一种超平厚抛釉及超平厚抛釉瓷质砖的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种超平厚抛釉，釉由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为(10～30)：100。本发明专利技术的超平厚抛釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成，使釉面在高温下快速地流平，熔融性能良好；再通过不同材料的搭配，使得釉面高温粘度小，便于釉层气体排出，保证釉面的平滑效果和釉层气泡较小较少。检测结果显示，使用本发明专利技术超平厚釉制造得到的超平厚抛釉瓷质砖，1.6mm直径视域内气泡个数仅为1～3个，气泡直径仅为0.02mm～0.06mm，气泡少且小，釉层通透感更好；超平厚抛釉抛光后光泽度可达105度～110度，高于普通全抛釉的95度～100度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷釉料生产
，特别涉及。
技术介绍
目前普通全抛釉瓷质砖生产工艺是在印好花的仿古砖坯表面印上或者淋上一层透明全抛釉，进入窑炉高温一次烧成后，采用弹性模块抛光而成。该产品全抛釉厚度烧后比较薄，为满足抛光需求，抛光机模块一般都采用弹性模块进行抛光。由于采用弹性模块，因此该类型产品经铺贴后在灯管下可观察到砖面并不平整，尤其是砖与砖的衔接处，容易产生类似“水波纹”的现象，极大的影响了空间的整体美观性。为克服该不足，该项目对透明全抛釉配方体系进行调整，将淋在仿古砖坯表面的透明釉层厚度加厚到0.4-0.5_，经窑炉高温一次烧成出窑后，烧成时间为60分钟~70分钟，采用弹性模块与硬性模块相结合的方法对砖坯进行抛光，得到发色更好，层次和立体感更强，平整度更高的超平厚抛釉瓷质砖产品O超平厚抛釉瓷质砖生产过程中淋的透明抛釉厚度很厚，是普通抛釉砖产品淋釉厚度的2~4倍，高温时排气要比普通全抛釉困难，要求釉料具有合适的高温粘度和较宽的烧成范围，这对釉料配方体系和窑炉烧成制度提出了更高的要求。实现在一定的高温粘度下尽可能减少釉层中的气泡量，同时又保证其具有足够宽的烧成范围，是本项目产品开发的一个难点。超平厚抛釉瓷质砖产品，在外观上立体感好、透明度高。与普通全抛釉产品相比，立体感更强，层次感更好，平整度更高。搭配陶瓷喷墨打印装饰手法，可以打印出细腻、逼真的画面，颠覆了传统的装饰效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种超平厚抛釉。本专利技术的另一个目的在于提供一种超平厚抛釉瓷质砖的制造方法。本专利技术所采取的技术方案是:一种超平厚抛釉釉料，由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为(10~30):100。优选的，上述种超平厚抛釉釉料中，熔块的组成为:A12035~9份、Si0260~68份、CaO 16~20份、K2O 2~5份、ZnO 5~7份、MgO I~3份，所述份数为质量份。优选的，上述种超平厚抛釉釉料中，生料的组成为:A12037~11份、Si0252~58份、K2O 3~6份、Na2O I~3份、ZnO 4~8份、BaO 5~8份、MgO 4~7份、CaO 8~12份，所述份数为质量份。优选的，上述种超平厚抛釉釉料中，熔块的组成为:A12036~8份、Si0260~66份、CaO 17~20份、K2O 3~5份、ZnO 5~6份、MgO I~3份；生料的组成为:A12037~10份、Si0252.5 ~57 份、K2O 3 ~6 份、Na2O 2 ~3 份、ZnO 6 ~8 份、BaO 5 ~8 份、MgO 5 ~7 份、CaO 8.5~12份,所述份数为质量份。一种超平厚抛釉的制造方法，包括在砖坯面上施一层底釉，再施一层上述的超平厚抛釉，然后经1150~1250°C烧成得到产品。优选的，所述底釉的组成为=Al2O3 26~32份、SiO2 57~63份、CaO I~3份、MgOI~2份、ZnO I~3份、K2O 2~4份、Na2O 4~6份，所述份数为质量份。本专利技术的超平厚抛釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成，使釉面在高温下快速地流平，熔融性能良好；再通过不同材料的搭配，使得釉面高温粘度小，便于釉层气体排出，保证釉面的平滑效果和釉层气泡较小较少。采用半生料半熔块的配方设计，使配方更加稳定，适应不同的工艺条件和窑炉温度。通生料和熔块的不同比例调节超平厚抛釉的烧成温度和釉层气泡情况。本专利技术的超平厚抛釉，具有较低的高温粘度和较宽的烧成范围，通过调节低温熔块和高温熔块的配比，可适用于不同的烧成温度，方便灵活，可以适用于不同的产品。使用本专利技术的超平厚抛釉制造的超平釉瓷砖，超平厚抛釉抛光后釉层厚度达0.3mm，远远高于普通全抛釉的0.1mm，立体感更强，由于釉层更厚，抛光难度小，优等率大幅提高。对抛光后的成品瓷砖的釉层气泡情况进行检测，发现1.6mm直径视域内气泡个数仅为I~3个,气泡直径为0.02mm~0.06mm,优于普通全抛釉(1.6mm直径视域内气泡个数为5~8个,气泡直径为0.05mm~0.1mm),气泡更少更小,釉层通透感更好；超平厚抛釉抛光后光泽度可达105度~110度，高于普通全抛釉的95度~100度。【具体实施方式】一种超平厚抛釉，由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为(10~30):100。优选的，所述熔块的组成为:A12035~9份、Si0260~68份、CaO 16~20份、K2O2~5份、ZnO 5~7份、MgO I~3份，所述份数为质量份。优选的，所述生料的组成为:A12037~11份、Si025 2~58份、K2O 3~6份、Na2OI~3份、ZnO 4~8份、BaO 5~8份、MgO 4~7份、CaO 8~12份，所述份数为质量份。优选的，上述种超平厚抛釉釉料中，熔块的组成为:A12036~8份、Si0260~66份、CaO 17~20份、K2O 3~5份、ZnO 5~6份、MgO I~3份；生料的组成为:A12037~10份、Si0252.5 ~57 份、K2O 3 ~6 份、Na2O 2 ~3 份、ZnO 6 ~8 份、BaO 5 ~8 份、MgO 5 ~7 份、CaO 8.5~12份,所述份数为质量份。熔块按现有的工艺熔制好，之后水淬，破碎得到。熔块原料为本领域技术人员所熟知的钾长石、钠长石、白云石、石灰石、碳酸钠、氧化铝等。生料是由经过品检的化工原材料按照配方比例混合均匀。一种超平厚抛釉瓷质砖的制造方法，包括在砖坯面上施一层底釉，再施一层上述的超平厚抛釉，然后经1150~1250°C烧成得到产品。优选的，所 述底釉的组成为=Al2O3 26~32份、SiO2 57~63份、CaO I~3份、MgOI~2份、ZnO I~3份、K2O 2~4份、Na2O 4~6份，所述份数为质量份。下面结合【具体实施方式】，进一步说明本专利技术。如无特殊说明，以下实施例中的份数均指质量份。实施例11)一种超平厚抛釉釉料，由熔块和生料组成，其中，熔块的组成为=Al2O3 8份、SiO2 66份、CaO 17 份、K2O 3 份、ZnO 5 份、MgO I 份;生料的组成为=Al2O3IO 份、Si025 7 份、K2O 4 份、Na2O 2份、ZnO 6份、BaO 6份、MgO 6份、CaO 9份；将熔块和生料按10: 100的质量比混合球磨成釉浆，将超平厚抛釉釉浆的比重调至1.85g /ml ； 2)在660mmX660mm的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为180g;再在施了底釉的砖坯上施一层上述的超平厚抛釉，采用淋釉工艺，施釉量为500 g，1230°C烧成；其中，所述底釉的组成为:A120329份、Si0260份、CaO 2份、K2O 3份、Na2O 4份，MgO 1份、ZnO 1份，将底釉釉浆的比重调至1.85g /ml ;烧成后厚抛釉釉面厚度达到0.4mm ； 3)将烧成的瓷砖抛光，得到超平厚抛釉瓷质砖。实施例2 1)一种超平厚抛釉釉料，由熔块和生料组成，其中，熔块的组成为=Al2O3 7份、SiO2 65份、CaO 18份、K2O 3份、ZnO 6份、MgO 1份；生料的组成为:A12039份、SiO2 56份、K2O 4份、Na2O 2份、ZnO本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超平厚抛釉，由熔块和生料组成，其特征在于：熔块与生料的质量比为(10～30)：100。

【技术特征摘要】
1.一种超平厚抛釉，由熔块和生料组成，其特征在于:熔块与生料的质量比为(10~30):100。2.根据权利要求1所述的超平厚抛釉，其特征在于:所述熔块的组成为=Al2O35~9份、SiO2 60~68份、CaO 16~20份、K2O 2~5份、ZnO 5~7份、MgO I~3份，所述份数为质量份。3.根据权利要求1或2所述的超平厚抛釉，其特征在于:所述生料的组成为:A12037~11份、SiO2 52 ~58 份、K2O 3 ~6 份、Na2O I ~3 份、ZnO 4 ~8 份、BaO 5 ~8 份、MgO 4 ~7份、CaO 8~12份,所述份数为质量份。4.一种超平厚抛釉瓷质砖的制造方法，包括在砖坯面上施一层底釉，再施一层权利要求I~3任意一项所述的超平厚抛釉釉浆，然后经1150~1250°C烧成得到产品。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈奕，饶培文，梁志雄，程科恺，
申请(专利权)人：广东道氏技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44