【技术实现步骤摘要】
显示装置
本专利技术是有关于一种电子元件,且特别是有关于一种显示装置。
技术介绍
随着穿戴装置的兴起,以往显示装置的呈矩形的外型已无法满足使用者的需求。穿戴装置上可能需要备配非矩形的显示装置,例如圆形的显示装置、正三角的显示装置、正五边形的显示装置、正六边形的显示装置等。一般而言,显示装置包括第一基板、相对于第一基板的第二基板、位于第一基板与第二基板之间的显示介质、固定于第一基板上表面上的第一光学膜以及固定于第二基板下表面上的第二光学膜。然而,当显示装置呈非矩形(例如:圆形)时,显示装置的第一基板、第二基板、第一光学膜以及第二光学膜亦呈非矩形(例如:圆形)时,而制造者不易利用第一基板(及/或第二基板)的外缘形状与第一光学膜(及/或第二光学膜)的外缘形状之间的搭配将第一光学膜(及/或第二光学膜)以正确的方位固定至第一基板(及/或第二基板)上。换言之,当显示装置呈非矩形(例如:圆形)时,制造者容易将第一光学膜(及/或第二光学膜)以错误的方位固定至第一基板(及/或第二基板)上,进而造成显示装置的光学特性变差的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示装置,其可以解决非矩形显示装置存在的光学特性变差问题。本专利技术提供一种显示装置,包括第一基板、第一遮光层、第一光学膜、第二基板以及显示介质。第一遮光层位于第一基板上且具有第一对位图案。第一光学膜位于第一基板上。第一光学膜的侧边边缘具有第二对位图案。第一对位图案与第二对位图案重叠。第二基板位于第一基板的对向。显示介质位于第一基板与第二基板之间。本专利技术提供另一种显示装置包括第一基板、第一遮光层、第一光学膜、第二基板以 ...
【技术保护点】
一种显示装置,其特征在于,包括:一第一基板;一第一遮光层,位于该第一基板上且具有一第一对位图案;一第一光学膜,位于该第一基板上,其中该第一光学膜的一侧边边缘具有一第二对位图案,且该第一对位图案与该第二对位图案重叠;一第二基板,位于该第一基板的对向;以及一显示介质,位于该第一基板与该第二基板之间。
【技术特征摘要】
2014.12.11 TW 1031432831.一种显示装置,其特征在于,包括:一第一基板,该第一基板为圆形;一第一遮光层,为圆环状图案,该第一遮光层位于该第一基板上且具有一第一对位图案;一第一光学膜,具有光轴,该第一光学膜位于该第一基板上,其中该第一光学膜的一侧边边缘具有一第二对位图案,该第二对位图案与该光轴之间的相对位置固定,且该第一对位图案与该第二对位图案重叠,该第二对位图案的一侧边在该第一基板上的正投影与该第一对位图案的一侧边在该第一基板上的正投影之间的最短距离为D1,该第二对位图案的另一侧边在该第一基板上的正投影与该第一对位图案的另一侧边在该第一基板上的正投影之间的最短距离为D2,通过比较最短距离D1、D2以判断该第一光学膜的光轴的偏移方向;一第二基板,位于该第一基板的对向;以及一显示介质,位于该第一基板与该第二基板之间。2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一遮光图案为一黑色矩阵层,且该第一光学膜为一偏光膜。3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一遮光层包括一圆环状图案且对应于该第一基板的边缘。4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第一对位图案与该第二对位图案重叠以使得该第一对位图案的边缘与该第二对位图案的边缘之间具有一间隙。5.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,该第二对位图案为一凹入或一凸起。6.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,更包括:一第二遮光层,位于该第二基板上且具有一第三对位图案;以及一第二光学膜,位于该第二基板上,其中该第二光学膜的一侧边边缘具有一第四对位图案,且该第三对位图案与该第四对位图案重叠。7.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,该第二遮光图案为一金属层,且该第二光学膜为一偏光膜,该第一光学膜的光轴与该第二光学膜的光轴垂直或平行。8.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,该第二基板为圆形,该第二遮光层包括一圆环状图案且对应于该第二基板的边缘。9.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,该第三对位图案与该第四对位图案重叠以使得该第三对位图案的边缘与该第四对位图案的边缘之间具有一间隙。10.如权利要求6所述的显示装置,其特征在于,该第四对位图案为一凹入或一凸起。11.一种显示装置,其特征在于,包括:一第一基板,其中该第一基板为圆形;一第一遮光层,为圆环状图案,该第一遮光层位于该第一基板上且具有一第一对位图案;一第一光学膜,具有光轴,该第一光学膜位于该第一基板上,其中该第一光学膜具有一第二对位图案,该第二对位图案与该光轴之间的相对位置固定,且该第一对位图案与该第二对位图案重叠,该第二对位图案的一侧边在该第一基板上的正投影...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕旻洲,李春生,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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