一种高耐磨釉中彩陶瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种高耐磨釉中彩陶瓷砖及其制备方法，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图案的坯体、以及在印刷有图案的坯体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透明基釉、以及被透明基釉包覆的高耐磨透明熔块粒子，高耐磨透明熔块粒子的细度为130目～180目，组成包括52～58wt％SiO2、25～30wt％Al2O3、8～15wt％CaO、0.2～0.5 wt％MgO、1～3 wt％K2O、0.5～2 wt％Na2O、1～5 wt % ZnO。

【技术实现步骤摘要】
一种高耐磨釉中彩陶瓷砖及其制备方法
本专利技术涉及一种釉中彩陶瓷砖及其制备方法，特别涉及一种高耐磨釉中彩陶瓷产品及其制备方法。
技术介绍
随着国内外建陶行业的迅速发展，能源的日趋短缺，国家也逐渐提倡和规定了节能降耗，绿色环保。这给建筑陶瓷企业无疑提高了门槛，使其面临潜在的生存危机。近几年来，花色品种越来越多，新产品，新工艺不断涌现，人们的欣赏水平和要求也越来越高，提高产品档次已成为陶瓷生产者迫切追求的一个目标，开发低成本，高品位的陶瓷产品已日益得到各厂家的重视，目前陶瓷的渗花工艺受渗花离子的着色的原因，花色品种单调；聚晶微粉工艺受布料系统的影响，花色品种受到很大影响；微晶石又不耐磨。瓷质釉中花工艺吸收了三种工艺的优点，避免了弱点，将成为建筑陶瓷的一种新工艺。抛釉砖是近年来发展非常迅速的一种建筑装饰产品，其装饰图案丰富，色彩多变，表面光泽度高等特点深受人们的喜爱，逐渐成为市场上的主流产品。目前抛釉砖制备工艺都是在砖坯表面喷淋底面釉后再进行印花装饰，然后上一层透明釉，经烧成、抛光磨边后得到最终产品。通过该工艺制备的产品虽然也属于釉中彩，图案受到表面透明釉层的保护，但是，由于透明釉玻璃相太多，本身属于软瓷，其硬度、耐磨度都比较差，很容易磨损，不适合人流量大的地方使用。因此，本领域技术人员一直致力于如何进一步提高抛釉砖的耐磨性能并保持其透明度，从而扩展抛釉砖的使用范围。
技术实现思路
本专利技术旨在克服现有包括抛釉砖在内的釉中彩陶瓷产品的耐磨性能，本专利技术提供了一种高耐磨釉中彩陶瓷产品及其制备方法。本专利技术提供了一种高耐磨釉中彩陶瓷砖，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图案的坯体、以及在印刷有图案的坯体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透明基釉、以及被透明基釉包覆的高耐磨透明熔块粒子，高耐磨透明熔块粒子的细度为130目～180目，组成包括52～58wt％SiO2、25～30wt％Al2O3、8～15wt％CaO、0.2～0.5wt％MgO、1～3wt％K2O、0.5～2wt％Na2O、1～5wt％ZnO。本专利技术中采用在透明釉层中加入高耐磨透明熔块粒子，以增加透明釉层的耐磨性，从而能够将釉中彩陶瓷砖适用于更广的范围。高耐磨透明熔块粒子细度:130目～180目。太粗生产过程中浆料容易沉淀，且与基釉结合力不够容易剥落影响性能。太细容易熔于透明釉，影响耐磨效果。较佳地，透明基釉的组成包括55～65wt％SiO2、16～20wt％Al2O3、8～15wt％CaO、1～3wt％MgO、1～4wt％K2O、3～5wt％Na2O、0～5wt％ZnO。较佳地，透明釉层厚度0.2～0.8mm。较佳地，透明釉层含10—60wt％高耐磨透明熔块粒子。较佳地，所述透明釉层还包括位于透明基釉和高耐磨透明熔块粒子之间的缓冲层，所述缓冲层由在所述烧成过程中透明基釉和高耐磨透明熔块粒子的组分相互渗透形成。高温烧成时，透明基釉作为玻璃相填充在高温高耐磨透明熔块粒子孔隙之间，并与之反应形成结合良好的缓冲层，因此，高耐磨透明熔块粒子不会在抛光过程中剥落。由于高温反应，透明基釉部分会熔解高温透明熔块粒子表面层，相互扩散、渗透，成分应该是介于透明基釉与高耐磨透明熔块粒子之间。例如靠近高温透明熔块粒子的缓冲层的组分接近高温透明熔块粒子的组成，靠近透明基釉的缓冲层的组分则靠近透明基釉的组成。又，本专利技术还提供了一种上述高耐磨釉中彩陶瓷砖的制备方法，包括：将印刷有图案的坯体上喷淋透明釉层浆料后，在1150-1230℃下烧成，再经抛光后得到所述高耐磨釉中彩陶瓷砖，其中，透明釉层浆料包括10-60wt％的高耐磨透明熔块粒子、30—50wt％的透明基釉以及10—15wt％悬浮剂。较佳地，透明基釉的粉体细度为过325目筛余0.4～0.8％较佳地，悬浮剂采用羧甲基纤维素钠、乙二醇和/或聚乙二醇。较佳地，采用直线淋釉器将透明釉层浆料施加在印刷有图案的坯体上。较佳地，釉浆比重控制在1.70～1.85，流速控制在20～40s，施釉量为460—500克/平方米。较佳地，烧成时间为60-80分钟。本专利技术与现有技术相比，其有益效果为：由于高耐磨熔块粒子温度比基釉高，粒度比基釉粗，生产过程中釉层透气性好，易于干燥，不会因为水分过大进窑造成炸砖，同时拓宽了产品烧成范围，施釉量大，透明釉层厚，产品耐磨度高，通透感、立体感好，档次明显高于普通抛釉砖。附图说明图1示出了本专利技术一个实施方式中制备的釉中彩陶瓷砖中透明釉层结构示意图。具体实施方式以下结合附图和下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，附图及下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。为了解决现有抛釉砖耐磨性较差的缺陷，本专利技术提供了提供的一种高耐磨釉中彩陶瓷砖制备方法。采用如下技术方案来实现上述目的：本专利技术提供了一种高耐磨釉中彩陶瓷砖制备方法，所述方法包括：按现有仿古砖工艺进行喷墨打印或辊筒印花装饰后，再利用钟罩或者直线淋釉器淋一层含10～60％高耐磨透明熔块粒子的透明釉，经抛光即得本产品。透明基釉作为玻璃相填充在高温高耐磨透明熔块粒子孔隙之间，并与之反应形成结合良好的缓冲层，不会在抛光过程中剥落。其化学成分：SiO255～65％、Al2O316～20％、CaO8～15％、MgO1～3％、K2O1～4％、Na2O3～5％、ZnO0～5％。细度325目筛余0.4～0.8％。高耐磨透明熔块粒子化学成分：SiO252～58％、Al2O325～30wt％、CaO8～15％、MgO0.2～0.5％、K2O1～3％、Na2O0.5～2％、ZnO1～5％。高耐磨透明熔块粒子细度:130目～180目。太粗生产过程中浆料容易沉淀，且与基釉结合力不够容易剥落影响性能。太细容易熔于透明釉，影响耐磨效果。施釉量最大可以达到1000克/800规格砖，透明釉层厚度0.2～0.8mm。釉浆悬浮剂采用羧甲基纤维素钠、乙二醇、聚乙二醇等；釉浆比重控制在1.70～1.85，流速控制在20～40s。本专利技术与现有技术相比，其有益效果为：由于高耐磨熔块粒子温度比基釉高，粒度比基釉粗，生产过程中釉层透气性好，易于干燥，不会因为水分过大进窑造成炸砖，同时拓宽了产品烧成范围，施釉量大，透明釉层厚，产品耐磨度高，通透感、立体感好，档次明显高于普通抛釉砖。以下进一步列举出一些示例性的实施例以更好地说明本专利技术。应理解，本专利技术详述的上述实施方式，及以下实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围，本领域的技术人员根据本专利技术的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本专利技术的保护范围。另外，下述工艺参数中的具体配比、时间、温度等也仅是示例性，本领域技术人员可以在上述限定的范围内选择合适的值。实施例1按现有仿古砖工艺进行喷墨打印或辊筒印花装饰后，再利用直线淋釉器淋一层含10～60％高耐磨透明熔块粒子的透明釉，经1200℃高温烧成，最后抛光即得本产品。具体步骤如下：1)耐磨粒子的制备：将高耐磨透明熔块粒子(SiO252～58％、Al2O325～30wt％、CaO8～15％、MgO0.2～0.5％、K2O1～3％、Na2O0.5～2％、ZnO1～5％)破碎过筛，粉碎至130～180目；2)透明基釉的制备：将透明釉(SiO255～65％、Al2O316～20％、CaO8～15％、MgO1～本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图案的坯体、以及在印刷有图案的坯体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透明基釉、以及被透明基釉包覆的高耐磨透明熔块粒子，高耐磨透明熔块粒子的细度为130目～180目，组成包括52～58wt％SiO2、25～30wt％Al2O3、8～15wt％CaO、0.2～0.5 wt％MgO、1～3 wt％K2O、0.5～2 wt％Na2O、1～5 wt％ZnO。

【技术特征摘要】
1.一种高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图案的坯体、以及在印刷有图案的坯体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透明基釉、以及被透明基釉包覆的高耐磨透明熔块粒子，高耐磨透明熔块粒子的细度为130目～180目，组成包括52～58wt％SiO2、25～30wt％Al2O3、8～15wt％CaO、0.2～0.5wt％MgO、1～3wt％K2O、0.5～2wt％Na2O、1～5wt％ZnO；透明基釉的组成包括55-65wt%SiO2、16-20wt%Al2O3、8-15wt%CaO、1-3wt%MgO、1-4wt%K2O、3-5wt%Na2O、0-5wt%ZnO；所述透明釉层还包括位于透明基釉和高耐磨透明熔块粒子之间的缓冲层，所述缓冲层由在所述烧成过程中透明基釉和高耐磨透明熔块粒子的组分相互渗透形成。2.根据权利要求1所述的高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，透明釉层厚度0.2～0.8mm。3.根据权利要求1所述的高耐磨釉中彩陶瓷砖...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，潘利敏，汪庆刚，袁富祥，闫振华，谭月华，谢志军，
申请(专利权)人：广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44