本发明专利技术适用于蚀刻技术领域，提供了一种蚀刻药水添加方法、装置及系统，该方法包括：获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值；将比重当前值与预设的比重目标值相比较，生成两者之间的第一差值，将盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较，生成两者之间的第二差值，将氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较，生成两者之间的第三差值；获取第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例；将第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘，生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间；根据第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间，分别添加清水、盐酸、氧化剂。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于蚀刻
，尤其涉及一种蚀刻药水添加方法、装置及系统。
技术介绍
在印制电路板生产线上，通常采用蚀刻药水对印制电路板进行蚀刻。目前市面上蚀刻药水添加系统一般使用多个互相独立的药水分析仪对蚀刻药水进行分析及子液添加令药水保持活性，以满足电路板生产商自动化电路板生产的质量要求。以比重为例，通常，在蚀刻药水添加系统中，根据目标值以及测量比重输出开关式添加讯号，并通过开关式添加讯号，控制定量泵添加子液进蚀刻药水。由于只有开关式添加讯号，因此只有开或关两种状态，例如:目标值为1.5，当前值低于1.5则输出添加讯号，继电器闭合；当前值高于1.5则无添加讯号、继电器开路。因此，蚀刻药水添加系统中无法精确控制或者无法微调定量泵对药水的添加量，其存在以下二方面的缺点:第一方面，添加子液进蚀刻药水，子液为添加进蚀刻药水的液体。例如添加清水，蚀刻药水会过快或者过慢改变当前值，药水的数值波动较大，蚀刻药水添加系统对当前值的控制精度较低、影响生产的电路板的质量。第二方面，添加子液的消耗量较大，造成子液的浪费，例如添加氧化剂，造成氧化剂的浪费。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供一种蚀刻药水添加方法，旨在解决蚀刻药水添加系统中无法精确控制或者无法微调定量泵对药水的添加量，药水的数值波动较大、控制精度较低、添加子液的消耗量较大导致影响生产的电路板的质量以及造成子液的浪费的问题。本专利技术实施例是这样实现的，一种蚀刻药水添加方法，包括:获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值；将所述比重当前值与预设的比重目标值相比较，生成两者之间的第一差值，将所述盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较，生成两者之间的第二差值，将所述氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较，生成两者之间的第三差值；在预先建立的对应表中，获取生成的第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例；将所述第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘，生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间；根据生成的第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间，分别添加清水、盐酸、氧化剂；其中，比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；其中，对应表中存储了差值与添加比例之间的对应关系；其中，所述氧化剂包括但不限于氯酸钠，双氧水。本专利技术实施例的另一目的在于提供一种蚀刻药水添加装置，包括:第一获取单元,用于获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值；比较单元，用于将所述比重当前值与预设的比重目标值相比较，生成两者之间的第一差值，将所述盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较，生成两者之间的第二差值，将所述氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较，生成两者之间的第三差值；第二获取单元，在预先建立的对应表中，获取生成的第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例；生成单元，将所述第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘，生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间；添加单元，用于根据生成的第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间，分别添加清水、盐酸、氧化剂；其中，比重当前值为比重监测器当前检测的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；其中，对应表中存储了差值与添加比例之间的对应关系；其中，所述氧化剂包括但不限于氯酸钠，双氧水。本专利技术实施例的另一目的在于提供一种蚀刻药水添加系统，包括上述的蚀刻药水添加装置、一比重监测器、一盐酸监测器、一氧化剂监测器、一接入清水的定量泵或电磁阀、一装载盐酸的定量泵、以及一装载氧化剂的定量泵，其中，所述比重监测器通过所述蚀刻药水添加装置与接入清水的定量泵或电磁阀相连，所述盐酸监测器通过所述蚀刻药水添加装置与装载盐酸的定量泵相连，所述氧化剂监测器通过所述蚀刻药水添加装置与装载氧化剂的定量泵相连。在本专利技术实施例中，通过根据生成的第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间，分别添加清水、盐酸、氧化剂，以使蚀刻药水添加系统可以控制定量泵对药水的添加量，解决了药水的数值波动较大、控制精度较低、添加子液的消耗量较大导致影响生产的电路板的质量以及造成子液的浪费的问题，有效控制了药水蚀刻能力，减少波动，令生产的电路板的质量保持高度稳定，同时减少了添加子液的使用量，降低了运行成本。【附图说明】图1是本专利技术实施例提供的蚀刻药水添加方法的实现流程图；图2是本专利技术实施例提供的蚀刻药水添加装置的结构框图。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。图1是本专利技术实施例提供的一种蚀刻药水添加方法的实现流程图，详述如下:在步骤SlOl中，获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值；其中，蚀刻药水添加系统中控制板的主程序，通过药水槽中的比重监测器，检测蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，获取蚀刻药水中的比重。通过盐酸监测器，检测到的导电率的电流值转换生成的数值，获取盐酸当前值。通过氧化剂监测器，检测到当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值，获取氧化剂当前值。其中，比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；其中，药水槽装载蚀刻药水。在步骤S102中，将所述比重当前值与预设的比重目标值相比较，生成两者之间的第一差值，将所述盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较，生成两者之间的第二差值，将所述氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较，生成两者之间的第三差值；当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蚀刻药水添加方法，其特征在于，包括：获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值；将所述比重当前值与预设的比重目标值相比较，生成两者之间的第一差值，将所述盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较，生成两者之间的第二差值，将所述氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较，生成两者之间的第三差值；在预先建立的对应表中，获取生成的第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例；将所述第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘，生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间；根据生成的第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间，分别添加清水、盐酸、氧化剂；其中，比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；其中，对应表中存储了差值与添加比例之间的对应关系；其中，所述氧化剂包括但不限于氯酸钠，双氧水。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈德和，
申请(专利权)人：宇宙电路板设备深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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