触控显示面板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种触控显示面板的制作方法，其包括在彩膜基板的内侧沉积触控金属层，并对触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；在彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；在彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；在彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；以及对彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒。本发明专利技术的触控显示面板的制作方法将触控金属层以及公共电极均设置在触控显示面板的内部，制作流程简单，且降低了触控显示面板的制作成本。

【技术实现步骤摘要】
触控显示面板的制作方法
本专利技术涉及液晶显示领域，特别是涉及一种触控显示面板的制作方法。
技术介绍
随着科技的发展，越来越多的电子产品需要通过触控显示屏与用户进行交互。其中电容式触控显示屏由于其特有的轻薄以及高灵敏度，被广泛用于电子设备的面板领域内。传统的触控显示面板一般将用于触控操作的感应引线以及驱动引线制作在液晶盒的外侧，这种结构的触控显示面板需要在完成阵列基板和彩膜基板的对盒操作后，对设置液晶盒外侧的触控金属层进行刻蚀操作，才能形成相应的感应引线以及驱动引线；制作流程较为复杂，且制作成本较高。故，有必要提供一种触控显示面板的制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种制作流程简单且制作成本较低的触控显示面板的制作方法；以解决现有的触控显示面板的制作方法的制作流程复杂以及制作成本较高的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术实施例提供一种触控显示面板的制作方法，其包括：在彩膜基板的内侧沉积触控金属层，并对所述触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；在所述彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；在所述彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对所述彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；在所述彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；以及对所述彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒；其中当所述触控显示面板处于显示模式时，所述公共电极用于传输公共信号；当所述触控显示面板处于触控模式时，所述公共电极用于传输触控驱动信号。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述触控感应线在所述公共电极层上的投影与所述公共电极垂直。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述触控感应线的线宽为3毫米至9毫米；所述公共电极的线宽为3毫米至9毫米。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，黑色矩阵的宽度大于相邻的所述公共电极之间的间距。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述对所述彩膜基板和阵列基板进行对盒处理的步骤之后还包括：通过粘结层在所述彩膜基板的外侧设置玻璃盖板。本专利技术实施例提供一种触控显示面板的制作方法，其包括：在彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；在所述彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对所述彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；在所述彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；对所述彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒；以及在所述彩膜基板的外侧沉积触控金属层，并对所述触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；其中当所述触控显示面板处于显示模式时，所述公共电极用于传输公共信号；当所述触控显示面板处于触控模式时，所述公共电极用于传输触控驱动信号。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述触控感应线在所述公共电极层上的投影与所述公共电极垂直。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述触控感应线的线宽为3毫米至9毫米；所述公共电极的线宽为3毫米至9毫米。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，黑色矩阵的宽度大于相邻的所述公共电极之间的间距。在本专利技术所述的触控显示面板的制作方法中，所述在彩膜基板的外侧沉积触控金属层，并对所述触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线的步骤之后还包括：通过粘结层在所述彩膜基板的外侧设置玻璃盖板。相较于现有的触控显示面板的制作方法，本专利技术的触控显示面板的制作方法将触控金属层以及公共电极均设置在触控显示面板的内部，制作流程简单，且降低了触控显示面板的制作成本；解决了现有的触控显示面板的制作方法的制作流程复杂以及制作成本较高的技术问题。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：附图说明图1为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第一优选实施例的流程图；图2为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第一优选实施例中的触控感应线和公共电极的相对位置关系图；图3为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S106之后的触控显示面板的结构示意图；图4为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第二优选实施例的流程图；图5为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S206之后的触控显示面板的结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。请参照图1和图3，图1为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第一优选实施例的流程图；图3为本专利技术的触控显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S106之后的触控显示面板的结构示意图。本优选实施例的触控显示面板的制作方法包括：步骤S101，在彩膜基板的内侧沉积触控金属层，并对触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；步骤S102，在彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；步骤S103，在彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；步骤S104，在彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；步骤S105，对彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒；步骤S106，通过粘结层在彩膜基板的外侧设置玻璃基板。本优选实施例的触控显示面板的制作方法结束于步骤S105。下面详细说明本优选实施例的触控显示面板的制作方法的各步骤的具体流程。在步骤S101中，在彩膜基板13的内侧沉积透明的触控金属层，然后对触控金属层进行曝光、显影、刻蚀等图形化处理的步骤后，在彩膜基板13的内侧形成触控感应线14，该触控感应线14用于传输触控操作的触控感应信号。该触控感应线14的线宽优选为3毫米至9毫米，以便于较好的感应触控操作。在步骤S102中，在形成了触控感应线14的彩膜基板13的内侧沉积黑色矩阵层，然后对黑色矩阵层进行曝光、显影等图形化处理的步骤后，在彩膜基板13的内侧形成黑色矩阵15。该黑色矩阵15设置在相邻像素单元之间，防止相邻像素之间漏光现象的发生。该黑色矩阵15可直接设置在彩膜基板13的内侧，或设置在彩膜基板13的内侧的触控感应线14上。在步骤S103中，在形成了黑色矩阵15的彩膜基板13的内侧沉积彩色色阻层，然后对彩色色阻层进行曝光、显影等图形化处理的步骤后，在彩膜基板13的内侧形成红、绿、蓝等彩色色阻16。该彩色色阻16用于将白光转换为彩色光，以显示相应的色彩图像。该彩色色阻16可直接设置在彩膜基板13的内侧，或设置在彩膜基板13的内侧的触控感应线14上。黑色矩阵15设置在相邻的彩色色阻16之间。在步骤S104中，在形成了彩色色阻16的彩膜基板13的内侧沉积透明的公共电极层，然后对公共电极层进行曝光、显影以及刻蚀等图形化处理的步骤后，在彩膜基板13的内侧的彩色色阻16和黑色矩阵15上形成公共电极17。该公共电极17用于传输公共信号或触控驱动信本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在彩膜基板的内侧沉积触控金属层，并对所述触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；在所述彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；在所述彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对所述彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；在所述彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；以及对所述彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒；其中当所述触控显示面板处于显示模式时，所述公共电极用于传输公共信号；当所述触控显示面板处于触控模式时，所述公共电极用于传输触控驱动信号。

【技术特征摘要】
1.一种触控显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在彩膜基板的内侧沉积黑色矩阵层，并对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以形成黑色矩阵；在所述彩膜基板的内侧沉积彩色色阻层，并对所述彩色色阻层进行图形化处理，以形成彩色色阻；在所述彩膜基板的内侧沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行图形化处理，以形成公共电极；对所述彩膜基板和阵列基板进行对盒处理，以形成液晶盒；以及在所述彩膜基板的外侧沉积触控金属层，并对所述触控金属层进行图形化处理，以形成触控感应线；其中当所述触控显示面板处于显示模式时，所述公共电极用于传输公共信号；当所述触控显示面板处于触控模式时，所述公共电极用于传输触控驱...

【专利技术属性】
技术研发人员：王聪，杜鹏，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44