用于铜铝复合排的抛磨装置制造方法及图纸

技术编号:12279514 阅读:99 留言:0更新日期:2015-11-05 14:43
本发明专利技术提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架和电气控制机构,机架上设有多个送进机构,前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构,后端的送进机构之间设有平面抛磨机构,送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构。本发明专利技术在抛磨过程中,采用密闭箱体噪音很小,抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走,不易产生粉尘污染,水流将铜粉带入五级过滤水槽中,过滤后的水可以循环使用,而沉淀在水槽中的铜粉方便回收;可根据工件的不同加工要求,使用不同的加工及其组合,可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨,也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨,工作效率高,操作方便,加工成本低,产品合格率高,便于大批量、连续化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金属材料表面处理领域,具体地说涉及用于铜铝复合排的抛磨装置
技术介绍
目前,在实践生产中,对金属型材、棒材的使用规范中要求金属材料表面光洁、平整、无毛刺,但是一般型材、棒材的加工工艺均为乳制及拉拔,加工后会有乳制痕或拉拔痕,这样需要进行打磨和抛光处理后方可使用。目前生产用于金属材料表面处理的装置主要沿用铝板使用的抛磨机,主要存在以下问题:1)噪音较大;2)其抛磨方式大多为干抛,抛磨过程中产生很多粉尘,尤其是铜粉飞扬在车间中,污染环境,危害工人的身体健康;3)每次抛磨仅能加工一个侧面或平面,属于单工序单面加工,需要多次反复操作才能完成工件的表面处理,抛磨效率低,不适应大批量、连续生产。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述现有的问题,而提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置。本专利技术的技术方案是这样实现的:用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架和电气控制机构,机架上设有多个送进机构,前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构,后端的送进机构之间设有平面抛磨机构,送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构; 优选的,所述的送进机构包括设置在机架上的支架I和限位装置,支架I上设有压辊I和托辊I,压辊I可在支架I上滑动,压辊1、托辊I分别与上万向轴和下万向轴相连,上万向轴、下万向轴均与齿轮箱相连,齿轮箱通过联轴器I与减速电机I相连,限位装置与手轮I相连; 优选的,所述的侧面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱I,密闭箱I上安有控制器I,密闭箱I内的支架II上安有定位轮,定位轮与手轮III相连,支架II两端各安有压辊I1、托辊II和压辊II1、托辊III,支架II上方设有千叶轮,千叶轮一端与螺旋齿轮换向器相连,另一端与密闭箱I外的气缸相连,螺旋齿轮换向器通过联轴器II与电机I相连,千叶轮与手轮II相连; 优选的,所述的平面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱II,密闭箱II上安有控制器II和手轮IV,手轮IV与减速电机II相连,密闭箱II内的支架III上安有压辊IV、压辊V、托辊IV、托辊V、托辊VI和从动辊,从动辊与主动辊通过砂带相连,主动辊通过密闭箱II外的联轴器III与电机II相连;优选的,所述的水循环机构包括与密闭箱1、密闭箱II底部的出水管相连的过滤水槽,过滤水槽与水栗连接,水栗与主水管相连,主水管上的进水管与密闭箱1、密闭箱II相连;优选的,所述的电气控制机构包括电器控制柜、安装在密闭箱II上的控制面板,控制面板包括总控制开关、水栗启动开关、水栗停止开关、气缸启动开关、气缸停止开关、送进启动开关、送进停止开关、平面抛磨机构启动开关、平面抛磨机构停止开关、侧面抛磨机构启动开关、侧面抛磨机构停止开关; 优选的,所述的送进机构包含一组及以上的子送进机构; 优选的,所述的侧面抛磨机构包含一组及以上的子侧面抛磨机构; 优选的,所述的平面抛磨机构包含一组及以上的子平面抛磨机构; 优选的,所述的过滤水槽为五级过滤水槽。本专利技术的有益效果是: 1、在抛磨过程中,采用密闭箱体噪音很小,抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走,不易产生粉尘污染,保护工人的身体健康,同时水流将铜粉带入五级过滤水槽中,过滤后的水可以循环使用,而沉淀在水槽中的铜粉方便回收; 2、具有多功能性,可根据工件的不同加工要求,使用不同的加工及其组合,可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨,也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨,降低不必要的能耗,工作效率高,操作方便,加工成本低,产品合格率高,便于大批量、连续化生产。【附图说明】图1是本专利技术的俯视结构示意图; 图2是本专利技术的子送进机构俯视结构示意图; 图3是本专利技术的子侧面抛磨机构俯视结构示意图; 图4是本专利技术的子平面抛磨机构主视结构示意图; 图5为本专利技术图4的A-A向础面不意图; 图6为本专利技术图5的B-B向剖面示意图; 图7是本专利技术的电气控制机构的控制面板结构示意图。零件说明:1、机架,2、送进机构,201、减速电机I,202、联轴器I,203、齿轮箱,204、上万向轴,205、限位装置,206、压辊I,207、手轮I,208、升降气缸,209、支架I,3、侧面抛磨机构,301、电机I,302、联轴器II,303、螺旋齿轮换向器,304、千叶轮,305、手轮II,306、气缸,307、支架 II,308、定位轮,309、手轮III,310、压辊 II,311、压辊III,312、控制器I,313、密闭箱I,4、平面抛磨机构,401、电机11,402、联轴器111,403、主动辊,404、支架III,405、压辊 IV,406、压辊 V,407、托辊 IV,408、托辊 V,409、托辊VI,410、从动辊,411、砂带,412、密闭箱II,413、手轮IV,414、减速电机II,415、控制器II,5、水循环机构,501、水栗,502、主水管,503、过滤水槽,6、电器控制机构,601、控制面板,602、总控制开关,603、水栗启动开关,604、水栗停止开关,605、气缸启动开关,606、气缸停止开关,607、送进启动开关,608、送进停止开关,609、平面抛磨机构启动开关,610、平面抛磨机构停止开关,611、侧面抛磨机构启动开关,612、侧面抛磨机构启动开关。【具体实施方式】为了更好地理解与实施,下面结合附图对本专利技术作进一步描述:如图1和图7所示,用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架I和电气控制机构6,机架I上设有7组送进机构2,前端3组送进机构2之间均设有2组侧面抛磨机构3,后端4组送进机构2之间均设有I组平面抛磨机构4,送进机构2、侧面抛磨机构3、平面抛磨机构4之间设有水循环机构5。如图2所示,送进机构2由7组子送进机构组成,除前端第一组子送进机构外,每组子送进机构的结构完全相同,包括设置在机架I上的支架I 209和限位装置205,支架I 209上设有压辊I 206和托辊I,压辊I 206可在I 209上滑动,压辊I 206、托辊I分别与上万向轴204和下万向轴相连,上万向轴204、下万向轴均与齿轮箱203相连,齿轮箱203通过联轴器I 202与减速电机I 201相连,限位装置205与手轮I 207相连;其中,第一组子送进机构(如图1所示)处在本抛磨装置的最前端,其机构与其他子送进机构相比,增加两个齿轮、两个万向轴、一个压辊、一个托辊和两个升降气缸,所增加部件的主要目的是为增加工件的传动力。送进机构2的工作过程是这样实现的:减速电机I 201带动联轴器I 202旋转,联轴器I 202带动齿轮箱203中的齿轮旋转,齿轮带动上万向轴204和下万向轴旋转,上万向轴204带动压辊I 206旋转,下万向轴带动下托辊I旋转,从而使工件实现送进运动。压辊I 206和托辊I使用橡胶制造,托辊I固定到支架I 209上,压辊I 206可在支架I 209上滑动,由升降气缸208控制,利用升降气缸208控制压辊I 206,成本低,使用方便。限位装置205可以通过手轮I 207对其通道宽度进行调节,使其满足不同宽度工件的加工要求,同时能够使工件保持在同一传送主轴上。如图3所示,侧面抛磨机构3由4组子侧面抛磨机构组成,每个子侧面抛磨机构的结构完全相同,包括安装在机架I上的密闭箱I 本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架(1)和电气控制机构(6),其特征在于机架(1)上设有多个送进机构(2),前端的送进机构(2)之间设有侧面抛磨机构(3),后端的送进机构(2)之间设有平面抛磨机构(4),送进机构(2)、侧面抛磨机构(3)、平面抛磨机构(4)之间设有水循环机构(5)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:董晓文王连忠兰占军
申请(专利权)人:烟台孚信达双金属股份有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1