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人造三氧化二铝棒高压提纯装置制造方法及图纸

技术编号:12207289 阅读:61 留言:0更新日期:2015-10-15 11:24
本实用新型专利技术涉及铝棒提纯技术领域,具体涉及人造三氧化二铝棒高压提纯装置。所述的炉室的内部设置有铝棒,铝棒的两端设置有蒸镀金属电极,蒸镀金属电极通过导线连接到高压电源上,且蒸镀金属电极与高压电源之间设置有电流表;所述的炉室的内部设置有温度传感器,温度传感器与外置的检测装置连接。它提高GaN基器件发光效率,大大降低了人造三氧化二铝棒蚀隧道密度,提高LED亮度10%以上,减少蓝宝石衬底腐蚀隧道密度≤50条/Cm2。

【技术实现步骤摘要】

: 本技术涉及铝棒提纯
,具体涉及人造三氧化二铝棒高压提纯装置
技术介绍
: 人造三氧化二铝棒沿C面生产成本相对较低,工艺技术比较成熟,物理、化学性能 稳定,在C面上外延GaN工艺技术成熟稳定。目前LED衬底及图形化衬底大部分都是在人 造三氧化二铝的C面上外延GaN膜的。 人造三氧化二铝棒多是用泡发生产,其生产条件决定了几乎所有的人造三氧化二 铝棒都含有大量的填隙原子和杂质原子,位错密度大,腐蚀隧道密度1〇〇〇条/Cm2左右,应 力差异性比较大等缺陷。由于GaN是在人造三氧化二铝棒C轴外延的,而C轴又是GaN的极 性轴,导致GaN基器件有源层量子阱中出现很强的内建电场,直接导致发光效率降低30% 左右。有源层量子阱中出现很强的内建电场主要是由于GaN材料中自发极化较强造成的, GaN材料中自发极化越强内建电场强度越强,GaN基器件发光效率越低,而GaN材料中自发 极化较强,主要人造三氧化二铝棒C轴中的填隙原子和杂质原子较多导致的。 使用目前的人造三氧化二铝棒经过切、磨、抛后加工蓝宝石衬底片,存在棒和棒之 间应力差异比较大,导致良率波动较大,TTV和翘曲度不良较多。 由于人类对节能和环保要求越来越高,对GaN基器件发光LED寄予厚望,同时对 GaN基器件发光LED要求亮度要高、功耗要低、使用寿命要长、价格要便宜等。 为了提尚LED的发光效率,国内外都在米用很多种方法进行实验,如在人造二氧 化二铝棒R面和M面进行GaN外延,存在人造三氧化二铝棒利用率低,长晶难度大,外延技 术还在实验中,同时成本也较高。 为了提高LED的发光效率,也有人实验在人造三氧化二铝衬底上先长上一层A1N, 然后再外延GaN膜,目前工艺技术还在实验中,但投资较大,效率不高。
技术实现思路
: 本技术的目的是提供一种可显著提高GaN基器件发光效率,大大降低了人造 三氧化二铝棒蚀隧道密度,提高LED亮度10 %以上,减少蓝宝石衬底腐蚀隧道密度< 50条 /Cm2〇 为了解决
技术介绍
所存在的问题,本技术是采用以下技术方案:它包含炉室、 铝棒、蒸镀金属电极、高压电源、电流表、温度传感器、检测装置;所述的炉室的内部设置有 铝棒,铝棒的两端设置有蒸镀金属电极,蒸镀金属电极通过导线导线连接到高压电源上,且 蒸镀金属电极与高压电源之间设置有电流表;所述的炉室的内部设置有温度传感器,温度 传感器与外置的检测装置连接。 本技术的工作原理:先对三氧化二铝棒的C轴两端面上蒸镀电极,再通过电 极对三氧化二错棒施加电场,,其特征在于:蒸镀电极时,先蒸镀金属电极Ni,金属Ni的厚 度为50-100A之间,在再Ni电极上面蒸镀Au电极,Au厚度1200-1500A。 其中,加载的电场强度为3400-3600V/Cm,将三氧化二铝棒所在的环境温度以 25-30°C/小时的速度升到600 ± 10 °C恒温一定时间,待电流降到某一规定值后,继续 以25-30°C/小时的速度升到900 ± 10 °C恒温一定时间,待电流降到另外一值时,再以 25-30°C/小时的速度降至22°C以下。关闭电源取出三氧化二铝棒,切去带电极部分。 加载电场前,将蒸镀电极的人造三氧化二铝棒置于高温退火炉中,人造三氧化二 铝棒所在环境温度是通过调整高温退火炉温度实现。 本技术的有益效果:它提高GaN基器件发光效率,大大降低了人造三氧化二 铝棒蚀隧道密度,提高LED亮度10%以上,减少蓝宝石衬底腐蚀隧道密度< 50条/Cm2。【附图说明】: 图1为本技术的工作原理图。 附图标记:炉室1、铝棒2、蒸镀金属电极3、高压电源4、电流表5、温度传感器6、检 测装置7。【具体实施方式】: 下面结合附图,对本技术作详细的说明。 为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体 实施方式,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的【具体实施方式】仅用 以解释本技术,并不用于限定本技术。 参看图1,本【具体实施方式】采用以下技术方案:它包含炉室1、铝棒2、蒸镀金属电 极3、高压电源4、电流表5、温度传感器6、检测装置7 ;所述的炉室1的内部设置有铝棒2, 铝棒2的两端设置有蒸镀金属电极3,蒸镀金属电极3通过导线导线连接到高压电源4上, 且蒸镀金属电极3与高压电源4之间设置有电流表5 ;所述的炉室1的内部设置有温度传 感器6,温度传感器6与外置的检测装置7连接。 本【具体实施方式】的操作方法:取直径:50mm长:120mm人造三氧化二铝棒,蒸镀电 极,先蒸镀金属电极附:50人,再蒸镀电极八11 :12〇〇人。 先将蒸镀将蒸镀电极的人造三氧化二铝棒置于高温退火炉中,人造三氧化二铝棒 上下两端面分别压薄铂片和高温陶瓷棒,铂片和电极亲密接触,铂丝和铂片相连,铂丝与电 源线相连,加电场其强度为3400V/Cm,将高温退火炉温度以30°C/小时的速度升到600°C 恒温一定时间,待电流降到某一规定值后,继续以30°C/小时的速度升到900°C恒温一定时 间,待电流降到另外一值时,再以30°C/小时的速度降至22°C以下。关闭电源取出三氧化 二铝棒,切去带电极部分。 以上所述,仅用以说明本技术的技术方案而非限制,本领域普通技术人员对 本技术的技术方案所做的其它修改或者等同替换,只要不脱离本技术技术方案的 精神和范围,均应涵盖在本技术的权利要求范围当中。【主权项】1.人造三氧化二铝棒高压提纯装置,其特征在于:它包含炉室(I)、铝棒(2)、蒸镀金属 电极(3)、高压电源(4)、电流表(5)、温度传感器(6)、检测装置(7);所述的炉室⑴的内部 设置有铝棒(2),铝棒(2)的两端设置有蒸镀金属电极(3),蒸镀金属电极(3)通过导线导 线连接到高压电源(4)上,且蒸镀金属电极(3)与高压电源(4)之间设置有电流表(5);所 述的炉室(1)的内部设置有温度传感器(6),温度传感器(6)与外置的检测装置(7)连接。【专利摘要】本技术涉及铝棒提纯
,具体涉及人造三氧化二铝棒高压提纯装置。所述的炉室的内部设置有铝棒,铝棒的两端设置有蒸镀金属电极,蒸镀金属电极通过导线连接到高压电源上,且蒸镀金属电极与高压电源之间设置有电流表;所述的炉室的内部设置有温度传感器,温度传感器与外置的检测装置连接。它提高GaN基器件发光效率,大大降低了人造三氧化二铝棒蚀隧道密度,提高LED亮度10%以上,减少蓝宝石衬底腐蚀隧道密度≤50条/Cm2。【IPC分类】C30B29/40, H01L33/00, C30B25/18【公开号】CN204706580【申请号】CN201520444508【专利技术人】赵风雨 【申请人】赵风雨【公开日】2015年10月14日【申请日】2015年6月26日本文档来自技高网
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【技术保护点】
人造三氧化二铝棒高压提纯装置,其特征在于:它包含炉室(1)、铝棒(2)、蒸镀金属电极(3)、高压电源(4)、电流表(5)、温度传感器(6)、检测装置(7);所述的炉室(1)的内部设置有铝棒(2),铝棒(2)的两端设置有蒸镀金属电极(3),蒸镀金属电极(3)通过导线导线连接到高压电源(4)上,且蒸镀金属电极(3)与高压电源(4)之间设置有电流表(5);所述的炉室(1)的内部设置有温度传感器(6),温度传感器(6)与外置的检测装置(7)连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵风雨
申请(专利权)人:赵风雨
类型:新型
国别省市:河南;41

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