依次附着有第二缓冲层(10)、波导层(5)和第二覆盖层(9),所述第二缓冲层(10)、波导层(5)和第二覆盖层(9)构成了所述相位区(2);从下往上依次附着有第三缓冲层(12)、光栅层(6)和第三覆盖层(11),所述第三缓冲层(12)、光栅层(6)和第三覆盖层(11)构成了所述相位区(2);在所述第一覆盖层(7)的上表面设有第一电极(15),在第二覆盖层(9)的上表面设有第二电极(16),在第三覆盖层(11)的上表面设有第三电极(17);所述有源区(1)的左端面为解理面(13),所述光栅区(3)的右端面镀有增透膜(14)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵航余永林
申请(专利权)人:华中科技大学
类型:发明
国别省市:湖北;42

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