一种包含保护釉层的抛釉瓷砖制造技术

技术编号:11590707 阅读:60 留言:0更新日期:2015-06-10 23:23
本实用新型专利技术一种包含保护釉层的抛釉瓷砖,其包括瓷砖本体,及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层,所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层,其中,所述塑化膜层是丹宁酸薄膜层;所述过渡层是生料透明釉层。本实用新型专利技术所提供的包含新型保护釉层的抛釉瓷砖相较于现有的抛釉瓷砖,其图案印花图案更为清晰、成品率较高,能够有效克服了深色及大规格抛釉瓷砖的图案在施透明釉后变模糊问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种抛釉瓷砖,尤指一种包含保护釉层的抛釉瓷砖
技术介绍
图案逼真、釉面光亮的抛釉瓷砖,由于装饰效果奢华,已在市场流行一段时间,但产品的生产工艺始终未完善,其中印花图案模糊及釉表面缺陷一直是陶瓷业界难以彻底攻关解决的课题。目前,行业生产抛釉瓷砖方法中,普遍是用网版印刷方法或者用淋釉的方法,在图案上面直接上一道具有一定厚度的透明保护釉层,这种工艺方法施釉量难以操控,效果不稳定,特别是对于深色喷墨产品和丝网印花产品,由于透明保护釉面与墨水或花釉的不相容问题,会使图案变模糊,并且容易产生凹釉、缩釉、卷釉等表面缺陷,影响产品成品的合格率。同时以上工艺还受到产品规格影响,如1000*1000mm、800*2000等大规格产品,用印保护釉的方法是很难实现的。而目前已有的喷釉的工艺设备为锥形喷嘴或水刀喷嘴,这些喷釉设备无法实现极小施釉量的均匀性,也容易堵塞。
技术实现思路
本技术所解决的技术问题是:为了克服深色及大规格产品印花抛釉瓷砖的图案变模糊问题,本技术提供了一种包含新型保护釉层的抛釉瓷砖。为解决上述技术问题,本技术所采用的技术手段如下所述:一种包含保护釉层的抛釉瓷砖,其包括瓷砖本体,及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层,所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层,其中,所述塑化膜层是丹宁酸薄膜层;所述过渡层是生料透明釉层。所述生料透明釉层的厚度为0.1mm以下。本技术所产生的有益效果:本技术中提供了一种包含新型保护釉层的抛釉瓷砖,该抛釉瓷砖相较于现有的抛釉瓷砖,其图案印花图案更为清晰、成品率较高。附图说明图1为本技术包含保护釉层的抛釉瓷砖的剖视图。图2为本技术包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法的流程图。具体实施方式请参见图1,即本技术中包含保护釉层的抛釉瓷砖的剖视图。该抛釉瓷砖包括瓷砖本体1,以及覆盖于该瓷砖本体1表面的保护釉层2。其中,该保护釉层2自下至上包括塑化膜层21、过渡层22及熟料熔块透明釉层23。其中,所述塑化膜层21是丹宁酸薄膜层;所述过渡层22是生料透明釉层。该生料透明釉层的厚度为0.1mm以下。进一步讲,该塑化膜层21是质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液;该过渡层22为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆。其中,塑化膜层21具有隔离作用,能在图案上形成一层塑化膜,保证印刷的图案清晰度。在实际生产中尤以质量百分比浓度为5%的丹宁酸水溶液所起到的隔离效果最好。过渡层22为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆,其是塑化膜层21与熟料熔块透明釉层23的过渡层,具有保护釉面平整度、减少釉面与图案层产生不良反应的作用。而熟料熔块透明釉层23的作用是使图案更透亮并形成釉下彩效果。本技术所提供的包含新型保护釉层的抛釉瓷砖相较于现有的抛釉瓷砖,其图案印花图案更为清晰、成品率较高,能够有效克服了深色及大规格抛釉瓷砖的图案在施透明釉后变模糊问题。图2为本技术明包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法的流程图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包含保护釉层的抛釉瓷砖,其包括瓷砖本体,及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层,其特征在于,所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层,其中,所述塑化膜层是丹宁酸薄膜层;所述过渡层是生料透明釉层。

【技术特征摘要】
1.一种包含保护釉层的抛釉瓷砖,其包括瓷砖本体,及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层,其特征在于,所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层,
其中,...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶德林王宇基王选旺关浩宁朱光耀黄春林韦前
申请(专利权)人:佛山市三水新明珠建陶工业有限公司广东新明珠陶瓷集团有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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