有隐蔽性的直击雷防护装置制造方法及图纸

技术编号:11745928 阅读:102 留言:0更新日期:2015-07-18 16:59
本实用新型专利技术涉及防雷技术中的直击雷防护设备领域,具体涉及一种有隐蔽性的直击雷防护装置,包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极、氧化物涌流开关、中和均压环和基座,氧化物涌流开关外套装有防雨裙,高密度电荷聚集极、中和均压环和基座的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面,该装置结构简单,增加了高密度电荷聚集极的表面积,提高了防雷性能,且装置的表面为漫反射,适用于有隐蔽要求的场所。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及防雷技术中的直击雷防护设备领域,具体涉及一种有隐蔽性的直击雷防护装置
技术介绍
随着全球工业化的发展,全球气温升高导致极端天气更加频繁,而大气污染使得空气中的带电颗粒增多,增加雷云的电荷的数量,使得雷电次数和雷电强度增大,增加了雷电防护的强度和难度,这对我们的防雷设备提出了更高更新的要求。uro直击雷保护装置和避雷针的作用类似,性能更为优良,uro直击雷防护装置的高密度电荷聚集极是实现本装置主要指标的关键部件之一,高密度电荷聚集极上聚集电荷越多,中和雷电下行先导中的电荷的能力越强,UPD直击雷防护装置其雷电场的电场强度控制能力越强。国防军事建设现在已经基本上涵盖了各个行业,既有油料库、火工品库等易燃易爆危化物品的储备场所,又有内部安装了“高精尖”电子信息设备和计算机系统的通信大楼和指挥车等,这些场所具有极高的军事战略意义,均不适宜安装“引雷入地”的避雷针,同时这些场所还需要有隐蔽要求。而现有的UPD直击雷防护装置的金属部件进行了光面处理,其对光和波的反射为镜面反射,容易形成强反射暴露性目标,不符合场所的隐蔽要求。
技术实现思路
根据以上现有技术中的不足,本技术要解决的技术问题是:提供一种有隐蔽性的直击雷防护装置,结构简单,能有效的防御主动雷击,且适用于不能引雷入地或者有隐蔽要求的场所。本技术所述的有隐蔽性的直击雷防护装置,包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极、氧化物涌流开关、中和均压环和基座,氧化物涌流开关外套装有防雨裙,高密度电荷聚集极、中和均压环和基座的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面。高密度电荷聚集极、中和均压环和基座外表面有均匀细微的凹凸面,这些凹凸面通过喷砂工艺形成,这些凹凸面大大增加了高密度电荷聚集极的表面积,使得高密度电荷聚集极聚集感应电荷的数量成倍增多,从而提高了本装置中和雷电下行先导的能力,并增强了装置防止雷电向保护区推进的功能,提高了本装置的主要性能指标;装置的凹凸面使得装置表面的“镜面反射”变为“漫反射”,从而使得该装置具有了较强的隐蔽性,特别适用于有隐蔽需求的国防设施雷电主动防护。所述的凹凸面的粗糙度为Ry60-200 μπι,使高密度电荷聚集极增加的表面积达到性能指标的要求。所述的基座为法兰结构,基座起固定作用,法兰结构方便安装连接,基座上设有与大地相连接的引下线。所述的防雨裙为3-5层的伞形竖直重叠结构,相邻伞形体之间的距离为22-24_,伞形体伞面结构为30° ±5°,该结构能有效的防止雨水对氧化物涌流开关形成短路。本技术与现有技术相比所具有的有益效果是:有隐蔽性的直击雷防护装置结构简单,增加了高密度电荷聚集极的表面积,提高了防雷性能,且装置的表面为漫反射,适用于有隐蔽要求的场所。【附图说明】图1、图2是本技术的结构示意图。图中:1、高密度电荷聚集极;2、氧化物涌流开关;3、防雨裙;4、中和均压环;5、基座;6、引下线。【具体实施方式】下面结合附图对本技术的实施例做进一步描述:如图1和图2所示,有隐蔽性的直击雷防护装置包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极1、氧化物涌流开关2、中和均压环4和基座5,氧化物涌流开关2外套装有防雨裙3,高密度电荷聚集极1、中和均压环4和基座5的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面。凹凸面的粗糙度为Ry60_100 μπι。基座5为法兰结构,基座5上设有与大地相连接的引下线6。防雨裙3为4层的伞形竖直重叠结构,相邻伞形体之间的距离为22_,伞形体伞面结构为30° ο高密度电荷聚集极1、中和均压环4和基座5这三个部件均为不锈钢材质,在不锈钢材料抛光完成后,进行表面结构物理处理。表面结构物理处理方式为喷砂处理,采用压缩空气为动力,以形成高速喷射束将特定规格的喷料高速喷射到需要处理的高密度电荷聚集极1、中和均压环4和基座5表面,使工件的表面获得一定的清洁度和粗糙度,增大工件的表面积,提高防雷性能,并使得装置原来的不锈钢材质的镜面反射变为漫反射,降低了装置的反光性,使其具有一定的隐蔽性,适宜安装在具有隐蔽要求的场所。【主权项】1.一种有隐蔽性的直击雷防护装置,包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极(I)、氧化物涌流开关(2)、中和均压环(4)和基座(5),氧化物涌流开关⑵外套装有防雨裙(3),其特征在于:高密度电荷聚集极(I)、中和均压环(4)和基座(5)的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面。2.根据权利要求1所述的有隐蔽性的直击雷防护装置,其特征在于:所述的凹凸面的粗糙度为Ry60-200 ym。3.根据权利要求1或2所述的有隐蔽性的直击雷防护装置,其特征在于:所述的基座(5)为法兰结构,基座(5)上设有与大地相连接的引下线(6)。4.根据权利要求3所述的有隐蔽性的直击雷防护装置,其特征在于:所述的防雨裙(3)为3-5层的伞形竖直重叠结构,相邻伞形体之间的距离为22-24_,伞形体伞面结构为30。±5。。【专利摘要】本技术涉及防雷技术中的直击雷防护设备领域,具体涉及一种有隐蔽性的直击雷防护装置,包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极、氧化物涌流开关、中和均压环和基座,氧化物涌流开关外套装有防雨裙,高密度电荷聚集极、中和均压环和基座的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面,该装置结构简单,增加了高密度电荷聚集极的表面积,提高了防雷性能,且装置的表面为漫反射,适用于有隐蔽要求的场所。【IPC分类】H02H9-02, H01B17-42【公开号】CN204481469【申请号】CN201520154946【专利技术人】孙海燕, 张辉 【申请人】山东金苹果实业有限公司【公开日】2015年7月15日【申请日】2015年3月18日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有隐蔽性的直击雷防护装置,包括由上至下依次安装的高密度电荷聚集极(1)、氧化物涌流开关(2)、中和均压环(4)和基座(5),氧化物涌流开关(2)外套装有防雨裙(3),其特征在于:高密度电荷聚集极(1)、中和均压环(4)和基座(5)的外表面为由喷砂工艺形成的均匀细微的凹凸面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙海燕张辉
申请(专利权)人:山东金苹果实业有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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