本实用新型专利技术提供一种光源装置。实施方式的光源装置(1)包括发光部(20)、控制单元(50)及扩散板(41)。发光部具有多个第一发光元件(21)及多个第二发光元件(22)。第一发光元件射出第一峰值波长的紫外线。第二发光元件射出与第一峰值波长不同的第二峰值波长的紫外线，且配置于第一发光元件的周围。以第二发光元件中的至少一个位于第一发光元件周围的方式，将多个第一发光元件及多个第二发光元件配置成面状或直线状。控制单元使发光部中的位于外缘的发光部的相对照度比位于中央的发光部的相对照度大。扩散板使第一发光元件与第二发光元件射出的紫外线扩散并照射到被照射物(W)。因此，能抑制紫外线对被照射物的不均匀的照射。
【技术实现步骤摘要】
本技术的实施方式涉及一种包括发光元件的光源装置，尤其涉及一种用于液晶的硬化等且包括多个发光元件的光源装置。
技术介绍
现在，在液晶面板的硬化或重合、贴合中使用的光源装置中，使用通过激发封入到管内的金属而射出光的放电灯(例如低压荧光灯、高压水银灯、金属卤化物灯)。进而在液晶面板的硬化或重合、贴合等光反应工序中，使用具有射出紫外线的发光元件的光源装置。日本专利特开2010-197540号公报国际公开第2010/197540号日本专利特开2007-305703号公报日本专利特开2010-93094号公报日本专利特开昭59-43320号公报日本专利特开昭60-59733号公报且说，现有技术中，例如在照射光而使被照射物的光硬化型树脂硬化时，要求抑制不充分的硬化。而且，光源装置中，要求抑制照射紫外线的被照射物的不均匀的反应，即，紫外线对被照射物的不均匀的照射。
技术实现思路
本技术的目的在于提供抑制被照射物的光化学反应的不均匀的光源装置。而且，本技术的目的在于提供抑制紫外线对被照射物的不均匀的照射的光源装置。实施方式的光源装置包括发光部、调整单元及光学零件。发光部包括多个第一发光元件以及多个第二发光元件。第一发光元件射出第一峰值波长的紫外线。第二发光元件射出与第一峰值波长不同的第二峰值波长的紫外线，且配置于第一发光元件的周围。以第二发光元件中的至少一个位于第一发光元件的周围的方式，将多个第一发光元件及多个第二发光元件配置成面状或直线状。调整单元使发光部中的位于外缘的发光部的相对照度比位于中央的发光部的相对照度大。光学零件使第一发光元件与第二发光元件射出的紫外线扩散并照射到被照射物。在本技术的一实施例中，所述第一发光元件及所述第二发光元件射出峰值波长为240nm以上且405nm以下的紫外线。在本技术的一实施例中，所述光学零件由玻璃构成。在本技术的一实施例中，所述光源装置，还包括控制单元，所述控制单元使紫外线从所述发光部依次照射到多个被照射物。所述控制单元针对各被照射物重复进行:使规定时间内的所述第一发光元件及所述第二发光元件射出的紫外线相对于各被照射物的相对照度随时间的经过而减弱。在本技术的一实施例中，所述发光元件射出峰值波长为240nm?450nm的紫外线。在本技术的一实施例中，所述控制单元使所述规定时间内的所述发光元件射出的紫外线的相对照度在刚射出后为最强，并随时间的经过而减弱。在本技术的一实施例中，所述被照射物包含树脂。在本技术的一实施例中，在所述发光部与所述被照射物之间，具有提取从所述发光部射出的紫外线的偏光成分的偏光元件。根据本技术，可提供抑制紫外线对被照射物的不均匀的照射的光源装置。而且，可提供抑制被照射物的光化学反应的不均匀的光源装置。【附图说明】图1是表示包括实施方式I的光源装置的紫外线照射装置的概略构成的图。图2是从下方表示实施方式I的光源装置的概略构成的俯视图。图3是表示相对于实施方式I的光源装置的各发光元件射出的紫外线的波长的相对放射强度的图。图4是表示相对于实施方式I的光源装置射出的紫外线的波长的相对放射强度的一例的图。图5是表示图1所示的紫外线照射装置的平台上的相对照度与光源装置射出的紫外线的相对照度的图。图6是从下方表示实施方式I的变形例I的光源装置的概略构成的俯视图。图7是从下方表示实施方式I的变形例2的光源装置的概略构成的要部的俯视图。图8是表示实施方式2的光源装置的概略构成的立体图。图9是图8所示的光源装置的X轴方向观察的剖面图。图10是图8所示的光源装置的光射出部的俯视图。图11是图10所示的光射出部的X轴方向观察的剖面图。图12是表示图8所示的光源装置的光射出部的相对照度的变化的图。图13是图8所示的光源装置的控制单元的流程图的一例。图14是表示使本技术品与比较例I?比较例3工作后的相对照度的变化的图。图15是表示实施方式2的变形例I的光源装置的概略构成的X轴方向观察的剖面图。图16是表示实施方式2的变形例2的光源装置的概略构成的X轴方向观察的剖面图。图17是表示实施方式2的变形例3的光源装置的概略构成的X轴方向观察的剖面图。图18(a)?图18(c)是表示图12所示的光源装置的光射出部的相对照度的变化的变形例的图。图19是表示实施方式2的变形例4的光源装置的概略构成的立体图。图20是实施方式2的变形例5的光源装置的光射出部的侧视图。图21是从下方观察图20所示的光射出部的俯视图。图22是从下方观察实施方式2的变形例6的光源装置的光射出部的俯视图。图23是表示实施方式2的变形例7的光源装置的概略构成的图。l、la、l-l、l-la、l-2、l-2a、l-3、l-4、l-5、l-6、l_7:光源装置10:平台1a:载置面1b:光射出部11:本体构件12:发光元件13:光纤20:发光部20a:反射板21:第一发光元件21a:反射面22:第二发光元件22a:空隙部23:第三发光元件24:安装基板30:散热器30a:搬送单元31:鳍片40:框体40a:控制单元41:扩散板(光学零件)50:控制单元(调整单元)50a:移动搬送单元51:驱动辊52:从动辊53:搬送带60:光源移动单元61:滑块62:轨道70:偏光元件71:框架80:水冷夹套90:惰性气体收容室100:紫外线照射装置H:范围L:箭头La:光射出部的长度Pl:第一峰值波长P2:第二峰值波长P3:第三峰值波长R:光射出部的直径STl ?ST3:步骤T:规定时间T2:第二规定时间t0、tl、t2、t3、t4:时间W、Wa:被照射物X、Y、Z:轴【具体实施方式】以下说明的实施方式1、变形例I及变形例2的光源装置1、光源装置1-1、光源装置1-2包括发光部20、控制单元50及扩散板41。发光部20具有多个第一发光元件21及多个第二发光元件22。第一发光元件21射出第一峰值波长的紫外线。第二发光元件22配置于第一发光元件21的周围。以第二发光元件22中的至少一个位于第一发光元件21的周围的方式，将多个第一发光元件21及多个第二发光元件22配置成面状或直线状。控制单元50使发光部20中的位于外缘的发光部20的相对照度比位于中央的发光部20的相对照度大。扩散板41使第一发光元件21与第二发光元件22射出的紫外线扩散并照射到被照射物W。而且，在以下说明的实施方式1、变形例I及变形例2的光源装置1、光源装置1-1、光源装置1-2中，第一发光元件21及第二发光元件22射出峰值波长为240nm以上且405nm以下的紫外线。而且，在以下说明的实施方式1、变形例I及变形例2的光源装置1、光源装置1-1、光源装置1-2中，扩散板41由玻璃构成。接下来，根据附图对本技术的实施方式I的光源装置I进行说明。图1是表示包括实施方式I的光源装置的紫外线照射装置的概略构成的图，图2是从下方表示实施方式I的光源装置的概略构成的俯视图，图3是表示相对于实施方式I的光源装置的各发光元件射出的紫外线的波长的相对放射强度的图，图4是表示相对于实施方式I的光源装置射出的紫外线的波长的相对放射强度的一例的图，图5是表示图1所示的紫外线照射装置的平台上的相对照度与光源装置射出的紫外线的相对照度的图。实本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光源装置，其特征在于包括：发光部，具有：多个第一发光元件，射出第一峰值波长的紫外线；及多个第二发光元件，射出与所述第一峰值波长不同的第二峰值波长的紫外线且配置于所述第一发光元件的周围；以所述第二发光元件中的至少一个位于所述第一发光元件的周围的方式，将所述多个第一发光元件及所述多个第二发光元件配置成面状或直线状；调整单元，使所述发光部中的位于外缘的发光部的相对照度比位于中央的发光部的相对照度大；及光学零件，使所述第一发光元件与所述第二发光元件射出的紫外线扩散并照射到被照射物。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：日野弘喜，藤冈纯，加藤刚雄，前田祥平，
申请(专利权)人：东芝照明技术株式会社，
类型：新型
国别省市：日本;JP
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