磁屏蔽装置制造方法及图纸

技术编号:11476056 阅读:76 留言:0更新日期:2015-05-20 05:53
本发明专利技术提供了一种磁屏蔽装置,包括磁屏蔽壳体,所述磁屏蔽壳体包括超导屏蔽层以及位于所述超导屏蔽层外侧的增强屏蔽层,所述增强屏蔽层由包含高磁导率合金材料的材料制作。本发明专利技术提供的磁屏蔽装置与现有技术中的磁屏蔽装置相比,屏蔽能力大幅提升。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁屏蔽装置,其特征在于,包括磁屏蔽壳体,所述磁屏蔽壳体包括超导屏蔽层以及位于所述超导屏蔽层外侧的增强屏蔽层,所述增强屏蔽层由包含高磁导率合金材料的材料制作。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:高琦
申请(专利权)人:北京原力辰超导技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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