一种中性色三银LOW-E玻璃及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种中性色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，在所述的玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为Si3N4层，第二膜层为TiO2层，第三膜层为ZnO层，第四膜层为Ag层，第五膜层为NiCrOx层，第六层膜为ZnSnO3层，第七膜层为ZnO层，第八膜层为Ag层，第九膜层为NiCrOx层，第十膜层为ZnSnO3层，第十一膜层为ZnO层，第十二膜层为Ag层，第十三膜层为NiCr层，第十四膜层为ZnSnO3层，最外层第十五膜层为Si3N4层。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种中性色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，在所述的玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为Si3N4层，第二膜层为TiO2层，第三膜层为ZnO层，第四膜层为Ag层，第五膜层为NiCrOx层，第六层膜为ZnSnO3层，第七膜层为ZnO层，第八膜层为Ag层，第九膜层为NiCrOx层，第十膜层为ZnSnO3层，第十一膜层为ZnO层，第十二膜层为Ag层，第十三膜层为NiCr层，第十四膜层为ZnSnO3层，最外层第十五膜层为Si3N4层。【专利说明】—种中性色三银LOW-E玻璃及制备方法【
】本专利技术涉及一种镀膜玻璃，更具体地说是一种中性色三银LOW-E玻璃，本专利技术还涉及一种玻璃的制备方法。【
技术介绍
】玻璃是在当代的生产和生活中扮演着重要角色，建筑物的门窗汽车车窗和挡风玻璃等等许多地方都用到玻璃，给生产和生活带来了很多的方便。中性色玻璃需求量也很大，但现有的中性色玻璃阳光透过率低，反射率高，遮阳系数高。【
技术实现思路
】本专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，反射率低，遮阳系数小的中性色三银LOW-E玻璃。本专利技术还提供一种中性色三银LOW-E玻璃的制备方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种中性色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片I的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，其特征在于:其中第一膜层即最内层为Si3N4层21，第二膜层为T12层22，第三膜层为ZnO层23，第四膜层为Ag层24，第五膜层为NiCrOx层25，第六层膜为ZnSnO3层26，第七膜层为ZnO层27，第八膜层为Ag层28，第九膜层为NiCrOx层29，第十膜层为ZnSnO3层210，第i^一膜层为ZnO层211，第十二膜层为Ag层212，第十三膜层为NiCr层213，第十四膜层为ZnSnO3层214，最外层第十五膜层为Si3N4层215。如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层的Si3N4层21的厚度为10?20nm,最外层第十五膜层Si3N4层215的厚度为25?35nm。如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二膜层的T12层22的厚度为5?1nm0如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三膜层ZnO层23、第七膜层ZnO层27、第i^一膜层为ZnO层211的厚度均为15?25nm。如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四膜层Ag层24的厚度为5?15nm,第八膜层为Ag层28的厚度为8?15nm,第十二膜层为Ag层212的厚度为5?1nm0如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五膜层NiCrOx层25的厚度为I?2nm,第九膜层NiCrOx层29的厚度为0.5?1.5nm。如上所述的中性色三银LOW-E玻璃，其特征在于第六层膜为21^1103层26的厚度为55?65nm,第十膜层为ZnSnO3层210的厚度为55?65nm,第十四膜层为ZnSnO3层214,厚度为10?20nm。一种制备上述的中性色三银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤:(I)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10，密度 96% ；(2)磁控溅射T12层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；(3)磁控溅射ZnO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫；(4)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；(5)磁控溅射NiCrOx层，用氮气做反应气体，渗少量氧气，用直流电源溅射；(6)磁控溅射ZnSnO3层，用中频交流电流溅射ZnSn重量比Zn: Sn = 48?52:48?52 ；(7)磁控溅射ZnO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫；(8)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；(9)磁控溅射NiCrOx层，用氮气做反应气体，渗少量氧气，用直流电源溅射；(10)磁控溅射ZnSnO3层，用中频交流电流溅射ZnSn重量比Zn: Sn = 48?52:48?52 ；(11)磁控溅射ZnO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫；(12)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；(13)磁控溅射NiCr层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；(14)磁控溅射ZnSnO3层，用中频交流电流溅射ZnSn重量比Zn: Sn = 48?52:48?52 ；(15)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10，密度 96%。与现有技术相比，本专利技术有如下优点:1、本玻璃利用Si3N4作基膜及顶膜，使膜层有较好的粘结性及较佳的机械强度，利用T12提高玻璃的透光率，并用ZnO平整膜层，使T12膜表面光滑，改善后期银膜的导电率。2、本玻璃透光率T(透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率)彡70%;反射率< 15，遮阳系数SC <0.45。本玻璃辐射率< 0.03，辐射率是某物体的单位面积辐射的热量同单位面积黑体在相同温度、相同条件下辐射热量之比。辐射率定义是某物体吸收或反射热量的能力。玻璃的辐射率越接近于零，其绝热性能就越好。3、本玻璃颜色显中性色，a* = -1.5?2，b* = _2?_3。【【专利附图】【附图说明】】图1是本专利技术结构示意图。【【具体实施方式】】一种中性色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在所述的玻璃基片I的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层21，第二膜层为T12层22，第三膜层为ZnO层23，第四膜层为Ag层24，第五膜层为NiCrOx层25，第六层膜为ZnSnO3层26，第七膜层为ZnO层27，第八膜层为Ag层28，第九膜层为NiCrOx层29，第十膜层为ZnSnO3层210，第十一膜层为ZnO层211，第十二膜层为Ag层212，第十三膜层为NiCr层213，第十四膜层为ZnSnO3层214，最外层第十五膜层为Si3N4层215。所述最内层Si3N4层21，即氮化硅层；Si3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层硬度及避免不良原子深入破坏银层镀膜层，使整个膜层在高温下耐热性更好，机械性更好，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性。Si3N4层21的厚度为20?35nm，nm是纳米，Im =109nm。所述的第二层T12层22，即钛的氧化物——二氧化钛。采用高折射率η = 2.5的T12是为了提高玻璃的透光率，降低银层的面电阻，减少银的消耗，又可以减少LOW-E热处理后产生光散射，而且玻璃呈中性颜色，T12膜表面非常光滑，因而改善了银膜的导电率。T12层的厚度是10?15nm。所述第三层ZnO层23，即氧化锌层，是减反射的金属氧化物层，同时进一步提高银膜的导电率。氧化锌ZnO可用作助熔剂，降低玻璃的烧结温度，用作玻璃涂料，让可见光通过的同时反射红外线，以达到保温或隔热的效果。ZnO层厚度为15?25nm。所述第四层Ag层24，即金属银层，金属银提供了较低的辐射率，起环保节能的作用；厚度为5?15nm。所述第五膜层的附^^层25，即氧化镍铬层，氧化镍铬层为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中性色三银LOW‑E玻璃，包括有玻璃基片(1)，在所述的玻璃基片(1)的复合面上由内到外依次相邻地复合有十五个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为Si3N4层(21)，第二膜层为TiO2层(22)，第三膜层为ZnO层(23)，第四膜层为Ag层(24)，第五膜层为NiCrOx层(25)，第六层膜为ZnSnO3层(26)，第七膜层为ZnO层(27)，第八膜层为Ag层(28)，第九膜层为NiCrOx层(29)，第十膜层为ZnSnO3层(210)，第十一膜层为ZnO层(211)，第十二膜层为Ag层(212)，第十三膜层为NiCr层(213)，第十四膜层为ZnSnO3层(214)，最外层第十五膜层为Si3N4层(215)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨永华，王玲，秦文锋，
申请(专利权)人：中山市创科科研技术服务有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44