【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种包含由一个或多个光反应基团取代的环烯烃重复单元的光取向聚合物,其中,当所述光取向聚合物在60mJ/cm2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm至315nm波长和第一偏振方向的第一偏振紫外光射线以进行第一次光取向,并且随后在60mJ/cm2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm至315nm波长和从所述第一偏振方向变换90°的第二偏振方向的第二偏振紫外光射线以进行第二次光取向时,所述光取向聚合物具有0.02或更高的吸收比,所述吸收比通过以下数学公式1来定义:[数学公式1]吸收比(AR)=(│A1–A2│)/(A1+A2)其中,A1表示所述光取向聚合物的吸光度,其是在所述第一次光取向之后,在280至330nm波长的最大吸收波长下测量的,A2表示所述光取向聚合物的吸光度,其是在所述第二次光取向之后,在280至330nm波长的最大吸收波长下测量的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩祯润,柳东雨,李圣经,全成浩,崔大胜,
申请(专利权)人:LG化学株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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