缓冲底座制造技术

技术编号:11211657 阅读:63 留言:0更新日期:2015-03-26 21:33
本发明专利技术公开了一种缓冲底座,包括本体,所述本体上均匀设置有若干余量槽,所述本体是横截面为C形的旋转体结构,所述本体上设置有定位孔;本发明专利技术机构简单,能够利用本体的回缩实现缓冲作用,体积小,重量轻,安装方便,易于推广使用。

【技术实现步骤摘要】
缓冲底座
本专利技术涉及机械领域,尤其是涉及一种缓冲底座。
技术介绍
传统的缓冲底座结构复杂,利用弹簧等缓冲装置的配合实现缓冲作用,这种结构重量大,安装费力,成本高。
技术实现思路
本专利技术为解决目前缓冲底座体结构复杂,重量大的问题,为此提供了一种缓冲底座,包括本体,所述本体上均匀设置有若干余量槽,所述本体是横截面为C形的旋转体结构,所述本体上设置有定位孔。 本专利技术的有益效果是:本专利技术机构简单,能够利用本体的回缩实现缓冲作用,体积小,重量轻,安装方便,易于推广使用。 【附图说明】 本专利技术将通过例子并参照附图的方式说明,其中:图1是本专利技术的立体示意图;图2是本专利技术的全剖示意图;图3是具体实施例2的意图;图中:1、本体;1.1、定位孔;2、余量槽。 【具体实施方式】 本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。 本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。 具体实施例1,如图1和图2所示的一种缓冲底座,包括本体I,所述本体I上均匀设置有若干余量槽2,所述本体I是横截面为C形的旋转体结构,所述本体I上设置有定位孔 1.1。 所述余量槽2为矩形结构。 具体实施例2,如图3所示的一种缓冲底座,包括本体1,所述本体I上均勻设置有若干余量槽2,所述本体I是横截面为C形的旋转体结构,所述本体I上设置有定位孔1.1。 所述余量槽2为圆弧形结构。 本专利技术机构简单,能够利用本体的回缩实现缓冲作用,体积小,重量轻,安装方便,易于推广使用。 本专利技术并不局限于前述的【具体实施方式】。本专利技术扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合,以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种缓冲底座,其特征在于,包括本体(1),所述本体(1)上均匀设置有若干余量槽(2),所述本体(1)是横截面为C形的旋转体结构,所述本体(1)上设置有定位孔(1.1)。

【技术特征摘要】
1.一种缓冲底座,其特征在于,包括本体(I),所述本体(I)上均匀设置有若干余量槽(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:张兴良
申请(专利权)人:江阴市盛园铜材有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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