【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体领域,特别地,涉及一种匀胶机排风装置及匀胶机。
技术介绍
匀胶机是一种利用旋转产生的离心力原理,将胶液均匀甩开,平铺到材料表面的机械装置,应用于各类对于材料表面涂覆的均匀性有严格要求的实验或者制造领域。匀胶时,光刻胶的干燥速度不仅取决于光刻胶的自身性质(挥发性),而且取决于匀胶过程中基片周围的空气状况,因此,减小基片上面空气的流动以及因空气流动引起的紊乱是非常重要的,匀胶过程中,在光刻胶被甩向基片边缘的同时,由于溶剂挥发,光刻胶得以干燥,造成光刻胶膜厚沿径向分布不均匀,而通过调整光刻胶的干燥速度可使整个基片表面光刻胶的膜厚均匀性保持良好。目前匀胶机中的排风装置由于无法调整光刻胶的干燥速度,造成基片表面光刻胶的膜厚均匀性不佳、基片表面变色等缺陷。
技术实现思路
本技术提供了一种匀胶机排风装置,以解决现有匀胶机中的排风装置由于无法调整光刻胶的干燥速度,造成基片表面光刻胶的膜厚均匀性不佳、基片表面变色的技术问题。本技术采用的技术方案如下:—种匀胶机排风装置,包括风机、排风管,风机与排风管相连,匀胶机排风装置还包括至少一根软管和至少一个可调节阀门,其 ...
【技术保护点】
一种匀胶机排风装置,包括风机(1)、排风管(2),所述风机(1)与所述排风管(2)相连,其特征在于,所述匀胶机排风装置还包括至少一根软管(3)和至少一个可调节阀门(4),其中,所述软管(3)的一端与废胶槽(5)底部相通,所述软管(3)的另一端通过所述可调节阀门(4)与所述排风管(2)相通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:李翼,李伟,颜春李,徐根,张诚,周学文,
申请(专利权)人:湖南普照信息材料有限公司,湖南电子信息产业集团有限公司,
类型:新型
国别省市:湖南;43
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