本发明专利技术涉及一种用于监测内窥镜的后处理装置(12)特别是清洁和/或消毒装置的方法，根据所述方法，各后处理操作的一个或更多个处理参数和时间在至少一个后处理装置(12)中的至少一个内窥镜的多个后处理操作期间被记录，并且与相应后处理操作相关联地被存储。本发明专利技术还涉及一种用于监测内窥镜的后处理装置(12)的系统(10)。根据本发明专利技术，针对记录的至少一个处理参数在评价装置(14)中执行记录的至少一个处理参数的趋势分析。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】用于监测内窥镜的后处理装置的方法和系统 说明书 本专利技术涉及用于监测内窥镜（特别是清洁和/或消毒装置）的后处理装置的方 法，根据该方法，各后处理操作的一个或更多个处理参数和时间在至少一个后处理装置中 的至少一个内窥镜的多个后处理操作期间被记录，并且与相应后处理操作相关联地被存 储。本专利技术还涉及包括至少一个后处理装置和至少一个评价装置的用于监测内窥镜的后处 理装置的对应系统。 针对使用过后的内窥镜的后处理设定了高标准，在医学领域中还有其它标准。后 处理一般包括内窥镜的冲洗、消毒以及干燥。一次或两次冲洗或预冲洗周期一般在消毒之 前；存在用干净水进行的漂洗周期和干燥周期。添加清洁剂或分别一种或更多种化学品来 进行冲洗和消毒。这一般发生在自动化后处理装置中。例如，申请人销售制造商名称和型号 命名是"Olympus ETD3"的对应的自动或分别自动化后处理装置，其中，ETD代表"内窥镜热 消毒器"。这个后处理装置配备有不同的后处理程序并且允许对一些柔性或刚性内窥镜同 时进行后处理。它提议用传统使用的化学戊二醛（另选地，基于过乙酸（PAA))进行消毒。 还将活化剂溶液随PAA -起添加。ETD 3还包括UV单元，可用UV单元对漂洗水进行进一步 消毒。 ETD 3具有全面的传感器系统和记录功能。因此，用旋转叶片型流量计分别记载和 记录除了对应时间戳（还有其它的）之外的不同后处理试剂的量（即，水计量、冲洗剂计量 和化学品计量）。ETD 3还具有借助Olympus的EndoID系统进行的兼容内窥镜的基于自动 转发器的检测。用这个系统（还有其它的），记录后处理装置的序列号、经后处理的内窥镜 的类型和序列号、启动后处理操作的操作者的名字和其它处理参数。EndoID系统使得可以 在检测到将经后处理的内窥镜之后自动地设置内窥镜的处理参数。ETD 3还会检漏。为了满足文件记录方面的任何可能的现有要求，在后处理操作之后，可产生报告， 该报告指示后处理操作的所有处理参数是否正确，即，是否处于经校准或预定的参数范围 内，并且指示已得到足够的后处理结果。这个报告可被打印或者例如借助ISDN或LAN连接 被直接发送到内窥镜信息管理系统。此外，EID 3提供了远程维修的选择。 基于本领域的这种状态，本专利技术的目的是改进对内窥镜的后处理装置和内窥镜进 行的监测。 这个目的是通过用于监测内窥镜的后处理装置特别是清洁和/或消毒装置的方 法来解决的，根据该方法，各后处理操作的一个或更多个处理参数以及时间在至少一个后 处理装置中的至少一个内窥镜的多个后处理操作期间被记录，并且与相应后处理操作相关 联地被存储，该方法的进步之处还在于，借助记录的至少一个处理参数在评价装置中执行 所述记录的至少一个处理参数的趋势分析。 除了之前涉及的记录和文件记录外，根据本专利技术如此地执行用众所周知的统计方 法进行进一步数据分析，例如，线性或回归分析，据此，可提早检测后处理装置上升的维修 需要（还有其它的），使得在由于出现未遵照规定的过程参数而导致以不符合规则且不符 合规定的方式执行后处理操作从而导致故障后处理结果之前，可按及时方式采取合适措 施。 在本专利技术的框架内，趋势被理解为是随时间发展的，而且被理解为取决于其它处 理参数是显著的，这例如是随特定后处理程序或随一定操作者而愈来愈多出现。在前一种 情况下，可例如调度维修，即，现场维修或（如有必要）远程维修。在后一种情况下，例如， 可更好地协调雇员的培训需要。 用根据本专利技术的方法，内窥镜的后处理结果的质量以及后处理的效率均以这种方 式提高，因为故障后处理结果可已经在检测到对应趋势时在它们出现之前被避免。 在本专利技术的有利实施方式中，记录后处理装置指示符、操作者指示符、后处理程序 指示符、经后处理至少一个内窥镜的至少一个内窥镜指示符、至少一个后处理试剂指示符、 压力损耗和/或压力损耗速度、待计量的至少一个后处理试剂的至少一个剂量、后处理操 作的开始和/或结束时间、处理持续时间、故障、操作误差和/或误差消息。后处理装置指示 符由此例如是后处理装置的序列号；操作者指示符、名字或个人ID号；后处理程序指示符， 例如，识别后处理程序的程序名称或描述或编号；内窥镜指示符、内窥镜的型号命名和/或 序列号；后处理试剂指示符，例如，化学品名或化学鉴定。当记录和分析这些处理参数中的 一些时，这提高了内窥镜后处理的处理可靠性、质量和效率。 当针对执行一些不同部分操作的后处理操作有利地记录相对于个体部分操作的 部分操作相关处理参数（特别地，部分操作指示符、后处理部分操作的持续时间和/或部分 操作期间要计量的一个或更多个后处理试剂的剂量）时，可以进行受严密监测的特定趋势 分析。部分操作是例如预冲洗周期、冲洗周期、消毒周期、漂洗周期、干燥周期（还有其它操 作），用单独的处理参数执行这些操作中的每个。因此可识别和解决个体部分操作中的维修 相关显著性。 在趋势分析中，记录的至少一个处理参数优选地根据所述后处理操作的相应开始 或结束时间、所述后处理装置指示符、所述后处理程序指示符、部分操作指示符、所述操作 者指示符和/或内窥镜指示符被表现和/或被评价。 时间趋势分析典型地涉及例如计量一种或更多种消毒化学品或其它后处理试剂。 在多个连续的后处理操作中，化学品剂量例如可或多或少在允许范围内连续减小或增大。 每个个体剂量和因此实现的消毒结果因此是遵照规定和不显著的。如果这种趋势是持续的 并且剂量实际上漂移到遵照规则的范围外，则之前将只识别维修需要。根据本专利技术的趋势 分析实际上涵盖了普遍趋势，使得在消毒结果变得不足之前在维修期间可采取对策，或者 反之亦然，使用比所需的多的消毒化学品。 经评价根据其它指示符的记录的处理参数允许识别没有以时间依赖方式出现的 不规则，而是针对个体后处理装置、后处理程序、部分操作、操作者或内窥镜是典型的。在这 个背景下，有利地，通过时间点、后处理装置指示符、操作者指示符、后处理程序指示符、部 分程序指示符和/或至少一个内窥镜指示符过滤针对表现和/或评价记录的数据。因此， 实现详细的趋势分析。 对此的使用示例是在后处理装置中监测配量（dosing)装置的校准。为此，可根据 所需剂量的大小来分析剂量与某个配量装置所需的剂量的偏差。如果这个差异随所需剂量 的增大而上升或下降，则应该调节配量装置的校准。 趋势分析优选地对记录的处理参数（特别地，剂量或处理持续时间）是否随时间 发展来进行分析，使得如果趋势持续，则该参数脱离校准范围或容差范围。由此，如果趋势 分析指示这样的趋势，则在记录的处理参数脱离校准范围或容差范围之前，有利地用信号 通知后处理装置的维修需要。 如果趋势分析表明针对一个操作者（与其它操作者相对照）评价故障的频度、操 作误差和/或误差消息，则还有利地用信号通知操作者的培训需要。 压力损耗和/或压力损耗速度也是重要的处理参数，可通过趋势分析来获取。在 一些后处理装置中，在开始内窥镜后处理之前，执行内窥镜的检漏测试。为此，产生略微过 大的压力并且检查在某个时段内的压力下降。如果压力损耗超过低且可靠的压力损失的限 定阈值，则内窥镜被报告是可渗透的并且没有开始后处理。这样防止在后处理期间湿气到 达内窥镜的敏感部分中。在不本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于监测内窥镜的后处理装置(12)特别是清洁和/或消毒装置的方法，根据所述方法，各后处理操作的一个或更多个处理参数以及时间在至少一个后处理装置(12)中的至少一个内窥镜的多个后处理操作期间被记录，并且与相应后处理操作相关联地被存储，其特征在于，借助记录的至少一个处理参数在评价装置(14)中执行所述记录的至少一个处理参数的趋势分析。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：T·卡尔松，H·泰特，
申请(专利权)人：奥林匹斯冬季和IBE有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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