导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置制造方法及图纸

导电膜是设置于显示装置的显示单元上，且包括：一个以上的透明基体；及两层以上的配线层，呈层状配置于透明基体的两面或两个以上的透明基体的各单面，且具有规则性排列。将配线层的配线图案重叠于显示单元的像素阵列图案，且将下层的配线图案相对于上层偏移相位地配置。当将利用配线图案的空间频率特性与像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用配线图案的一半的空间频率特性与像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≤fm2。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置
本专利技术涉及一种用于触控传感器(touchsensor)、触摸屏(touchpanel)等的导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置，尤其涉及一种不依存于视角(观察角)而减少叠纹(moire)产生的导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置。
技术介绍
作为设置于显示装置(以下也称为显示器(display))的显示单元(displayunit)上的导电膜，例如可列举电磁波屏蔽(electromagneticwaveshield)用导电膜及触摸屏用导电膜等(例如参照专利文献1及专利文献2)。在专利文献1中，揭示有提供如下配线图案的技术：该配线图案是在生成电磁波屏蔽膜的配线图案时，仅根据显示器的黑色矩阵(blackmatrix)图案与配线图案的频率信息，控制叠纹频率，且可见性优异。在专利文献1中，具体而言，揭示有如下内容：自动选定利用第2图案数据(patterndata)生成的第2图案，该第2图案数据是显示器的像素阵列图案(例如黑色矩阵(以下也称为BM)图案)等第1图案、及例如电磁波屏蔽图案等第2图案的各自图案数据的二维傅立叶频谱(二维高速傅立叶变换频谱(2DFFTSp，TwoDimensionalFastFourierTransformSpectrum))的频谱峰值(spectrumpeak)间的相对距离超过规定的空间频率、例如8cm-1者。再者，在专利文献1中，也揭示有如下内容：当上述相对距离未超过规定的空间频率的情形时，重复进行使第2图案数据的旋转角度、间距(pitch)、图案宽度中的一个以上变化，生成新的第2图案数据的处理，直至上述相对距离超过规定的空间频率为止。以此方式，在专利文献1中，可自动地选定可抑制叠纹产生，也可避免表面电阻率增大及透明性劣化的电磁波屏蔽图案。专利文献2的触摸屏用导电薄片包括：第1导电部，形成于基体的其中一个主面；及第2导电部，形成于基体的另一个主面。第1导电部是分别在第1方向延伸且排列于与第1方向正交的第2方向，并且包括两个以上的第1透明导电图案。第2导电部是分别在第2方向延伸且排列于第1方向，并且包括两个以上的第2透明导电图案。当自上面观察时，设为将第1透明导电图案与第2透明导电图案交叉地配置的形态，且在与第1方向及第2方向不同的方向上偏移。由此，在专利文献2中，成为多个空间频率结合所得的形态，其结果，与液晶显示装置的像素阵列的干涉得以抑制，有效地减少叠纹产生。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2009-117683号公报[专利文献2]日本专利特开2011-237839号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]专利文献1是将电磁波屏蔽者，且电磁波屏蔽图案仅存在于一层。此处，在电磁波屏蔽图案为两层以上的情形时，必须考虑正面观察时叠纹的减少、及视角变更时叠纹的减少。然而，专利文献1是仅一层的叠纹最佳化手法，无法适用于存在多层配线的触摸屏等。另外，在专利文献2中，虽对两层结构的透明导电图案的叠纹进行了考量，但对视角变化时的叠纹未进行任何考量。如此般，现状如下所述：在存在多层配线图案的触摸屏等中，尚无对因视角变化引起的叠纹的产生、及降低叠纹产生而进行考量者。本专利技术的目的在于提供一种可不依存于视角(观察角)地减少叠纹产生，尤其即便重叠于显示面板等的显示单元也可发挥优异可见性的导电膜、具备该导电膜的触摸屏及显示装置。[解决问题的技术手段]为实现上述目的，本专利技术的第1实施方式提供一种导电膜，该导电膜是设置于显示装置的显示单元上者，其特征在于包括：一个或两个以上的透明基体；及两层以上的配线层，形成于一个透明基体的两面或两个以上的透明基体各自的其中一个单面，且配置为层状，具有规则性排列；且配线层的配线图案重叠于显示单元的像素阵列图案，将下层配线层的配线图案相对于上层偏移相位而配置，当将利用配线层的配线图案的空间频率特性与显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用配线层的配线图案的一半的空间频率特性与显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≦fm2。此处，优选为配线层的配线图案的空间频率特性是相对于透明基体垂直的方向上的空间频率特性，且配线层的配线图案的一半的空间频率特性是相对于透明基体倾斜规定角度的方向上的空间频率特性。另外，优选为在透明基体的两面形成有配线层。另外，优选为层叠有多层在其中一个面形成有配线层的透明基体。另外，优选为配线层具有形成为网状且排列有多个开口部的配线图案。另外，优选为像素阵列图案为显示单元的黑色矩阵图案。另外，为实现上述目的，本专利技术的第2实施方式提供一种触摸屏，该触摸屏的特征在于包括：本专利技术第1实施方式的导电膜；以及检测控制部，在形成有配线层的区域，检测自外部接触于导电膜的位置。另外，为实现上述目的，本专利技术的第3实施方式提供一种显示装置，该显示装置的特征在于包括：显示单元；以及本专利技术的第1实施方式的导电膜，设置于该显示单元上。另外，为实现上述目的，本专利技术的第4实施方式提供一种显示装置，该显示装置的特征在于包括：显示单元；以及本专利技术的第1实施方式的导电膜，设置于该显示单元上。[专利技术的效果]根据本专利技术，不仅在正面，而且在使视角变化的情形时，也可不依存于视角地减少叠纹。尤其，根据本专利技术，可提供一种即便重叠于显示面板等的显示单元也可使可见性提升从而发挥优异的可见性的导电膜、触摸屏及显示装置。由此，对于具备本专利技术的导电膜的触摸屏及显示装置，可使画质进一步提升。附图说明图1是表示本专利技术实施形态的显示装置的一例的示意图。图2(a)是表示本专利技术实施形态的导电膜的一例的示意性剖面图，图2(b)是表示本专利技术实施形态的导电膜的配线图案的一例的示意图。图3是表示本专利技术实施形态的导电膜的另一例的示意性剖面图。图4是表示应用本专利技术的导电膜的液晶显示部的一部分像素阵列图案的一例的示意图。图5是表示在图2(a)所示的导电膜中因视角差异而产生的配线图案像的示意图。图6是表示叠纹的频率峰值位置的图表。图7(a)是表示视角为0°的配线图案的示意图，图7(b)是表示图7(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。图8(a)是表示视角不为0°的配线图案的示意图，图8(b)是表示图8(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。图9(a)是表示视角为0°的配线图案的示意图，图9(b)是表示图9(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。图10(a)是表示视角不为0°的配线图案的示意图，图10(b)是表示图10(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。图11(a)及图11(b)是分别表示满足本专利技术的叠纹的空间频率条件即第1最低频率fm1≦第2最低频率fm2的、本专利技术例的正面观察图像及斜向观察图像的一例的图。图12(a)及图12(b)是分别表示不满足本专利技术的叠纹的空间频率条件即第1最低频率fm1≦第2最低频率fm2的、比较例的正面观察图像及斜向观察图像的一例的图。图13是表示本专利技术实施形态的导电膜配线图案的决定方法的一例的流程图。图14(a)是表示本专利技术实施形态的显示单元的像素阵列图案的一例的示意图，图14(b)是表示重叠于图14(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电膜，其设置于显示装置的显示单元上，且其特征在于包括：一个或两个以上的透明基体；及两层以上的配线层，形成于所述一个透明基体的两面或所述两个以上的透明基体各自的其中一个单面，且配置为层状，具有规则性排列；所述配线层的配线图案重叠于所述显示单元的像素阵列图案，且将下层配线层的配线图案相对于上层偏移相位地配置，当将利用所述配线层的配线图案的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用所述配线层的配线图案的一半的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≤fm2。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.27 JP 2012-2152621.一种导电膜，其设置于显示装置的显示单元上，且其特征在于包括：一个或两个以上的透明基体；及两层以上的配线层，形成于所述一个透明基体的两面或所述两个以上的透明基体各自的其中一个单面，且配置为层状，具有规则性排列；所述配线层的配线图案重叠于所述显示单元的像素阵列图案，且将下层配线层的配线图案相对于上层偏移相位地配置，其中所述像素阵列图案为显示单元的黑色矩阵图案，当将利用所述配线层的配线图案的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用所述配线层的配线图案的一半的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≦fm2。2.根据权利要求1所述的导电膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩见一央，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP