一种太赫兹宽带随机表面制造技术

本实用新型专利技术公开了一种太赫兹宽带随机表面，包括金属贴片层、介质层和金属地板层；所述介质层位于金属贴片层和金属地板层之间，介质层是聚酰亚胺或者其他有机高分子聚合物介质材料，厚度为微米量级；所述金属地板层膜层厚度为200纳米及以上，使入射波不能透射；所述金属贴片层在介质层的上表面，其基本单元有井字形结构和回字形结构两种。在较宽频带内归一化反射相位可以覆盖0～360°角度。整个阵列将不同反射相位的单元随机排列或经过算法优化而成。本实用新型专利技术具有易于设计、易于加工、宽频带等优点，可在较宽频带内有效缩减二维金属目标体在后向散射主要方向上的散射强度。本实用新型专利技术是单层结构，可通过标准光刻技术进行加工制作，在太赫兹应用中有重要的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及新型人工材料领域，具体涉及一种太赫兹宽带随机表面。
技术介绍
新型人工电磁材料是一种人工复合结构，由若干亚波长单元按照周期或准周期排列组成，具有自然界媒质所不具备的电磁性质。通过改变单元结构及其空间排列来改变电磁波传播路径上空间的电磁特性，从而控制电磁波的传播。新型人工电磁材料超表面属于新型人工电磁材料领域，特点是仅需很薄的厚度就能完成对电磁波传播的控制。
技术实现思路
技术问题:本技术的目的是提供一种结构简单，易于制作，能有效的实现宽带，大角度范围入射的低散射随机表面。通过对基本单元结构尺寸参数的调整，实现对单元谐振频率的微调，入射波的反射相位也相应改变。通过在阵列表面的不同位置，选取不同反射相位的单元，可以让整个阵列表面对入射波形成一种类似漫反射的效果，让能量向不同的方向反射，从而减少主散射方向上的散射能量。技术方案:为解决上述问题，本文技术了一种太赫兹宽带随机表面，包括若干个具有不同贴片尺寸的单元阵，每个单元阵由若干个相同的谐振单元组成；所述谐振单元包括金属贴片层、介质层和金属地板层，所述介质层位于金属贴片层和金属地板层之间；所述谐振单元有两种结构:第一种井字形单元结构，是井字形的金属环带包围一个正方形的金属片；第二种回字形单元结构，是口字形的金属环带包围一个正方形的金属片。进一步的，第一种井字形单元结构:单元周期为B1= 100 μ m，介质层厚度为t =30 μ m，井字形金属环带的线宽为(I1= 5 μ m，井字的枝节长度为b工，井字形金属环带与中心金属方块的间隔为gi= 5 μπι ;第二种回字形单元结构:单元周期为a 2= 100 μm，介质层厚度为t = 30 μπι，回字形金属环带的线宽为d2= 5 μπι,中心金属方块的边长为b 2，回字形金属环带与中心方块金属的间隔为g2= 5 μπι ;所述b丨取值从5 μπι到20 ym，b 2取值从12 μπι到21 μ m,通过bjP b 2在规定范围内的变化取值形成若干个尺寸不等的单元阵，若干个尺寸不等的单元阵的反射相位的变化范围在归一化之后能够覆盖O?360°的范围。进一步的，所述介质层的材料为有机高分子聚合物介质材料，厚度为微米量级。进一步的，所述介质层的材料为聚酰亚胺。进一步的，所述金属地板层的膜层厚度为200-250纳米。使电磁波无法透射。本技术单元结构有井字形和回字形两种。这两种单元进行结构尺寸微调时的反射相位归一化到O?360度后，能够完全覆盖O?360度的变化范围，从而可以完美地模拟自然界中漫反射的情况，将入射波反射到任意的方向。为了使反射波的能量最均匀地向各个方向反射，阵列中不同反射相位单元阵的排列方式可以使用遗传算法进行优化。其中:b#Pb2值的确定方法:首先通过软件生成一个二维随机矩阵，二维随机矩阵单元的取值范围为O到360内的整数值，该二维随机矩阵单元代表了随机表面每个单元阵的相位值；然后，利用相位和尺寸bKb22间的数值关系，通过单元阵相位的二维随机矩阵得到随机表面单元阵的尺寸矩阵，即bKb2的取值矩阵。本技术调整谐振单元参数，可控制随机表面工作在除太赫兹波段以外的其他频段。本技术若干个具有不同贴片尺寸的单元阵组成阵列，且若干个单元阵的排列方式为随机排列，或者是通过粒子群算法进行优化。使反射波的能量最均匀地向各个方向反射。有益效果:与现有技术相比，本技术的优势:1、本技术制作简单，加工方便，考虑到加工精度问题，采用了两种单元结构，使反射相位完全覆盖O?360度变化范围。仅用一层结构，可以进一步实现共形等特殊目标，同时避免了多层结构的加工误差。2、本技术利用多谐振结构拓宽了工作频带，单元的随机排布制造出类似漫反射的效果，散射波干涉相消，可以在较宽的带宽的情况下显著降低后向散射主要散射方向上的强度，工作的环境要求较低，适应能力强。3、本技术不仅能降低正入射电磁波的后向散射强度，在电磁波以较大角度斜入射时，仍具有显著的抑制作用。这一特点使得本技术具有更好的隐身作用，能更好地适应实际应用。【附图说明】图1a随机表面的示意图。图1b是井字形单元结构的示意图。图1c是回字形单元结构的示意图。图2a井字形单元结构在中心频率的反射相位随井字的枝节长度b/变化的曲线。图2b回字形单元结构在中心频率的反射相位随中心金属方块的边长b2变化的曲线。图2a阴影部分是受目前工艺限制，无法加工的尺寸，用图2b的阴影部分代替。图3a 在 S1= 100 Um^b1= 8 μπι, g != 5 μπι, d != 5 μπι 时井字形结构的反射幅度和相位随频率的变化曲线。图3b在a2= 100 μ m, b 2= 20 μ m, g 2= 5 μ m，d 2= 5 μ m时回字形结构的反射幅度和相位随频率的变化曲线。图3c是井字形结构和回字形结构谐振时的电流示意图。图4a井字形结构在不同入射角度时反射相位随频率变化的曲线。图4b回字形结构在不同入射角度时反射相位随频率变化的曲线。图5a入射波垂直入射时，反射系数的仿真结果。纵坐标为I的曲线是与随机表面等尺寸的金属平板的反射系数，纵坐标接近O的曲线是随机表面的反射系数。图5b入射波垂直入射时，反射系数的实验结果。纵坐标为I的曲线是与随机表面等尺寸的金属平板的反射系数，纵坐标接近O的曲线是金属结构的反射系数。图6 (a-c)入射波垂直入射到随机表面上时，随机表面分别在1，1.4和1.7THz时的三维散射方向图。图6(d-f)入射波垂直入射到随机表面上时，随机表面分别在1，1.4和1.7THz时在xoy平面的散射方向图。图6(g_i)入射波垂直入射到与随机表面等大小的金属平板上时，随机表面分别在I，1.4和，1.7THz时的散射方向图。图6(j-l)入射波垂直入射到与随机表面等大小的金属平板上时，随机表面分别在1，1.4和1.7THZ时在xoy平面的散射方向图。图7随机表面样品实物图和加工流程示意图。图8对比金属板和随机表面分别在20°，30。，40。，50。，60。，70。，80。的散射幅度随频率变化的曲线。图8a入射波角度为20°，图8b入射波角度为30°，图8c入射波角度为40°。【具体实施方式】下面结合附图对本技术做进一步的说明。如图1a所示，一种太赫兹宽带随机表面，包括若干个具有不同贴片尺寸的单元阵，每个单元阵由若干个形状相同的谐振单元组成；所述谐振单元包括金属贴片层、介质层和金属地板层，所述介质层位于金属贴片层和金属地板层之间；所述谐振单元有两种结构:第一种井字形单元结构，是井字形的金属环带包围一个正方形的金属片；第二种回字形单元结构，是口字形的金属环带包围一个正方形的金属片。图1b是第一种井字形单元结构:单元周期为S1= 100 μπι，介质层厚度为t =30 μ m，井字形金属环带的线宽为(I1= 5 μ m，井字的枝节长度为b工，井当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太赫兹宽带随机表面，其特征在于：包括若干个具有不同贴片尺寸的单元阵，每个单元阵由若干个相同的谐振单元组成；所述谐振单元包括金属贴片层、介质层和金属地板层，所述介质层位于金属贴片层和金属地板层之间；所述谐振单元有两种结构：第一种井字形单元结构，是井字形的金属环带包围一个正方形的金属片；第二种回字形单元结构，是口字形的金属环带包围一个正方形的金属片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：程强，董荻莎，赵捷，陈洁，高丽华，王科，崔铁军，
申请(专利权)人：东南大学，
类型：新型
国别省市：江苏;32