一种复合氧化物抛光粉的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种复合氧化物抛光粉的制备方法，该抛光粉作为研磨材料，主要含有氧化铈、氧化硅、氧化锆、氧化铝、氧化钛，氧化铈和其它氧化物具有良好的抛光协同作用。复合氧化物抛光粉中SiO2=20～40％、CeO2=75～90％，ZrO2、Al2O3、TiO2三种氧化物添加剂的量为5～10%。为了提高抛光效果，在合成制备工序中加入分散剂，所制得的复合氧化物抛光粉能够得到较好的抛光研磨效果。本发明专利技术通过沉淀、抽滤、水洗、沉淀转化、调浆、搅拌混合均匀，喷雾干燥、焙烧，得到复合氧化物抛光粉，其具有良好的悬浮性、分散性，具有粒径小、粒度分布窄，抛蚀量大、抛光研磨后玻璃表面光洁度高的优点。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，该抛光粉作为研磨材料，主要含有氧化铈、氧化硅、氧化锆、氧化铝、氧化钛，氧化铈和其它氧化物具有良好的抛光协同作用。复合氧化物抛光粉中SiO2=20～40％、CeO2=75～90％，ZrO2、Al2O3、TiO2三种氧化物添加剂的量为5～10%。为了提高抛光效果，在合成制备工序中加入分散剂，所制得的复合氧化物抛光粉能够得到较好的抛光研磨效果。本专利技术通过沉淀、抽滤、水洗、沉淀转化、调浆、搅拌混合均匀，喷雾干燥、焙烧，得到复合氧化物抛光粉，其具有良好的悬浮性、分散性，具有粒径小、粒度分布窄，抛蚀量大、抛光研磨后玻璃表面光洁度高的优点。【专利说明】
本专利技术属于无机粉体制备领域，特别涉及，制备的复合氧化物抛光粉具有很高的抛光精密度和极小的中心粒径，较窄的粒度分布。
技术介绍
传统的化学机械磨料有氧化硅、氧化铝和氧化铈等超细无机颗粒。氧化硅抛光粉具有易制备，硬度小，浆料分散性好等优点，但其抛光效率低；铈系稀土抛光粉具有其抛光速率快，抛光精度高，易清洗污染小等优点，但其价格较贵，分散性不好，易团聚；Al2O3抛光粉硬度大，抛光速率较高，但本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种复合氧化物抛光粉的制备方法，其特征在于：物料按质量百分比计：SiO2 20～40％、CeO2 75～90％，ZrO2、Al2O3、TiO2三种氧化物添加剂的量为5～10%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李梅，周国祥，张晓伟，张存瑞，韩磊，柳召刚，王觅堂，
申请(专利权)人：包头市华辰稀土材料有限公司，
类型：发明
国别省市：内蒙古;15