一种绿豆的栽培方法技术

本发明专利技术涉及绿豆种植技术领域，特别涉及一种绿豆的栽培方法：控制垄距80cm，垄面宽20cm，垄高2~3cm；垄两侧各播种1行绿豆，绿豆穴距12~13cm，每穴2粒种子。解决高产条件下绿豆群体与个体矛盾、实现早封垄、增加叶面积指数、增加肥料利用率等问题，最终达到在高产的前提下，实现绿豆优质和节本增效；有利于个体发育，早封垄，最大叶面积指数、光能利用率、肥料利用率增加，产量增加6-8%。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种绿豆的栽培方法，其特征在于包括以下步骤：（1）控制垄距80cm，垄面宽20cm，垄高2~3cm；（2）垄两侧各播种1行绿豆，亩播种量一般在1.8千克，播种深度在4.0厘米，米间保苗11—15株。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨帅旗，
申请(专利权)人：杨帅旗，
类型：发明
国别省市：山东;37