清洗剂组合物制造技术

技术编号:11810580 阅读:75 留言:0更新日期:2015-08-01 04:50
本发明专利技术的目的在于提供高碱性且低起泡性的清洗剂组合物,本发明专利技术的清洗剂组合物的特征在于,含有下述(A)~(B)成分且pH大于12。(A)末端具有通式(1)所示的结构的非离子性表面活性剂、(B)碱剂(式中,R1为氢原子或烷基,R2和R3为任选包含醚键的烃基,R2与R3任选形成环,AO为任选相同或不同的氧亚烷基,n为1~400的整数。)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及清洗剂组合物
技术介绍
作为自动餐具清洗机用的清洗剂组合物,大多使用含有表面活性剂的组合物,使 用自动餐具清洗机进行清洗时,如果大量产生泡,则泡溢出而成为装置的故障等的原因。另 外,有时由于泡的产生从而清洗力降低。 因此,对于自动餐具清洗机用的清洗剂组合物要求低起泡性。 为了抑制泡的发生,已知有配混专利文献1中记载的有机硅系的消泡剂的方法。 另外,还已知对于作为非离子性表面活性剂的一种、即普朗尼克(Pluronic)型的 表面活性剂为低起泡性,作为消泡剂而起作用。 另外,作为清洗剂组合物大量配混碱剂而提高了 pH的组合物具有对于来源于食 品的污渍(油污渍、包含油脂、淀粉、蛋白质的复合污渍等)的清洗力强的优点。特别是PH 超过12的组合物具有强的清洗力。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2007-161854号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 然而,在高碱性的清洗剂组合物中配混上述的有机硅系消泡剂时存在有机硅系的 消泡剂不耐碱,因而作为消泡剂的功能降低的问题。 另外,在高碱性环境下使用普朗尼克型的表面活性剂时,判定存在如下问题:末端 的羟基被氧化而导致阴离子化,成为类似阴离子性表面活性剂的结构,所以起泡性增加。 特别是,在pH超过12的高碱性环境下,该倾向明显,尚未得到在pH超过12的高 碱性环境下具有低起泡性的清洗剂组合物。 本专利技术是为了解决上述这样的问题而做出的,其目的在于,提供高碱性且低起泡 性的清洗剂组合物。 用于解决问题的方案 本专利技术人等认识到问题在于,普朗尼克型的表面活性剂这种非离子性表面活性剂 的末端具有羟基,并且着眼于末端的结构进行了深入的研宄。结果发现,在其末端具有包含 氧亚烷基末端的氧原子的缩醛结构的非离子性表面活性剂,即便在高的碱性环境下,末端 的缩醛结构也不会阴离子化,所以保持了非离子性表面活性剂本来具有的低起泡性。 在上述见解的基础上,将末端具有包含氧亚烷基末端的氧原子的缩醛结构的非离 子性表面活性剂与碱剂配混,将pH调节至高的范围,从而制备清洗剂组合物,由此构思出 本专利技术。 即,本专利技术的清洗剂组合物的特征在于,含有下述(A)~(B)成分,pH大于12。 (A)末端具有通式(1)所示的结构的非离子性表面活性剂、 ⑶碱剂【主权项】1. 一种清洗剂组合物,其特征在于,含有下述(A)~(B)成分且pH大于12 : (A) 末端具有通式(1)所示的结构的非离子性表面活性剂; (B) 碱剂,式(1)中,R1为氢原子或烷基,R2和R3为任选包含醚键的烃基,R2与R3任选形成环,A0 为任选相同或不同的氧亚烷基,n为1~400的整数。2. 根据权利要求1所述的清洗剂组合物,其中,所述碱剂为选自由氢氧化钠、氢氧化 钾、原硅酸钠、原硅酸钾、偏硅酸钠、偏硅酸钾及它们的水合物组成的组中的至少1种。3. 根据权利要求1或2所述的清洗剂组合物,其中,所述非离子性表面活性剂在末端具 有通式(2)所示的结构,式⑵中,m为3以上的整数。4. 根据权利要求3所述的清洗剂组合物,其中,所述非离子性表面活性剂在末端具有 通式(3)所示的结构,〇5. 根据权利要求1~4中的任一项所述的清洗剂组合物,其中,所述非离子性表面活性 剂在末端具有通式(4)所示的结构,式(4)中,X为醇的残基或烷基酚的残基。6. 根据权利要求1~5中的任一项所述的清洗剂组合物,其进一步含有(C)氯剂。7. 根据权利要求6所述的清洗剂组合物,其中,所述氯剂为选自由氯化异氰脲酸钠、氯 化异氰脲酸钾、三氯异氰脲酸、次氯酸钠、次氯酸钙和次氯酸钾组成的组中的至少1种。8. 根据权利要求1~7中的任一项所述的清洗剂组合物,其中,所述非离子性表面活性 剂是如下制造的:对于末端具有通式(5)所示的结构的非离子性表面活性剂的氧亚烷基末 端的羟基进行加成反应,从而在末端设置通式(1)所示的缩醛结构,9.根据权利要求8所述的清洗剂组合物,其中,所述加成反应为在酸催化剂下使二氢 吡喃与所述羟基加成的反应。【专利摘要】本专利技术的目的在于提供高碱性且低起泡性的清洗剂组合物,本专利技术的清洗剂组合物的特征在于,含有下述(A)~(B)成分且pH大于12。(A)末端具有通式(1)所示的结构的非离子性表面活性剂、(B)碱剂(式中,R1为氢原子或烷基,R2和R3为任选包含醚键的烃基,R2与R3任选形成环,AO为任选相同或不同的氧亚烷基,n为1~400的整数。)【IPC分类】C11D1-72, C11D3-08, C11D3-04, C11D1-722, C11D3-395, C07C43-315, C08G65-331【公开号】CN104812882【申请号】CN201380058521【专利技术人】森田将基, 伊藤纱菜, 黑瀬健, 曼多拉·里唐伽, 朝日薫 【申请人】株式会社新高【公开日】2015年7月29日【申请日】2013年11月8日【公告号】WO2014073644A2, WO2014073644A3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗剂组合物,其特征在于,含有下述(A)~(B)成分且pH大于12:(A)末端具有通式(1)所示的结构的非离子性表面活性剂;(B)碱剂,式(1)中,R1为氢原子或烷基,R2和R3为任选包含醚键的烃基,R2与R3任选形成环,AO为任选相同或不同的氧亚烷基,n为1~400的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:森田将基伊藤纱菜黑瀬健曼多拉·里唐伽朝日薫
申请(专利权)人:株式会社新高
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1