本实用新型专利技术涉及一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础。本实用新型专利技术的目的是通过联合设计，从而实现在保证对软弱缓倾角错动带的截渗效果的基础上，达到减少坝基洞室数量、加快工程进度、节省工程投资的目的。本实用新型专利技术的技术方案是：一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，在大坝坝顶以下的基岩内、不同高程分布多条软弱缓倾角错动带，在所述软弱缓倾角错动带上布置帷幕洞和帷幕洞兼截渗洞，各层帷幕洞之间或帷幕洞与帷幕洞兼截渗洞之间通过灌浆帷幕连接，灌浆帷幕的下端位于下层洞上游侧5～10m范围内并通过下层洞的水平搭接帷幕进行连接。本实用新型专利技术适用于大坝基础存在多条可能构成渗漏通道的软弱缓倾角错动带。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及水利水电工程，尤其是一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础。适用于大坝基础存在多条可能构成渗漏通道的软弱缓倾角错动带。
技术介绍
随着国民经济的发展，我国正在大量修建水利水电工程，大坝为枢纽工程的挡水建筑物，在设计过程中为加强基础渗流的处理，通常在大坝基础布置多层帷幕灌浆洞，通过各层帷幕灌浆形成基础帷幕阻挡基础渗流；若基础存在多条规模较大的软弱缓倾角错动带，帷幕灌浆对于规模较大的软弱缓倾角错动带封闭效果较差，在高水头的作用下仍可能沿错动带存在较大的渗流量，给大坝的永久运行带来安全隐患。现有技术的处理方式如图1所示，遇到上述存在规模较大的软弱缓倾角错动带的岩质基础，通常会采用在基础帷幕轴线上的错动带5上布置截渗洞10的设计，并在上层帷幕洞6 — I中钻帷幕灌浆孔穿过截渗洞的处理方法；上述方法需保证帷幕钻孔穿过截渗洞、对钻孔的精度要求极高，且若错动带层数较多，坝基内部需布置的截渗洞亦较多，相应增加洞挖及混凝土回填工程量，洞挖爆破会造成周边岩体的松弛从而影响建基面岩体完整性、增加帷幕灌浆难度。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:提供一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，旨在通过联合设计，从而实现在保证对软弱缓倾角错动带的截渗效果的基础上，达到减少坝基洞室数量、加快工程进度、节省工程投资的目的。本技术所采用的技术方案是:一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，在大坝坝顶以下的基岩内、不同高程分布多条软弱缓倾角错动带，其特征在于:在所述软弱缓倾角错动带上布置帷幕洞和帷幕洞兼截渗洞，各层帷幕洞之间或帷幕洞与帷幕洞兼截渗洞之间通过灌浆帷幕连接，灌浆帷幕的下端位于下层洞上游侧5?1m范围内并通过下层洞的水平搭接帷幕进行连接。所述帷幕洞兼截渗洞的衬砌厚度为I?1.5m。上游侧开挖洞底与软弱缓倾角错动带的距离控制在1.5?2.0m之间。本技术的有益效果是:通过帷幕洞与截渗洞的结合，可以减少含多条软弱缓倾角错动带大坝岩质基础的截渗洞数量，从而减少洞挖爆破对基础的松弛影响，增加坝基的整体性；将帷幕洞兼作为截渗洞布置在灌浆帷幕下游侧，可对软弱缓倾角错动带形成双重截渗保护(灌浆帷幕+帷幕兼截渗洞)。通过将坝基帷幕洞兼作截渗洞的联合设计，保证了坝基软弱缓倾角错动带的截渗效果，并有效减少坝基内洞室数量从而加快工程进度、节省工程投资，本技术可以大量的应用于存在多条软弱缓倾错动带的水利水电工程坝基截渗的设计中。【附图说明】图1是本技术
技术介绍
的结构示意图。图2是本技术帷幕(截渗)洞沿坝基帷幕线展布图。图3是本技术帷幕(截渗)洞沿坝基剖面图(A-A剖面)。图4是本技术帷幕(截渗)洞典型断面图。【具体实施方式】如图2所示，本实施例含多条错动带的大坝基础包括原地面线1、大坝基础面2、大坝坝顶3和大坝横缝4，在大坝坝顶3以下的基岩内、不同高程分布有三条软弱缓倾角错动带5。本实施例在坝基布置三条帷幕洞6 -1和软弱缓倾角错动带5上布置三条帷幕洞兼截渗洞6 — 2。如图3所示，各层帷幕洞6 -1之间或帷幕洞6 -1与帷幕洞兼截渗洞6 — 2之间通过灌浆帷幕7连接，灌浆帷幕7从上层洞的洞底一直延伸到下层洞的上游侧5?1m范围内，灌浆帷幕7的底部再通过下层洞的水平搭接帷幕8与下层洞搭接。如图4所示，所述帷幕洞6 -1和帷幕洞兼截渗洞6 - 2均采用C30混凝土衬砌，其中帷幕洞兼截渗洞6 - 2的衬砌厚度为I?1.5m(加厚衬砌提高截渗渗径，保证截渗效果)，其余帷幕洞6 — I衬砌厚度为0.5m。帷幕洞兼截渗洞6 - 2除了采用标号为C30、抗渗等级为WlO的二级配混凝土之夕卜，上游侧开挖洞底与软弱缓倾角错动带的距离还应控制在1.5?2.0m之间，以保证衬砌混凝土的截渗渗径长度。【主权项】1.一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，在大坝坝顶(3)以下的基岩内、不同高程分布多条软弱缓倾角错动带(5)，其特征在于:在所述软弱缓倾角错动带(5)上布置帷幕洞(6 -1)和帷幕洞兼截渗洞(6 - 2)，各层帷幕洞(6 -1)之间或帷幕洞(6 -1)与帷幕洞兼截渗洞(6 - 2)之间通过灌浆帷幕(7)连接，灌浆帷幕(7)的下端位于下层洞上游侧5?1m范围内并通过下层洞的水平搭接帷幕(8)进行连接。2.根据权利要求1所述的帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，其特征在于:所述帷幕洞兼截渗洞(6 — 2)的衬砌厚度为I?1.5m。3.根据权利要求1或2所述的帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，其特征在于:上游侧开挖洞底与软弱缓倾角错动带的距离控制在1.5?2.0m之间。【专利摘要】本技术涉及一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础。本技术的目的是通过联合设计，从而实现在保证对软弱缓倾角错动带的截渗效果的基础上，达到减少坝基洞室数量、加快工程进度、节省工程投资的目的。本技术的技术方案是：一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，在大坝坝顶以下的基岩内、不同高程分布多条软弱缓倾角错动带，在所述软弱缓倾角错动带上布置帷幕洞和帷幕洞兼截渗洞，各层帷幕洞之间或帷幕洞与帷幕洞兼截渗洞之间通过灌浆帷幕连接，灌浆帷幕的下端位于下层洞上游侧5～10m范围内并通过下层洞的水平搭接帷幕进行连接。本技术适用于大坝基础存在多条可能构成渗漏通道的软弱缓倾角错动带。【IPC分类】E02D27/40【公开号】CN204676578【申请号】CN201520230733【专利技术人】张伟狄, 徐建荣, 吴关叶, 何世海, 周垂一, 何明杰, 祝青, 唐鸣发, 石安池, 王建新 【申请人】中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司【公开日】2015年9月30日【申请日】2015年4月16日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种帷幕洞与截渗洞联合保护的含多条错动带的大坝基础，在大坝坝顶(3)以下的基岩内、不同高程分布多条软弱缓倾角错动带(5)，其特征在于：在所述软弱缓倾角错动带(5)上布置帷幕洞(6－1)和帷幕洞兼截渗洞(6－2)，各层帷幕洞(6－1)之间或帷幕洞(6－1)与帷幕洞兼截渗洞(6－2)之间通过灌浆帷幕(7)连接，灌浆帷幕(7)的下端位于下层洞上游侧5～10m范围内并通过下层洞的水平搭接帷幕(8)进行连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张伟狄，徐建荣，吴关叶，何世海，周垂一，何明杰，祝青，唐鸣发，石安池，王建新，
申请(专利权)人：中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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