降低电脑屏幕反射率的薄膜材料制造技术

本发明专利技术公开了一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料。该薄膜材料是采用本领域常用的真空蒸镀法将Cr和SiO2组成的蒸发膜料均匀蒸镀在透明薄膜上制备而成。本发明专利技术的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料未用传统的ITO透明导电膜，降低了生产成本，且其光学性能优良，明显减少电脑反射光，本发明专利技术的薄膜材料可以直接贴在电脑显示器上，应用方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电脑保护膜，具体涉及一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料。
技术介绍
电脑与现代人的生活有着密切的关系，很多人在一天的大部分时间面对着电脑屏幕。电脑的工作原理会造成在电脑屏幕上积累电荷,造成吸附灰尘,与周围物体放电等不良后果。同时,电脑产生的电磁辐射光、反射光，在长时间面对电脑时，眼睛容易疲劳，发红丝，视力下降，甚至严重影响身体健康，如头晕，头痛，注意力不集中等。传统的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料是采用一层ITO膜与其他介质匹配的方法，但此方法方制备方法复杂、制作成本高等缺点,
技术实现思路
本专利技术提供一种价格低廉、制备工艺简单的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料。本专利技术的技术方案为如下：一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，包括底模，其特征在于，在底模上蒸镀有蒸发膜料，所述蒸发膜料为Cr和SiO2。本专利技术中，所述在底模上蒸镀有蒸发膜料的工艺采用真空蒸镀法。本专利技术中，所述真空蒸镀法采用的真空度为6-9×10-3Pa。本专利技术中，在底模上蒸镀蒸发膜料时，所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。本专利技术中，所述底模为透明薄膜。进一步，所述透明薄膜为PE、PVC或PVDC薄膜。本专利技术的有益效果：本专利技术采用普通的真空蒸镀的方法将Cr与SiO2镀膜材料蒸镀在普通的透明薄膜材料中，未用传统的ITO透明导电膜,降低了生产成<br>本。本专利技术的薄膜材料光学性能优良，明显减少反射光，在可见区，其反射率降低至0.5%以下。本专利技术的薄膜材料可以直接贴在电脑显示器上，应用方便。具体实施方式下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本专利技术，但不以任何方式限制本专利技术。实施例中所述试验方法，如无特殊说明，均为常规方法；所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得，或可以常规方法制备。实施例1一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，是采用本领域常用的真空蒸镀法将Cr和SiO2组成的蒸发膜料均匀蒸镀在PVC透明薄膜上制备而成的。在上述真空蒸镀法蒸镀蒸发膜料时，装置的真空度控制在7.2×10-3Pa，所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。实施例2一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，是采用本领域常用的真空蒸镀法将Cr和SiO2组成的蒸发膜料均匀蒸镀在PE透明薄膜上制备而成的。在上述真空蒸镀法蒸镀蒸发膜料时，装置的真空度控制在8.2×10-3Pa，所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，包括底模，其特征在于，在底模上蒸镀有蒸发膜料，所述蒸发膜料为Cr和SiO2。

【技术特征摘要】
1.一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，包括底模，其特征在于，在底模
上蒸镀有蒸发膜料，所述蒸发膜料为Cr和SiO2。
2.根据权利要求1所述的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，其特征在于，
所述在底模上蒸镀有蒸发膜料的工艺采用真空蒸镀法。
3.根据权利要求2所述的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料，其特征在于，
所述真空蒸镀法采用的真空度为6-9×10-3Pa。
4.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，
申请(专利权)人：大连奥林匹克电子城咨信商行，
类型：发明
国别省市：辽宁;21