本发明专利技术提供透射率和光学特性良好的光学补偿层叠膜。该光学补偿层叠膜包括显示出负的单轴各向异性的第一光学补偿膜和显示出正的单轴各向异性的第二光学补偿膜，所述第一光学补偿膜由包含重复单元(1A)和/或重复单元(1B)的聚酰亚胺构成。(0≤m、n≤1，m+n＝1。m≠0时，R1和R3是碳数4～27的4价基团，R2是碳数4～51的2价基团。m＝0时，R2是反-1,4-二亚甲基环己烷基或双环[2,2,1]亚庚基，R3是碳数4～27的4价基团）。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学补偿层叠膜，其包括显示出负的单轴各向异性的第一光学补 偿膜和显示出正的单轴各向异性的第二光学补偿膜。 本专利技术还涉及使用上述光学补偿层叠膜的电极基板、液晶显示装置用基板及液晶 显示装置。
技术介绍
在液晶装置中，有些包括具有双折射性、用于控制光的相位的光学补偿膜（也称 为相位差膜）。上述光学补偿膜通常与偏振膜同样地安装在液晶晶胞的外部来使用。 与之相对，提出了不使用安装在外部的膜、在液晶晶胞的内部具有显示出与光学 补偿膜同等的光学特性的膜的形态。藉此，可使整个液晶显示装置薄型化。例如，专利文献1中记载了一种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板是在玻璃或 彩色滤光片上层叠起到取向膜的作用的显示出负的单轴各向异性的光学补偿膜（以下也 称为负C片）和显示出正的单轴各向异性的光学补偿膜（以下也称为正A片）而得的基板。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本专利特开2010-230823号公报 专利文献2 :日本专利第4237251号公报 专利文献3 :日本专利第3817604号公报 专利文献4 :日本专利第5015070号公报 专利文献5 :日本专利第5092426号公报 专利文献6 :国际公开第2010/113412号 专利文献7 :日本专利第5268980号公报 专利文献8 :国际公开第2010/100874号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题 然而，专利文献1中关于光学补偿膜所使用的材料并未充分公开。特别是作为显 示出负的单轴各向异性的光学补偿膜的材料，仅具体记载了聚酯树脂，作为显示装置未能 充分实现合适的透射率。 本专利技术的目的是提供一种光学补偿层叠膜，该光学补偿层叠膜包括显示出负的单 轴各向异性的光学补偿膜（负C片）和显示出正的单轴各向异性的光学补偿膜（正A片）， 透射率和光学特性良好。 本专利技术的目的是提供一种光学特性良好、能够薄型化和低成本化的电极基板、液 晶显不装置用基板及液晶显不装置。 解决技术问题所采用的技术方案 本专利技术提供具有下述~的构成的光学补偿层叠膜、电极基板、液晶显示 装置用基板及液晶显示装置。 -种光学补偿层叠膜，其包括显示出负的单轴各向异性的第一光学补偿膜和 显示出正的单轴各向异性的第二光学补偿膜，其特征在于， 所述第一光学补偿膜由包含下式（1A)表示的重复单元和/或下式（1B)表示的 重复单元的至少一种聚酰亚胺构成，膜厚在5 ym以下，厚度方向的双折射率N为0. 02~ 0. 20,平均透射率在85%以上， 所述第二光学补偿膜由包含至少一种光聚合性液晶化合物的光聚合性液晶组合 物的光固化物构成，膜厚在5 ym以下； (上式中，各符号表示以下的含义： m和n是上式（1A)表示的重复单元和上式（1B)表示的重复单元的组成比； m和n满足 l、0<n< 1以及m+n=1 ; m辛0且n辛0时，聚酰亚胺是包含由上式（1A)构成的嵌段和由上式（1B)表示的 重复单元构成的嵌段的嵌段聚酰亚胺； m辛 0 时， R1和R 3分别独立地是碳数4~27的4价基团，并且是脂肪族基团、单环式脂肪族 基团、稠合多环式脂肪族基团、单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团，或者是环式脂 肪族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式脂肪族基团，或者是芳香族基 团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团， R2是碳数4~51的2价基团，并且是脂肪族基团、单环式脂肪族基团、稠合多环 式脂肪族基团、单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团，或者是环式脂肪族基团直接 或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式脂肪族基团，或者是芳香族基团直接或通过 桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团，其中所述单环式脂肪族基团不包括 1，4-亚环己基； m= 0时， R2是反-1，4-二亚甲基环己烷基或双环亚庚基， R3是碳数4~27的4价基团，并且是单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团， 或者是芳香族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团。） 所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，所述聚酰亚胺是所述式（1B)表示的 重复单元的比例在50质量％以上的至少一种聚酰亚胺。 或所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，R1和R 3均是从芳香族四羧酸 二酐或脂环族四羧酸二酐中除去了 2价酐残基-C0-0-C0-而得的4价基团。 ~中任一项所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，m辛0时，R2是 反-1，4-二亚甲基环己烷基或双环亚庚基。 ~中任一项所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，所述聚酰亚胺是 m乒0且n乒0的嵌段聚酰亚胺。 ~中任一项所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，所述第一光学补偿 膜的表面实施过摩擦处理，以与该第一光学补偿膜的实施过摩擦处理的面接触的方式层叠 有所述第二光学补偿膜。 ~中任一项所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，所述第二光学补偿 膜的面内延迟Re为40~60nm。 ~中任一项所述的光学补偿层叠膜，其特征在于，所述第二光学补偿 膜由包含下式（B4-1)表示的光聚合性液晶化合物的光聚合性液晶组合物的光固化物构 成。 一种电极基板，其包括基板主体、以及形成于所述基板主体上的~中 任一项所述的光学补偿层叠膜和电极。 -种液晶显示装置用基板，其包括上述所述的电极基板和形成于该电极 基板上的取向膜。 一种液晶显示装置，其包括上述所述的液晶显示装置用基板、对置基 板、以及夹在该液晶显示装置用基板和对置基板之间的液晶层。专利技术的效果 本专利技术的光学补偿层叠膜包括显示出负的单轴各向异性的光学补偿膜（负C片） 和显示出正的单轴各向异性的光学补偿膜（正A片），透射率和光学特性良好。 本专利技术的电极基板、液晶显示装置用基板及液晶显示装置包括本专利技术的光学补偿 层叠膜，光学特性良好。此外，能够薄型化和低成本化。【附图说明】 图1是示意地表示第一实施方式的光学补偿层叠膜的剖视图。 图2是示意地表示第二实施方式的光学补偿层叠膜的剖视图。 图3是示意地表示第一实施方式的液晶显示装置的剖视图。 图4是示意地表示第二实施方式的液晶显示装置的剖视图。【具体实施方式】 本说明书中，有时将以式（M)表示的化合物简记为化合物（M)。这里，化合物表示 任意的化合物，式（M)表示任意的式。此外，以下将本专利技术的聚酰亚胺称为聚酰亚胺（PI)。 本说明书中，将聚酰亚胺分子或液晶分子等棒状分子的长轴方向记作x方向，将 在与膜面平行的面上与x方向垂直的方向记作y方向，将膜厚方向记作z方向，将x方向、 y方向、Z方向的折射率分别记作nx、ny、nz。 负 C 片中，nx=ny>nz。 正 A 片中，nx> ny = nz。 负C片中的z方向的双折射的指标、即延迟Rth以及正A片中的x-y平面的双折 射的指标、即延迟（以下也称为面内延迟）Re由下式定义。 Rth = PXda(这里，da是负C片的厚度。N是厚度方向的双折射率， N= ((nx+ny)/2-nz) 〇 ) Re =AnXdb(这里，An是双折射性，An = nx-ny。db是正A片的厚度。） 本说明书中，如无特别明确说明，双折射性的数据是针对波长550nm的光的数据。 本说明书中，"平均透射率"是波长4本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学补偿层叠膜，其包括显示出负的单轴各向异性的第一光学补偿膜和显示出正的单轴各向异性的第二光学补偿膜，其特征在于，所述第一光学补偿膜由包含下式(1A)表示的重复单元和/或下式(1B)表示的重复单元的至少一种聚酰亚胺构成，膜厚在5μm以下，厚度方向的双折射率N为0.02～0.20，平均透射率在85％以上，所述第二光学补偿膜由包含至少一种光聚合性液晶化合物的光聚合性液晶组合物的光固化物构成，膜厚在5μm以下；上式中，各符号表示以下的含义：m和n是上式(1A)表示的重复单元和上式(1B)表示的重复单元的组成比；m和n满足0≤m≤1、0≤n≤1以及m+n＝1；m≠0且n≠0时，聚酰亚胺是包含由上式(1A)构成的嵌段和由上式(1B)表示的重复单元构成的嵌段的嵌段聚酰亚胺；m≠0时，R1和R3分别独立地是碳数4～27的4价基团，并且是脂肪族基团、单环式脂肪族基团、稠合多环式脂肪族基团、单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团，或者是环式脂肪族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式脂肪族基团，或者是芳香族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团，R2是碳数4～51的2价基团，并且是脂肪族基团、单环式脂肪族基团、稠合多环式脂肪族基团、单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团，或者是环式脂肪族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式脂肪族基团，或者是芳香族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团，其中所述单环式脂肪族基团不包括1,4‑亚环己基；m＝0时，R2是反‑1,4‑二亚甲基环己烷基或双环[2,2,1]亚庚基，R3是碳数4～27的4价基团，并且是单环式芳香族基团或稠合多环式芳香族基团，或者是芳香族基团直接或通过桥连部分相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：中村清久，冈田悟史，田原慎哉，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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