一种多室免配药密闭无菌注药器制造技术

一种多室免配药密闭无菌注药器，属医疗器械领域，为飞碟形状，分为4至8个相同大小的扇形空间，每个空间分成两室，圆心处为一圆形共用空间，其中心与一细硅胶管相连，硅胶管远端与手术部位引流管相连；其储药室之间、储药室与圆形共用空间之间分隔处设置薄弱易开区；圆形共用空间两层囊壁外侧设置与圆形共用空间大小吻合的C型磁铁和圆形铁板相吸而密闭两层囊壁，C型磁铁缺口对准准备注药的扇形空间与圆形共用空间之间的薄弱易开区，从而C型磁铁缺口构成准备注药扇形空间与圆形共用空间中心细硅胶管的唯一通道。本发明专利技术可以实现在密闭无菌的条件下免配药多次给药，避免了配药过程中药液被微生物污染的可能性，明显降低致命性颅内感染的发生率。

【技术实现步骤摘要】
一种多室免配药密闭无菌注药器
本专利技术涉及一种医疗器械，尤其涉及一种注药器。
技术介绍
目前，我国高血压患者已达到2个亿，同时随着社会向老龄化的转变，人们的寿命普遍延长，高血压性脑出血已成为一种常见病多发病。该病具有高发病率、高死亡率、高致残率的三高特点。而且高血压性脑出血，其颅内出血部位约80％发生在基底节区，基底节区为重要神经中枢传导纤维通过的地方，因此，高血压性脑出血常造成病人不死即残的局面。以往临床对于高血压性脑出血，多采用开颅手术方式，在清除脑内血肿同时，不同程度造成脑组织的损伤，近年来，对于高血压性脑出血，临床上多采用微侵袭的手术方式，即颅内血肿穿刺术，该方法在迅速引流脑内血肿同时，又不至于造成脑组织的额外损伤，并具有病人恢复快，费用低，病人脑功能容易恢复的优势。脑内血肿穿刺引流术，一般引流管需留置3至4天左右，为使脑内血肿经引流管引出，需要每天一次或者多次打开引流管与引流袋的链接，经引流管远端向脑内血肿腔注入尿激酶，以加速脑内血凝块的溶解。每一次打开颅内引流管，进行尿激酶注入时，均有可能将细菌经引流管带入颅内，从而发生颅内感染。而且，脑内血凝块又是最好的细菌培养基，一旦发生颅内感染，会明显增加病人的死亡率和致残率。
技术实现思路
为解决临床上脑内血肿穿刺引流术后，常需要多次配置尿激酶溶液，再多次打开颅内引流管与无菌引流袋之间的链接而明显增加了颅内致命性感染的风险，本专利技术提供了一种多室免配药密闭无菌注药器，只需一次在无菌条件下，将所述多室免配药密闭无菌注药器与脑内血肿腔的特殊引流管远端相连，即可完成多次免配药、无需打开脑内引流管远端与引流袋的链接的密闭给药操作。最大程度的避免了多次配药、多次打开脑内引流管所带来的致命性颅内感染的发生。本专利技术解决上述技术问题采用的技术方案是：一种多室免配药密闭无菌注药器为飞碟形状，共分为4至8个相同大小的扇形空间，空间尖端指向圆心，每个空间按比例分成两室，整个多室免配药密闭无菌注药器共分储药室8到16个；所述多室免配药密闭无菌注药器圆心处为一圆形共用空间，该圆形共用空间中心与一细硅胶管相连，硅胶管远端与手术部位引流管相连，细硅胶管中间含有一过滤装置，防止薄弱易开区碎片脱落并经细硅胶管和手术部位引流管流向脑实质内；本多室免配药密闭无菌注药器的储药室之间、储药室与圆形共用空间之间分隔处设置薄弱易开区；圆形共用空间表面和底面两层囊壁的圆周上设置凸起的圆形凹槽，一与圆形共用空间大小相吻合的C型磁铁和一与磁铁大小一致的圆形铁板分别置于圆形共用空间的两侧，从圆形共用空间的囊壁外上下相吸而密闭圆形共用空间的两层囊壁，C型磁铁封闭指向圆形空间的非配药开口，C型磁铁缺口对准准备注药的扇形空间与圆形共用空间之间的薄弱易开区，此时，C型磁铁缺口构成准备注药扇形空间与圆形共用空间中心细硅胶管的唯一通道。所述多室免配药密闭无菌注药器，由医用塑料或者硅胶等医用高分子材料制成。所述的多室免配药密闭无菌注药器的储药室之间、储药室与圆形共用空间之间的薄弱易开区直径为2-3mm。所述的多室免配药密闭无菌注药器，近圆心的扇形储药室为储存药粉的药粉室，靠近圆周的储药室为储存液体的储液室。每次给药时，首先挤压某一储液室，借助压力打开位于储液室和药粉室之间的薄弱易开区，此时，液体借助压力自储液室流向药粉室。待溶液充分溶解药粉后，同时挤压储液室和药粉室，借助压力打开药粉室与圆形共用空间之间的薄弱易开区，借助压力，药液自然进入圆形共用空间，由于圆形共用空间表面和底面两层囊壁预先借助一与圆形共用空间大小相吻合的C型磁铁和一与磁铁大小一致的圆形铁板从圆形共用空间的囊壁外上下相吸而密闭圆形共用空间的两层囊壁，C型磁铁封闭指向圆形共用空间的非注药药粉室的薄弱易开区，只留下准备注药的扇形空间与圆形共用空间中心的细硅胶管相通，挤压相应指向圆形共用空间的储药室的药液只能自圆形共用空间流向细硅胶管，而不会反流至已经有开口通向圆形共用空间的其它储药室。使用本专利技术的多室免配药密闭无菌注药器，无需反复配液，不需要每次给药时打开脑内引流管和引流袋的连接，可以实现在密闭无菌的条件下免配药多次给药，进一步避免了配药过程中药液被微生物污染的可能性，会明显降低脑出血穿刺引流术后颅内感染的风险，因此可以进一步降低临床上致命性颅内感染的发生率。本专利技术的多室免配药密闭无菌注药器适用于脑内血肿穿刺引流术、脑室出血外引流术、颅内感染脑室或腰大池置管引流术。附图说明图1为本专利技术俯视图的示意图。图2为本专利技术主视图的示意图。图中标号是：1.储液室；2.储液室和药粉室间薄弱易开区；3.药粉室；4.圆形共用空间；5.圆形共用空间与细硅胶管开口连接处：6.细硅胶管；7.药粉室和圆形共用空间之间薄弱易开区；8.C形磁铁，9、圆形铁板，10、圆形凹槽。11、过滤装置具体实施方式下面结合附图对本专利技术作进一步详细描述：本专利技术的优选实施例为：一种多室免配药密闭无菌注药器为飞碟形状，所述多室免配药密闭无菌注药器，由医用塑料或者硅胶等医用高分子材料制成。共分为8个相同大小的扇形空间，空间尖端指向圆心，每个空间按比例分成两室，整个多室免配药密闭无菌注药器共分储药室16个；所述多室免配药密闭无菌注药器圆心处为一圆形共用空间4，该圆形共用空间4中心通过圆形共用空间与细硅胶管开口连接处5与一细硅胶管6相连，细硅胶管6远端与手术部位引流管相连；所述的多室免配药密闭无菌注药器，近圆心的扇形储药室为储存药粉的药粉室3，靠近圆周的储药室为储存液体的储液室1。本多室免配药密闭无菌注药器的储液室1和药粉室3之间分隔处设置储液室和药粉室间薄弱易开区2直径为2-3mm，药粉室3与圆形共用空间4之间间隔处设置药粉室和圆形共用空间之间薄弱易开区7直径为2-3mm；圆形共用空间4表面和底面两层囊壁的圆周上设置凸起的圆形凹槽10，一与圆形共用空间4大小相吻合的C型磁铁8和一与磁铁大小一致的圆形铁板9分别置于圆形共用空间4的两侧，从圆形共用空间4的囊壁外上下相吸而密闭圆形共用空间4的两层囊壁，C型磁铁8封闭指向圆形共用空间的7个非配药薄弱易开区，C型磁铁缺口对准准备注药的扇形空间与圆形共用空间4之间的薄弱易开区，此时，C型磁铁缺口构成准备注药的扇形空间与圆形共用空间4中心的细硅胶管6的唯一通道。术中穿刺脑内血肿成功后，术后CT复查核对引流管尖端位置，确定可以行尿激酶血肿腔注入后，在无菌条件下，本专利技术的多室免配药密闭无菌注药器与特定脑内血肿、脑室内、腰大池特殊穿刺引流管远端细管相连。每次给药时，旋转C型磁铁8将其缺口对准相应给药的扇形空间的药粉室3的薄弱易开区，首先挤压某一储液室1，借助压力打开位于储液室1和相应药粉室3之间的薄弱易开区2，此时，液体借助压力自储液室1流向药粉室3。待溶液充分溶解药粉后，同时挤压储液室1和药粉室3，借助压力打开药粉室3与圆形共用空间4之间的薄弱易开区7，借助压力，药液自然进入圆形共用空间4，由于圆形共用空间4表面和底面两层囊壁预先借助一与圆形共用空间大小相吻合的C型磁铁8和一与磁铁大小一致的圆形铁板9从圆形共用空间4的囊壁外上下相吸而密闭圆形共用空间的两层囊壁，C型磁铁封闭指向圆形共用空间4的7个非注药药粉室3的薄弱易开区，只留下准备注药的扇形空间与圆形共用空间4中心本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多室免配药密闭无菌注药器，其特征在于所述多室免配药密闭无菌注药器为飞碟形状，共分为4至8个相同大小的扇形空间，空间尖端指向圆心，每个空间按比例分成两室，整个多室免配药密闭无菌注药器共分储药室8到16个；所述多室免配药密闭无菌注药器圆心处为一圆形共用空间，该圆形共用空间中心与一细硅胶管相连，细硅胶管远端与手术部位引流管相连，细硅胶管中间含有一过滤装置，防止薄弱易开区碎片脱落并经细硅胶管和手术部位引流管流向脑实质内；本多室免配药密闭无菌注药器的储药室之间、储药室与圆形共用空间之间分隔处设置薄弱易开区；圆形共用空间表面和底面两层囊壁的圆周上设置凸起的圆形凹槽，一与圆形共用空间大小相吻合的C型磁铁和一与磁铁大小一致的圆形铁板分别置于圆形共用空间的两侧，从圆形共用空间的囊壁外上下相吸而密闭圆形共用空间的两层囊壁，C型磁铁封闭指向圆形共用空间的非配药开口，C型磁铁缺口对准准备注药的扇形空间与圆形共用空间之间的薄弱易开区，此时，C型磁铁缺口构成准备注药扇形空间与圆形共用空间中心细硅胶管的唯一通道。

【技术特征摘要】
1.一种多室免配药密闭无菌注药器，其特征在于所述多室免配药密闭无菌注药器为飞碟形状，共分为4至8个相同大小的扇形空间，空间尖端指向圆心，每个空间按比例分成两室，整个多室免配药密闭无菌注药器共分储药室8到16个；所述多室免配药密闭无菌注药器圆心处为一圆形共用空间，该圆形共用空间中心与一细硅胶管相连，细硅胶管远端与手术部位引流管相连，细硅胶管中间含有一过滤装置，防止薄弱易开区碎片脱落并经细硅胶管和手术部位引流管流向脑实质内；本多室免配药密闭无菌注药器的储药室之间、储药室与圆形共用空间之间分隔处设置薄弱易开区；圆形共用空间表面和底面两层囊壁的圆周上设置凸起的圆形凹槽，一与圆形共用空间大小相吻合的C型磁铁和一与磁铁大小一致的圆形铁板分别置于圆形共用空间的两侧，从圆形...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔建忠，崔颖，高俊玲，
申请(专利权)人：崔建忠，崔颖，高俊玲，
类型：发明
国别省市：河北;13