具有可转动支承在把手壳体中的滚筒的等离子体处理设备制造技术

一种等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场处理一表面，等离子体场在一被供给高压的电极(16)与所述表面之间产生，其中，所述电极(16)与一围住电极(16)的电介质(17)构成一可转动地支承在一把手壳体(1)中的滚筒(6)，滚筒能够在所述表面上滚动，等离子体处理设备具有扩宽的处理场并通过如下方式允许了所述表面的受限定的且受控制的等离子体处理，即，滚筒(6)构造得能够柔性地适配所述表面的不平整性并具有一滚动表面，该滚动表面具有凸起(19、19')，构成等离子体场的空隙(20)处在这些凸起之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有可转动支承在把手壳体中的滚筒的等离子体处理设备
本专利技术涉及一种等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场来处理一表面，所述等离子体场在一被供给高压的电极和所述表面之间产生，其中，所述电极与一围住所述电极的电介质构成一可转动地支承在一把手壳体中的滚筒，所述滚筒能够在所述表面上滚动。
技术介绍
已公开了出于不同目的利用等离子体对表面进行处理。这样则例如使若未进行预处理不能或者仅仅艰难进行覆层、例如刷漆的塑料表面可以在等离子体处理后明显更好地被覆层。类似的也适用于角蛋白表面、例如头发，角蛋白表面在进行等离子体处理之后明显更好地吸收处理剂或者护理剂。此外已知的是，利用等离子体处理为表面进行消毒。也可以在活体上进行等离子体处理，以便改进皮肤对护理剂和修复剂的、尤其是对伤口修复的吸收能力并且对所要求的表面进行消毒。对于用于材料加工的等离子体处理能够在两个电极之间直接生成等离子体场，而在很多情况下有益的是，设置所谓的电介质阻挡式等离子体放电。对于电介质阻挡式等离子体放电，通过一高压场使空气或者另一气体离子化，基于高电势差本身产生的电流然而通过一中间接入的电介质被阻止。因而已公开的是，将一高压电极埋入到电介质中以便可靠地防止电流闪络并以一对应电极产生所述等离子体场，其中，当待处理表面的材料是导电的时，所述待处理表面可以用作通常接地的对应电极。通过WO2011/076193A1公开了一种由一埋入到一柔性电介质中的面式电极组成的面式组件，其能够放置到一表面上并基于其柔性能够在一定程度上适配表面的不平整性。在此，电极组件的表面设有类似于毛结的凸起，以便当放置到待处理的表面上时在所述凸起之间的空隙中确保存在空气隙，在所述空气隙中能够构造所述等离子体。这类组件不能被普遍应用，这是由于该电极组件的大小必须适配待处理表面的大小，以便能够有效地且合理地处理所述表面。在哥廷根的MBMScienceBridge有限责任公司的网络公布内容中公开了一种所谓的等离子体滚压装置，所述等离子体滚压装置由一作为电极的、陶瓷包罩的铜管制成。滚筒按照颜料滚压装置的方式被引导经过待处理表面，从而使得其与所述表面构造一线形接触。在所述线形接触的两侧上明显构成了所述等离子体场。当所述等离子体滚压装置多次被引导经过待处理表面时，所述等离子体滚压装置应当适合用于为墙壁、地板或者摆设物件进行消毒，以及用于在无溶剂和底漆的情况下为了上漆或者其他覆层对这些物件进行预处理。所述等离子体滚压装置的前述结构仅仅适合平坦的表面并且其缺点在于，与相对于等离子体滚压装置与所述表面的接触线的间距相关地构造出强烈下降的等离子体场，从而使得不会出现受控的或者被限定的等离子体处理。
技术实现思路
因而，本专利技术的任务在于，为等离子体处理扩宽用于构造成滚筒的电极组件的应用领域并能够实现更好限定的且受控的等离子体处理。为了解决该任务，根据本专利技术，开头提到类型的等离子体处理设备的特征在于，所述滚筒构造得能柔性适配所述表面的不平整性并且具有一具有凸起的滚动表面，构成所述等离子体场的空隙处在这些凸起之间。根据本专利技术的等离子体处理设备因而具有一滚筒，所述滚筒能够柔性地适配表面的不平整性。为此，所述电介质尤其是由一软弹性的材料制成并且优选具有30和60之间的肖氏硬度。适合的软弹性材料是热塑性弹性体(TPE)。因而，即便所述电极本身是刚性的，通过电介质的软弹性构造方案便已经能够使根据本专利技术的等离子体处理设备适配表面的不平整性。然而在本专利技术一种优选的实施方式中也可以柔性地构造所述电极，因而所述电极由一柔性材料制成，利用刚性的端块可转动支承在把手壳体中。这种支承优选发生在所述电极的两个端部处。然而也可以在一侧支承所述电极，由此所述电极可以构造有一自由端部。根据本专利技术，所述滚筒的表面此外设有凸起，空隙处在这些凸起之间，在所述空隙中构成等离子体场。在此，所述滚筒具有大量可以规则或者不规则布置在表面上的凸起。在这些凸起之间的空隙优选相互连接，从而使得当所述滚筒必要时在压力下贴靠在待处理表面上时，围绕所述凸起能够构成统一的气体腔。通过将电介质的软的构造方案和必要时电极的柔性，在所述滚筒与所述待处理表面之间的接触区域中也构成了较宽的等离子体场，所述等离子体场仅仅在支承点处中断，所述支承点并不构成不间断的线，而是沿着在所述滚筒表面与所述待处理表面之间的接触条构成仅点式的接触面，在这些接触面之间，在所述接触点之间的间隙中能够构成等离子体场。由于在滚动时所述接触点的位态是不断变化的，所以因此得到一具有接近同质的场强的、相对宽的等离子体场，通过所述等离子体场能够实现对表面的受控的并且被限定的等离子体处理。根据本专利技术的等离子体处理设备适合于所有上述提到的、已公开的等离子体处理设备适合的应用领域。此外，根据本专利技术的等离子体处理设备能够利用仍更好限定的等离子体处理实现对任意大小的不平表面进行处理。这尤其是对于活体皮肤的等离子体处理是重要的，因为利用根据本专利技术的、具有一适当选择的滚筒尺寸的等离子体处理设备能够实现受控的、例如对脸部皮肤或者对其他身体部分上的皮肤的处理。电极本身的优选的柔性可以通过电极不同的实施方案来实现。在一种特别优选的实施方式中，所述电极由一具有刚性端块的弹簧弹性材料制成，其中，所述端块既可以用于可转动的支承也可以用于电接触。为此，所述刚性的端块中的至少一个端块构造成可导电并且构造得能与一高压源接触。所述弹簧弹性材料可以是一螺旋弹簧，从而使得所述电极由一空心的螺旋弹簧构成。在其他的实施方式中，电极的柔性构造方案也可以通过实心的、弹簧弹性的、导电的材料构成。此外可以通过电极的一软管状的套筒来确保所述弹簧弹性，该套筒能够利用一也可以是液体形式的导电材料填充。在此，液体构成电极的进行传导的部分，而所述弹簧弹性的套筒可以是传导的，但是不必一定是传导的。在此将所述弹簧弹性的套筒构造成所述电介质也是可以设想的，在所述电解质中存在可变形的传导材料，利用所述材料将限定的高压电势带入到一通过所述电解质限定的、与待处理表面间隔开的间隔中。在一种优选的实施方式中，所述把手壳体几乎完全围住所述滚筒并仅仅留出小的开口，从该开口中伸出滚筒的仅很小的圆周区段。伸出的圆周区段因而可以在20至120角度范围上延伸。在本专利技术的一种变体方案中，一把手壳体也能够支承多个滚筒，这些滚筒沿运动方向前后相继地经过所述待处理表面被引导。此外，一滚筒也可以在其轴向长度上由多个分滚筒组成。附图说明在下文中，根据实施例对本专利技术进行进一步描述。其示出了：图1是根据本专利技术的等离子体处理设备的部分剖开的整体示图；图2是具有柔性电极的滚筒的第一实施方式的放大示图；图3是电介质的实施例的表面视角的、根据图1的等离子体处理设备的示图；图4是根据本专利技术构造的滚筒的第二实施例的示意图；图5是穿过根据图4的滚筒的剖面图。具体实施方式如根据图1的实施例所示，所述等离子体处理设备能够具有一把手壳体1，所述把手壳体具有一把手区段2和一保持区段3。所述把手区段2适合利用手进行抓握并且能够设有常见的、保险所述把手的防滑表面。所述保持区段3具有两个远离所述把手区段2指向的平行的臂4，一自由腔5位于这些臂之间。如其在下文中进一步说明的那样，在所述臂4的端部上可转动地支承一滚筒6本文档来自技高网...

【技术保护点】
等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场来处理一表面，所述等离子体场在一被供给高压的电极(16)与所述表面之间产生，其中，所述电极(16)与一围住所述电极(16)的电介质(17)构成一能转动地支承在一把手壳体(1)中的滚筒(6)，所述滚筒能够在所述表面上滚动，其特征在于，所述滚筒(6)构造得能柔性适配所述表面的不平整性并具有一滚动表面，所述滚动表面具有凸起(19、19')，构成所述等离子体场的空隙(20)处在这些凸起之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.01.15 DE 102013000440.31.等离子体处理设备，其用于利用一电介质阻挡式等离子体场来处理一表面，所述等离子体场在一被供给高压的电极(16)与所述表面之间产生，其中，所述电极(16)与一围住所述电极(16)的电介质(17)构成一能转动地支承在一把手壳体(1)中的滚筒(6)，所述滚筒能够在所述表面上滚动，其特征在于，所述滚筒(6)构造得能柔性适配所述表面的不平整性并具有一滚动表面，所述滚动表面具有凸起(19、19')，在这些凸起之间存在空隙(20)，所述空隙构成所述等离子体场。2.按照权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述空隙(20)相互连接。3.按照权利要求1或2所述的等离子体处理设备，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：L·特鲁特威格，KO·施托克，D·万德克，M·科普，G·达施莱恩，
申请(专利权)人：奇诺格有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE