形成膜层的装置制造方法及图纸

本申请涉及一种形成膜层的装置，以及原子层沉积法或形成膜层的方法。根据本申请，提供了一种能够通过连续原子层沉积有效形成所需膜层的形成膜层的装置，以及采用所述形成膜层的装置的原子层沉积法或形成膜层的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】形成膜层的装置
本申请涉及一种形成膜层的装置以及一种形成膜层的方法。
技术介绍
在各种领域中，均需求形成各种膜层的技术，例如，形成如阻隔层的保形涂层，在电致发光显示器、液晶显示器(LCD)、电泳等中所需求的柔性显示涂层，射频识别(RFID)，微电机系统(MEMS)，光学涂层，柔性基底上的电子组件，柔性基底上的膜层，电致变色，光电动势等等。现有技术文件专利文件1：美国专利申请公开No.2002-0170496专利文件2：美国专利No.4,692,233。
技术实现思路
[技术目的]本申请提供一种形成膜层的装置以及一种形成膜层的方法。[技术方案]本申请提供一种形成膜层的装置，包括，含有至少一个安装成用于传输基底的导辊的传输系统；以及安装成用于在传输的基底表面上形成前驱层的第一处理区。所述处理区包括第一室和设置于第一室上侧或下侧的第二室，并且在第一室中形成通行部，通过该通行部能够将基底从第一室的下侧或上侧引入第二室。所述导辊分别处在第一室和第二室的每一个中，并安装成形成路径，基底能够通过该路径穿过第一室，接着经由所述通行部穿过第二室。[技术效果]根据本申请，提供了形成膜层的装置和采用所述装置形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成膜层的装置，包括：传输系统，其含有至少一个安装成用于传输基底的导辊；以及第一处理区，其安装成用于在要传输的基底的表面上形成前驱体层，其中，所述处理区包括第一室和设置于所述第一室上侧或下侧的第二室，其中在所述第一室中形成通行部，通过该通行部能够将所述基底从所述第一室的上侧或下侧引入所述第二室，以及其中，所述导辊分别位于所述第一室和第二室的每一个中，并被安装成形成路径，通过该路径所述基底能够穿过所述第一室，接着经由所述通行部穿过所述第二室。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.11.30 KR 10-2012-0138318;2013.12.02 KR 10-2011.一种形成膜层的装置，包括：传输系统，其含有至少一个安装成用于传输基底的导辊；以及第一处理区，其安装成用于在要传输的基底的表面上形成前驱体层，其中，所述处理区包括第一室和设置于所述第一室上侧或下侧的第二室，其中在所述第一室中形成通行部，通过该通行部能够将所述基底从所述第一室的上侧或下侧引入所述第二室，以及其中，所述导辊分别位于所述第一室和第二室的每一个中，并被安装成形成路径，通过该路径所述基底能够穿过所述第一室，接着经由所述通行部穿过所述第二室，其中，所述第二室包含有在朝向所述第一室的方向上形成的凸出部。2.根据权利要求1所述的装置，所述装置安装成用于通过原子层沉积形成膜层。3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二室位于所述第一室的上侧或下侧并与所述第一室相接触。4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二室的凸出部插入所述第一室的通行部。5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一室的通行部具有包围所述第二室的要插入的凸出部的外表面的尺寸。6.根据权利要求1所述的装置，进一步包括安装成用于在传输的基底上形成前驱体层或采用惰性气体进行净化操作的第二处理区。7.根据权利要求6所述的装置，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晟焕，金东烈，黄樯渊，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR