本实用新型专利技术涉及一种电容式触摸屏用透明硬化膜，所述透明硬化膜在基材的两个表面分别设置有第一预涂底层和第二预涂底层，在第一预涂底层表面设置有硬化层，在第二预涂底层的表面设置有第二消影层，在第二消影层的表面设置有第二阻隔层，在硬化层表面设置有第一消影层，在第一消影层的表面设置有第一阻隔层。本实用新型专利技术通过采用双面消影层并在消影层的表面设置阻隔层，解决了电容屏铟锡氧化物导电膜的“影子”现象，同时避免了聚酯薄膜中小分子析出造成的雾度上涨和“脱气”现象，提高了触摸屏的可视性。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种触摸屏
，特别涉及一种电容式触摸屏用透明硬化膜。
技术介绍
电容式触摸屏是通过设计出一组特殊的电极走线，将“边缘场”引到手指能够得到的有效感应区域，把手指放在边缘电场的附近将增加电容式系统的导电面积，其主要包括两种类型，表面式电容和投射式电容。表面式电容屏采用一层铟锡氧化物，外围至少有四个电极。当一个接地的物体靠近时，例如手指，这些电极能够感应表面电容的变化。传感器利用触摸屏电极发射出的静电场称为投射电容式触摸屏，它通过物体在传感电极和被传感电极之间感应出电荷或者通过被感觉物体从一个电极到另一个电极的电场线时，从而被感应到，报告出接触点位置。电容式触摸屏为配合多点触控等功能，在生产工艺上需要蚀刻铟锡氧化物图形(即制作线路区)，为了避免在加工过程中铟锡氧化物导电薄膜划伤，影响显示器可视性，一般都会对该导电薄膜做表面加硬处理，另外当光线划过表面时，会造成电容式触摸屏表面铟锡氧化物蚀刻区和非蚀刻区的色差，导致电容式触摸屏的蚀刻图案或线条清晰可见，直接影响触摸屏幕的显示效果。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术存在的问题，提供一种电容式触摸屏用透明硬化膜。为解决上述技术问题，本技术采取的技术方案为:一种电容式触摸屏用透明硬化膜，在基材的两个表面分别设置有第一预涂底层和第二预涂底层，在第一预涂底层表面设置有硬化层，在第二预涂底层的表面设置有第二消影层，在第二消影层的表面设置有第二阻隔层，在硬化层表面设置有第一消影层，在第一消影层的表面设置有第一阻隔层。上述述电容式触摸屏用透明硬化膜，所述第一消影层的厚度为0.05 μπι-0.15 μm，第二消影层的厚度为0.5 μm ~1.5 μm。上述述电容式触摸屏用透明硬化膜，所述基材的厚度为50 μm -188 μπι。上述述电容式触摸屏用透明硬化膜，所述第一预涂底层的厚度为0.05 μπι-0.1 μm，第二预涂底层的厚度为0.1 μ?? ~0.2 μ??。上述述电容式触摸屏用透明硬化膜，所述硬化层的厚度为Ιμπι ~3 μπι。上述述电容式触摸屏用透明硬化膜，所述第一阻隔层的厚度为0.005 μπι-0.03 μ m，第二阻隔层的厚度为0.01 μ m ~0.04 μ m。与现有技术相比，本技术通过采用双面消影层并在消影层的表面设置阻隔层，较好地解决了电容屏铟锡氧化物导电膜的“影子”现象，同时避免了聚酯薄膜中小分子析出造成的雾度上涨和“脱气”现象，保证了硬化层的透明度和镀铟锡氧化物后产品的稳定性；并进一步通过对消影层折射率的控制、消影层厚度与其它各层厚度的搭配，使得光线在铟锡氧化物导电线路与蚀刻区界面的反射接近，解决了因光线在不同界面的反射导致的光程差现象，最终消除了电容屏导电膜的“影子”现象，提高了触摸屏的可视性。【附图说明】图1是本技术的结构示意图。图中各标号表示为:1.基材；2.第一预涂底层；3.第二预涂底层；4.硬化层；5.第二消影层；6.第一消影层；7.第二阻隔层；8.第一阻隔层。【具体实施方式】实施例1在厚度50 μ m的PET基材I的两个表面分别涂覆折射率为1.55的聚氨酯树脂作为第一预涂底层2和折射率为1.60的聚酯树脂作为第二预涂底层3，该第一预涂底层2和第二预涂底层3的厚度分别为0.05 ym和0.1 ym，在第一预涂底层2的表面分别涂覆硬度为IH的硬化层4，该硬化层4的厚度为I y m，在第二预涂底层3和硬化层4的表面分别涂覆折射率为1.65的第二消影层5和折射率为1.65的第一消影层6，该第二消影层5和第一消影层6的厚度分别为0.5 μ m和0.05 μ m，第二消影层5和第一消影层6的表面分别涂覆折射率为1.4的第二阻隔层7和折射率为1.4第一阻隔层8，该第二阻隔层7和第一阻隔层8的厚度分别为0.03 ym和0.015 μ m，得到电容式触摸屏用透明硬化膜。实施例2在厚度100 μ m的PET基材I的两个表面分别涂覆折射率为1.57的聚丙烯酸树脂作为第一预涂底层2和折射率为1.63的聚氨酯树脂作为第二预涂底层3，该第一预涂底层2和第二预涂底层3的厚度分别为0.07 μ m和0.12 μ m，在第一预涂底层2的表面涂覆硬度为IH的硬化层4，该硬化层4的厚度为2 μ m，在第二预涂底层3和硬化层4的表面分别涂覆折射率为1.67的第二消影层5和折射率为1.68的第一消影层6，该第二消影层5和第一消影层6的厚度分别为0.8 μ m和0.08 μ m，第二消影层5和第一消影层6的表面分别涂覆折射率为1.41的第二阻隔层7和折射率为1.42第一阻隔层8，该第二阻隔层7和第一阻隔层8的厚度分别为0.01 μπι和0.01 μm，得到电容式触摸屏用透明硬化膜。实施例3在厚度125 μ m的PET基材I的两个表面分别涂覆折射率为1.59的聚氨酯和聚丙烯酸混合树脂作为第一预涂底层2和折射率为1.64的第二预涂底层3，该第一预涂底层2和第二预涂底层3的厚度分别为0.08 μ m和0.14 μ m，在第一预涂底层2的表面涂覆硬度为2H的硬化层4，该硬化层4的厚度为3 μ m，在第二预涂底层3和硬化层4的表面分别涂覆折射率为1.68的第二消影层5和折射率为1.70的第一消影层6，该第二消影层5和第一消影层6的厚度分别为1.2 μ m和0.12 μ m，第二消影层5和第一消影层6的表面分别涂覆折射率为1.44的第二阻隔层7和折射率为1.43第一阻隔层8，该第二阻隔层7和第一阻隔层8的厚度分别为0.025 μ m和0.005 μ m，得到电容式触摸屏用透明硬化膜。实施例4在厚度188 μ m的PET基材I的两个表面分别涂覆折射率为1.60的聚氨酯和聚丙烯酸混合树脂作为第一预涂底层2和折射率为1.65的聚丙烯酸和聚酯树脂作为第二预涂底层3，该第一预涂底层2和第二预涂底层3的厚度分别为0.1 μ m和0.2 μ m，在第一预涂底层2的表面涂覆硬度为2H的硬化层4，该硬化层4的厚度为3 μ m，在第二预涂底层3和硬化层4的表面分别涂覆折射率为1.70的第二消影层5和折射率为1.72的第一消影层6，该第二消影层5和第一消影层6的厚度分别为1.5 μ m和0.15 μ m，第二消影层5和第一消影层6的表面分别涂覆折射率为1.46的第二阻隔层7和折射率为1.46第一阻隔层8，该第二阻隔层7和第一阻隔层8的厚度分别为0.04 μ m和0.03 μ m，得到电容式触摸屏用透明硬化膜。【主权项】1.一种电容式触摸屏用透明硬化膜，在基材(I)的两个表面分别设置有第一预涂底层(2)和第二预涂底层(3)，在第一预涂底层(2)表面设置有硬化层(4)，其特征在于，在第二预涂底层(3)的表面设置有第二消影层(5)，在第二消影层(5)的表面设置有第二阻隔层(7)，在硬化层(4)表面设置有第一消影层(6)，在第一消影层(6)的表面设置有第一阻隔层(8)02.根据权利要求1所述电容式触摸屏用透明硬化膜，其特征在于，所述第一消影层的厚度为0.05 μm -0.15 μm，第二消影层的厚度为0.5 μm ~1.5 μm。3.根据权利要求2所述电容式触摸屏用透明硬化膜，其特征在于，所述基材的厚度为50 μ m —188 μ m本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电容式触摸屏用透明硬化膜，在基材（1）的两个表面分别设置有第一预涂底层（2）和第二预涂底层（3），在第一预涂底层（2）表面设置有硬化层（4），其特征在于，在第二预涂底层（3）的表面设置有第二消影层（5），在第二消影层（5）的表面设置有第二阻隔层（7），在硬化层（4）表面设置有第一消影层（6），在第一消影层（6）的表面设置有第一阻隔层（8）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：史良，张永汉，胡鑫，崔书海，
申请(专利权)人：合肥乐凯科技产业有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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