调色剂制造技术

本发明专利技术为一种调色剂，其具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，前述有机硅聚合物具有特定的部分结构，前述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、该部分结构的峰面积的比例[ST3]满足ST3≥0.40的关系。

【技术实现步骤摘要】
调色剂
本专利技术涉及电子照相和静电印刷那样的图像形成方法中使用的用于显影静电图像(静电潜像)的调色剂。
技术介绍
近年来，随着计算机和多媒体的发展，自办公室至家庭的广泛领域中，需要输出高精细的全彩图像的装置。另外，大量进行复印或打印那样的办公室中的使用中，要求即使进行许多张的复印或打印也不会导致图像质量降低的高耐久性。另一方面，小型办公室、家庭中的使用中，从获得高图像质量的图像、且节省空间、节能、轻量化的观点出发，要求图像形成装置的小型化。为了应对上述要求，需要进一步提高环境稳定性、构件污染、低温定影性、显影耐久性及保存稳定性之类的调色剂的性能。特别是全彩图像的情况下，叠加彩色调色剂而形成图像，各颜色的彩色调色剂若不能同样地被显影，则颜色重现性降低，产生颜色不均匀。作为调色剂的着色剂而使用的颜料、染料在调色剂颗粒的表面析出时，对显影性造成影响，有时产生颜色不均匀。进而，在全彩图像的形成中，定影时的定影性及混色性是重要的。例如，为了达成所需要的高速化，选择与低温定影性相应的粘结树脂，该粘结树脂对彩色调色剂的显影性及耐久性造成的影响也较大。进而，在温度和湿度不同的各种环境中，需要可以长期使用的输出高精细的全彩图像的装置。为了应对这种需要，需要解决由温度和湿度的使用环境的差异而产生的调色剂的带电量的变化、调色剂的表面性质的变化之类的问题。另外，需要解决对显影辊、带电辊、控制刮板及感光鼓那样的构件的污染之类的问题。因此，要求开发即使在各种环境下长期保存也具有稳定的带电性、不产生构件污染的稳定的显影耐久性的调色剂。作为由温度和湿度造成的调色剂的保存稳定性、带电量的变动的原因之一，可列举出：发生调色剂的脱模剂、树脂成分自调色剂颗粒的内部渗出至表面的现象(以下也称为“渗出(bleed)”)，使调色剂的表面性质变化。作为解决这种问题的手段之一，有用树脂覆盖调色剂颗粒的表面的方法。日本特开2006-146056号公报中，作为高温保存性及图像输出时的常温常湿环境下、高温高湿环境下的打印耐久性优异的调色剂，公开了在表面上牢固地固着有无机微粒的调色剂。然而，即使将无机微粒牢固地固着于调色剂颗粒，也会发生脱模剂、树脂成分自无机微粒彼此的间隙渗出、耐久劣化引起的无机微粒游离，因此对于严酷环境下的耐久性及构件污染需要进一步改善。另外，日本特开平03-089361号公报中，为了获得着色剂、极性物质不在调色剂颗粒的表面露出、具有窄的带电量分布、带电量的湿度依赖性少的调色剂，公开了以在反应体系中添加硅烷偶联剂为特征的聚合调色剂的制造方法。然而，这种方法中，硅烷化合物向调色剂颗粒表面的析出量、硅烷化合物的水解及缩聚不充分，对于环境稳定性及显影耐久性需要进一步改善。进而，日本特开平09-179341号公报中，作为进行调色剂的带电量控制、不依赖于温度、湿度的环境地形成优质的输出图像的方法，公开了使用包含以连续的薄膜的形态施于表面部的硅化合物的聚合调色剂的方法。然而，有机官能团的极性大，硅烷化合物向调色剂颗粒表面的析出量、硅烷化合物的水解及缩聚不充分，交联度弱，对于高温高湿下的带电性的变化所导致的图像浓度变化、耐久劣化所导致的构件污染需要进一步改善。进而，日本特开2001-75304号公报中，作为改善流动性、流动化剂的游离、低温定影性、结块性的调色剂，公开了具有通过包含硅化合物的颗粒状块彼此被固着而形成的覆盖层的聚合调色剂。然而，对于由于脱模剂、树脂成分自包含硅化合物的颗粒状块的间隙渗出的渗出现象的发生、硅烷化合物向调色剂颗粒表面的析出量、硅烷化合物的水解及缩聚不充分而发生的高温高湿下的带电性的变化所导致的图像浓度变化、由调色剂熔接导致的构件污染的发生、保存稳定性，需要进一步改善。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供显影耐久性、保存稳定性、环境稳定性、耐构件污染及低温定影性优异的调色剂。本专利技术涉及一种调色剂，其特征在于，具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，前述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构，前述调色剂颗粒的四氢呋喃(THF)不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、下述式(T3)所示的部分结构的峰面积的比例[ST3]满足ST3≥0.40的关系。[化学式1]R-Si(O1/2)3(T3)(式(T3)中，R表示碳数为1以上且6以下的烷基或苯基。)根据本专利技术，能够提供显影耐久性、保存稳定性、环境稳定性、耐构件污染及低温定影性优异的调色剂。附图说明图1为TEM观察所得到的调色剂颗粒截面的说明图。图2为本专利技术的调色剂颗粒的29Si-NMR的测定图。图3为示出本专利技术的调色剂的DSC测定所得到的可逆热流曲线的图。图4为示出本专利技术中使用的图像形成装置的一个例子的结构示意图。具体实施方式以下，详细说明本专利技术，但并不限定于这些说明。本专利技术的调色剂的特征在于，其具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，前述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构，前述调色剂颗粒的四氢呋喃(THF)不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、下述式(T3)所示的部分结构的峰面积的比例[ST3]满足ST3≥0.40的关系。[化学式2]R-Si(O1/2)3(T3)(式(T3)中，R表示碳数为1以上且6以下的烷基或苯基。)本专利技术中，通过一种调色剂，其具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，前述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构，从而能够提高有机结构所带来的疏水性，能够得到环境稳定性优异的调色剂。通过调色剂颗粒的THF不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、上述式(T3)所示的部分结构(以下也称为T3结构)的峰面积的比例[ST3]满足ST3≥0.40的关系，从而能够降低调色剂颗粒的表面的表面自由能，因此对环境稳定性及耐构件污染具有优异的效果。另外，由于有机硅聚合物的T3结构所带来的耐久性、和上述式(T3)中的R的疏水性及带电性，所以在比表层更内部存在的、容易渗出的低分子量(Mw1000以下)树脂、及低Tg(40℃以下)树脂、以及根据情况的脱模剂的渗出受到抑制。其结果，能够获得调色剂的搅拌性良好，保存稳定性、以及打印率为30％以上的高打印率图像输出耐久时的环境稳定性及显影耐久性优异的调色剂。关于ST3，优选满足1.00≥ST3≥0.40的关系，更优选满足0.80≥ST3≥0.50的关系。从带电性、耐久性的观点出发，ST3优选为1.00以下、更优选为0.90以下、进一步优选为0.80以下。ST3可以利用有机硅聚合物形成中使用的有机硅化合物的种类和量、以及有机硅聚合物形成时的水解、加聚和缩聚的反应温度、反应时间、反应溶剂及pH来控制。本专利技术中，调色剂颗粒的四氢呋喃(THF)不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、与硅键合的O1/2的数量为2.0的结构(以下也称为X2结构)的峰面积的比例[SX2]与上述ST3优选满足ST3/SX2≥1.00的关系。通过上述ST3与SX2相比为同等或其以上，从而硅氧烷结构的交联结构所带来的耐久性与带电性的平衡变得良好。因此，环境稳定性、保存稳定性、显影耐久性更加优本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调色剂，其特征在于，具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，所述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构，所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si‑NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、下述式(T3)所示的部分结构的峰面积的比例ST3满足ST3≥0.40的关系，R‑Si(O1/2)3(T3)式(T3)中，R表示碳数1以上且6以下的烷基或苯基。

【技术特征摘要】
2013.10.09 JP 2013-212262;2014.06.20 JP 2014-127241.一种调色剂，其特征在于，具有调色剂颗粒，所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层，所述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构，所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于有机硅聚合物的总峰面积的、下述式(T3)所示的部分结构的峰面积的比例ST3满足ST3≥0.40的关系，R－Si(O1/2)3(T3)式(T3)中，R表示碳数1以上且6以下的烷基或苯基，使用X射线光电子能谱分析ESCA的测定中，调色剂颗粒的表层中的、相对于硅原子的浓度dSi、氧原子的浓度dO和碳原子的浓度dC的总和的硅原子的浓度dSi即dSi/[dSi+dO+dC]为2.5原子％以上。2.根据权利要求1所述的调色剂，其特征在于，所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si-NMR的测定中，相对于所述有机硅聚合物的总峰面积的、与硅键合的O1/2的数量为2.0的结构的峰面积的比例SX2和所述ST3满足ST3/SX2≥1....

【专利技术属性】
技术研发人员：阿部浩次，照井雄平，桂大侍，野中克之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP