大曲率复材零件表面的等离子体加工方法技术

技术编号:11994908 阅读:81 留言:0更新日期:2015-09-02 23:22
本发明专利技术涉及一种大曲率复材零件表面的等离子加工方法,通过若干等离子并联且互补分布在工件两侧,在通电过程中对工件型面进行均匀处理,结局大曲率复合材料表面型面复杂及表面难于活化问题,提高型面精度的同时提高工作效率。

【技术实现步骤摘要】
大曲率复材零件表面的等离子体加工方法
本专利技术涉及一种大曲率复材零件表面的等离子加工方法,属于复合材料制造

技术介绍
模具表面涂刷脱模剂的方式会使部分脱模剂残留在复合材料零件表面,脱模剂残留会使涂装后涂层与零件表面之间形成一层弱边界层,导致两者之间的界面结合力差,进而使涂层容易发生剥离脱落,传统的方法需要用丙酮等化学溶剂对零件表面进行清理以除去残留在零件表面的脱模剂,并打磨零件表面以增强涂层与零件表面的界面结合力,然而,采用上述方法会影响环境且不利于环保,并且操作人员水平的不同会导致清洗打磨后的零件表面状态不均匀,无法满足涂装对于零件表面状态的需求。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供大曲率复材零件表面的等离子加工方法,通过常压等离子技术的表面清洗与活化性,对复合材料零件表面进行清理及表面活化,不但不损伤基体表面而且提高零件表面的精度。为解决以上问题,本专利技术的具体技术方案如下:大曲率复材零件表面的等离子加工方法,步骤如下:1)将若干等离子电极单元通过并联的方式组成等离子电极主体机构,两组等离子主体结构分别位于工件两侧,一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凹字形,另一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凸字型;2)选取等离子体电极单元的截面尺寸的最小值;3)确定工作原点;4)调节两组等离子体电极主体结构之间的放电距离;5)将两组等离子体电极主体放置于工件两侧;6)接通等离子电源产生均匀的低温等离子开始对零件表面进行处理。优选的,所述的等离子电极单元为金属电极,电极截面为矩形。优选的,所述的等离子体电极单元沿轴向方向移动。优选的,所述的两组等离子主体结构的型面的型面呈互补关系。所述的步骤4)中的放电距离为电极表面金属介质到零件型面法向距离的两倍。本专利技术带来的有益效果为:该技术能避免复合材料零件表面清洗时化学溶剂的使用以及打磨过程产生的粉尘对操作人员人身及环境的损害,有效的将复合材料零件表面清洗与表面活化过程相结合,在保证不影响复合材料零件性能的情况下清洗零件表面,为后续涂装过程提供所需的零件表面状态。附图说明图1为等离子在大曲率复材零件表面分布示意图。其中,1-等离子电极单元,2-等离子电极主体结构,3-工件。具体实施方式如图1所示,大曲率复材零件表面的等离子体加工方法,步骤如下:1)将若干等离子电极单元1通过并联的方式组成等离子电极主体机构2,两组等离子主体结构2分别位于工件3两侧,一组等离子主体结构2贴近工件3一侧的端面外轮廓呈凹字形,另一组等离子主体2结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凸字型;2)选取等离子体电极单元1的截面尺寸的最小值;3)确定工作原点;4)调节两组等离子体电极主体结构2之间的放电距离;5)将两组等离子体电极主体2放置于工件3两侧;6)接通等离子电源产生均匀的低温等离子开始对零件表面进行处理。优选的,所述的等离子电极单元1为金属电极,电极截面为矩形。优选的,所述的等离子体电极1单元沿轴向方向移动。优选的,所述的两组等离子主体结构2的型面的型面呈互补关系。所述的步骤4)中的放电距离为电极表面金属介质到零件型面法向距离的两倍。以上所述的仅是本专利技术的优选实施例。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术原理的前提下,还可以作出若干变型和改进,也应视为属于本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...
大曲率复材零件表面的等离子体加工方法

【技术保护点】
一种大曲率复材零件表面的等离子体加工方法,其特征在于如下步骤:1)将若干等离子电极单元通过并联的方式组成等离子电极主体机构,两组等离子主体结构分别位于工件两侧,一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凹字形,另一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凸字型;2)选取等离子体电极单元的截面尺寸的最小值;3)确定工作原点;4)调节两组等离子体电极主体结构之间的放电距离;5)将两组等离子体电极主体放置于工件两侧;6)接通等离子电源产生均匀的低温等离子开始对零件表面进行处理。

【技术特征摘要】
1.一种大曲率复材零件表面的等离子加工方法,其特征在于如下步骤:1)将若干等离子电极单元通过并联的方式组成等离子电极主体机构,两组等离子主体结构分别位于工件两侧,一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凹字形,另一组等离子主体结构贴近工件一侧的端面外轮廓呈凸字型;2)选取等离子体电极单元的截面尺寸的最小值;3)确定工作原点;4)调节两组等离子体电极主体结构之间的放电距离;5)将两组等离子...

【专利技术属性】
技术研发人员:王乾贾彩霞蒲永伟鞠长滨
申请(专利权)人:沈阳飞机工业集团有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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