集中式吸尘系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种集中式吸尘系统。本实用新型专利技术提供的集中式吸尘系统，包括：主管道，至少一个分管道和吸尘风机；所述至少一个分管道的一端分别连接到所述主管道的上，所述至少一个分管道的另一端一一对应的连接到洁净室内待维护设备的反应室，所述主管道的一端与所述吸尘风机连接，并且所述吸尘风机设置于所述洁净室的外部。本实用新型专利技术提供的集中式吸尘系统解决了现有技术的吸尘器在洁净室内清理设备的反应室时，由于吸除粉尘的过程中会有一定量的泄露，对洁净室内的环境造成一定污染的问题。

【技术实现步骤摘要】
集中式吸尘系统
本技术涉及半导体制造技术的辅助设备，尤其涉及一种集中式吸尘系统。
技术介绍
随着半导体制造技术的高速发展，洁净室中用于生产发光二极管(LightEmitting D1de,简称:LED)的主要设备是金属有机化学气相沉积(Metal-organicChemical Vapor Deposit1n,简称为:MOCVD)设备。 由于半导体生产设备，例如MOCVD设备在长期使用后，其制造晶圆的反应室内部会沉积大量的固体废气物，该废气物通常以碳粉尘的形态存在，因此需要对该MOCVD设备进行定期维护以清除固体废气物，在对其进行清理时需要使用吸尘器，具体地，采用吸尘器在洁净室内对各个MOCVD设备的反应室进行逐个清理；然而，吸尘器在洁净室内吸除粉尘时会有一定量的泄露，进而对洁净室内的环境造成一定的污染，洁净室的环境的优劣直接影响生产出的电子元器件的良率和使用寿命，在维护MOCVD设备时如何避免清理粉尘对洁净室的环境造成污染是各半导体工厂亟需解决的一大难题。
技术实现思路
本技术提供一种集中式吸尘系统，以解决现有技术的吸尘器在洁净室内清理设备的反应室时，由于吸除粉尘的过程中会有一定量的泄露，对洁净室内的环境造成一定污染的问题。 本技术提供一种集中式吸尘系统，包括:主管道，至少一个分管道和吸尘风机； 所述至少一个分管道的一端分别连接到所述主管道的上，所述至少一个分管道的另一端一一对应的连接到洁净室内待维护设备的反应室，所述主管道的一端与所述吸尘风机连接，并且所述吸尘风机设置于所述洁净室的外部。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，还包括:与每个所述分管道的另一端相连接的除尘软管，每个所述分管道与其相连的除尘软管之间设置有控制开关。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，每个所述除尘软管中设置有软管过滤网。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，每个所述分管道上设置有单向阀；或/和， 每个所述分管道与所述主管道连接的位置设置有检查口。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，所述分管道、所述控制开关、所述单向阀、所述检查口、所述除尘软管和所述软管过滤网的数量均相同。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，还包括设置在所述洁净室外部的过滤装置，所述吸尘风机通过所述过滤装置与所述主管道的一端连接。 如上所示的集中式吸尘系统，其中，所述过滤装置包括多个缸体和连接相邻两个所述缸体的过滤管道，每个所述缸体内盛有吸附性溶剂。 本技术所提供的集中式吸尘系统，主管道与至少一个分管道构成具有至少一条分支的管道通路，设置于洁净室外部的吸尘风机与该主管道的一端连接，在通过吸尘风机对与每个分管道对应的待维护设备的反应室进行清理，该集中式吸尘系统在洁净室内的管道通路为封闭的，实现了粉尘通过管道通路被吸附到洁净室之外，解决了现有技术的吸尘器在洁净室内清理设备的反应室时，由于吸除粉尘的过程中会有一定量的泄露，对洁净室内的环境造成一定污染的问题，相应的提高了所产出的电子元器的良率和使用寿命。 【附图说明】 为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1为本技术实施例提供的一种集中式吸尘系统的结构示意图； 图2为现有技术的吸尘器的结构示意图； 图3为本技术实施例提供的另一种集中式吸尘系统的结构示意图； 图4为图3所示实施例所提供的集中式吸尘系统中过滤装置的结构示意图。 【具体实施方式】 为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。 图1为本技术实施例提供的一种集中式吸尘系统的结构示意图。如图1所示，本实施例的集中式吸尘系统10可以包括:主管道100，至少一个分管道110和吸尘风机200 ;其中，至少一个分管道110的一端分别连接到主管道100上，多个分管道110的另一端——对应的连接到洁净室20内待维护设备的反应室10a，主管道100的一端与吸尘风机200连接，并且该吸尘风机200设置于洁净室20的外部。本实施例中的待维护设备的反应室1a例如可以为MOCVD反应室。 在本实施例中，利用吸尘风机200的动力，以及主管道100和每个分管道110构成的具有至少一条分支的管道通路，对与每个分管道110相连接的待维护设备的反应室1a进行清理。图2为现有技术的吸尘器的结构示意图，如图2所示，采用现有技术的吸尘器对洁净室内的设备进行清理时，吸尘器的吸尘软管连接到待维护设备的反应室，需要将吸尘器移入到洁净室内，逐个对待维护设备的反应室进行除尘；在吸除粉尘的过程中会有一定量的泄露，因此对洁净室内的环境造成一定的污染。 与图2所示现有技术中的吸尘器不同的，图1所示实施例提供的集中式吸尘系统10的吸尘风机200放置与洁净室20的外部，主管道100和每个与该主管道100相连的分管道110组成一个管网，该管网包括至少一个管道通路，在通过吸尘风机200的吸力对与各分管道110——对应的反应室1a进行清理时，分管道110都接入与之对应的反应室1a的内都，使得集中式吸尘系统10在洁净室20内的管道通路为封闭的，在吸尘风机200的吸力下，粉尘沿管道通路被吸附到洁净室20之外，因此，除尘过程不会造成粉尘泄露到洁净室20内部空间，可以有效的保障洁净室20内环境的优良程度，进而生产出的电子元器件具有较高的良率和较长的使用寿命。图1所示实施例以主管道100上连接了 8个分管道110为例予以示出，本技术实施例并不限定分管道110的数量。 本实施例提供的集中式吸尘系统，主管道与至少一个分管道构成具有至少一条分支的管道通路，设置于洁净室外部的吸尘风机与该主管道的一端连接，在通过吸尘风机对与每个分管道对应的待维护设备的反应室进行清理，该集中式吸尘系统在洁净室内的管道通路为封闭的，实现了粉尘通过管道通路被吸附到洁净室之外，解决了现有技术的吸尘器在洁净室内清理设备的反应室时，由于吸除粉尘的过程中会有一定量的泄露，对洁净室内的环境造成一定污染的问题，相应的提高了所产出的电子元器的良率和使用寿命。 可选地，图3为本技术实施例提供的另一种集中式吸尘系统的结构示意图，在上述图1所示集中式吸尘系统10的结构基础上，还可以包括与每个分管道110的另一端相连接的除尘软管120，每个分管道110与其相连的除尘软管120之间设置有控制开关120a,并且每个除尘软管120中设置有软管过滤网(图中未示出)，在本实施例中，具体通过除尘软管120对设备反应室进行清理，除尘软管120通常为柔性材料制备的软管，提高了集中式吸尘系统10的实用性，在执行清理工作时易于连接到待清理的反应室1a中，完成清理工作后便于取出，由于洁净室本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种集中式吸尘系统，其特征在于，包括：主管道，至少一个分管道和吸尘风机；所述至少一个分管道的一端分别连接到所述主管道上，所述至少一个分管道的另一端一一对应的连接到洁净室内待维护设备的反应室，所述主管道的一端与所述吸尘风机连接，并且所述吸尘风机设置于所述洁净室的外部。

【技术特征摘要】
1.一种集中式吸尘系统，其特征在于，包括:主管道，至少一个分管道和吸尘风机； 所述至少一个分管道的一端分别连接到所述主管道上，所述至少一个分管道的另一端一一对应的连接到洁净室内待维护设备的反应室，所述主管道的一端与所述吸尘风机连接，并且所述吸尘风机设置于所述洁净室的外部。2.根据权利要求1所述的集中式吸尘系统，其特征在于，还包括:与每个所述分管道的另一端相连接的除尘软管，每个所述分管道与其相连的除尘软管之间设置有控制开关。3.根据权利要求2所述的集中式吸尘系统，其特征在于，每个所述除尘软管中设置有软管过滤网。4.根据权利要求3所述的集中式吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：焦建军，
申请(专利权)人：圆融光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34