【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源，其有以下部分组成：光纤，XY位移台，准直镜头，双层密度盘，五棱镜，光电探测器，聚焦物镜，微孔反射镜。在进行光学检测时，光纤衍射球面波经准直、聚焦再经微孔衍射为较大NA的近似标准球面波，可以作为光纤点衍射干涉仪的测试以及参考球面波，它可以在保留光纤优点的同时，使光纤点衍射干涉仪的检测范围得到提升。本专利技术构造的光纤点衍射干涉仪可以用在极紫外光刻光学检测中。【专利说明】一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源
本专利技术涉及属于光学精密检测领域，特别涉及一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源。
技术介绍
极紫外光刻技术被认为是最具潜力的下一代光刻技术，它是使用13.5nm的极紫外光将掩膜上的图形投影成像在涂敷有光刻胶的硅片上。为了实现投影光学系统衍射极限的分辨率，根据Marachel判据，要求系统波像差小于λ/14，即InmRMS。以六面反射镜组成的投影光学系统为例，每一个光学元件引起的波像差分配到上的这对于检测光学元件面形以及波像差的干涉仪精度提出...
【技术保护点】
一种能够提高光纤点衍射干涉仪检测范围的波面参考源，其特征在于，在光路方向上依次包括：光纤(1)，XY位移台(2)，准直镜头(3)，双层密度盘(4)，五棱镜(5)，光电探测器(6)，聚焦物镜(7)以及微孔反射镜(8)；所述微孔反射镜(8)上微孔的对准由XY位移台(2)；在所述双层密度盘(4)上：第一层密度盘设有1/4波片以及光栅刻线方向和转轮半径方向分别成0°和90°的两块光栅；第二层密度盘设有两个偏振片，透振方向分别与1/4波片快轴方向成45°，并且两个偏振片的透振方向垂直；光纤(1)发出的衍射球面波可经准直镜头(3)准直为平行光束，在经过聚焦物镜(7)聚焦到微孔反射镜(8...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金春水，代晓珂，于杰，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林;22
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