本发明专利技术提供了一种软性主动矩阵有机发光二极管显示器及其制造方法。该制造方法包括：提供一刚性基板；依序形成第一缓冲层以及第二缓冲层于刚性基板的上方；形成第一气体阻隔层于第二缓冲层的上方；形成一塑料基板于第一气体阻隔层的上方；形成第二气体阻隔层于塑料基板的上方；以及采用激光剥离制程来移除刚性基板。相比于现有技术，本发明专利技术将诸如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或其它具有阻水功效的无机化合物作为气体阻隔层并且形成于塑料基板的上下两侧，从而可有效阻隔外部的水气进入塑料基板内部。本发明专利技术还在第一气体阻隔层的下方增设两个层叠的缓冲层，当使用激光剥离方式移除刚性基板时，这两个缓冲层作为激光牺牲层以确保塑料基板不被损伤。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了。该制造方法包括：提供一刚性基板；依序形成第一缓冲层以及第二缓冲层于刚性基板的上方；形成第一气体阻隔层于第二缓冲层的上方；形成一塑料基板于第一气体阻隔层的上方；形成第二气体阻隔层于塑料基板的上方；以及采用激光剥离制程来移除刚性基板。相比于现有技术，本专利技术将诸如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或其它具有阻水功效的无机化合物作为气体阻隔层并且形成于塑料基板的上下两侧，从而可有效阻隔外部的水气进入塑料基板内部。本专利技术还在第一气体阻隔层的下方增设两个层叠的缓冲层，当使用激光剥离方式移除刚性基板时，这两个缓冲层作为激光牺牲层以确保塑料基板不被损伤。【专利说明】
本专利技术涉及一种主动矩阵有机发光二极管显示技术，尤其涉及。
技术介绍
在现有的平板显示器中，有机发光二极管(Organic Light Emitting D1de,OLED)显示器可提供宽视角、良好的对比度和有快速的响应速度，且相比无机发光显示器具有更高的亮度、更低的驱动电压，因此逐渐受到人们的广泛关注和青睐。 一般来说，OLED显示器依驱动方式可分为被动矩阵驱动(Passive Matrix OLED,PM0LED)和主动矩阵驱动(Active Matrix OLED, AM0LED)两种。其中，PMOLED显示器是当数据未写入时并不发光，只在数据写入期间发光。这种驱动方式结构简单、成本较低、较容易设计，主要适用于中小尺寸的显示器。对于AMOLED显示器，该像素阵列的每一像素都有一电容存储数据，让每一像素皆维持在发光状态。由于AMOLED显示器的耗电量明显小于PMOLED显示器，加上驱动方式更适合发展大尺寸与高解析度的显示器，使得AMOLED显示器成为未来发展的主要方向。 此外，软性AMOLED显示器为近年来国内外的各大厂商与研究单位研发的重点之一。相较于一般的显示器，软性AMOLED具备重量轻、可挠曲、易收藏、便于携带等特性。概括地说，软性AMOLED主要包含软性基板(Flexible substrate)、缓冲层(buffer layer) >薄膜晶体管(Thin Film Transistor, TFT)、有机发光二极管与薄膜包覆层(Thin FilmEncapsulat1n)。其中,水氧阻隔技术/薄膜封装技术为其关键之一。在现有技术的一种软性AMOLED显示器架构中，虽然在塑料基板的下方设有PET薄膜和阻隔层，当组件投入高温且经过较长时间(例如100小时)后，塑料基板的两侧及下方仍然会有水气进入并被塑料基板吸收，如此一来，接合(bonding)于塑料基板表面的集成芯片(IC)或软性电路板(Flexible Printed Circuit,FPC)上的元件极易出现与基板相分离的不良情形,进而对组件造成损害。 有鉴于此，如何在软性AMOLED显示器制造出类似玻璃封装的高信赖性的封装结构，以改善或消除现有技术中的上述缺陷，提高软性AMOLED显示器的使用寿命，是业内相关技术人员亟待解决的一项课题。
技术实现思路
针对现有技术中的软性AMOLED显示器在实现水氧阻隔设计时所存在的上述缺陷，本专利技术提供了一种新颖的、可阻止水气进入塑料基板的软性AMOLED显示器及其制造方法。 依据本专利技术的一个方面，提供了一种软性AMOLED显示器的制造方法，该软性AMOLED显示器包括一阵列基板以及位于所述阵列基板上方的有机发光二极管，其中该制造方法包括以下步骤: 提供一刚性基板； 依序形成一第一缓冲层以及一第二缓冲层于所述刚性基板的上方； 形成一第一气体阻隔层(first gas barrier layer)于所述第二缓冲层的上方； 形成一塑料基板于所述第一气体阻隔层的上方； 形成一第二气体阻隔层(second gas barrier layer)于所述塑料基板的上方,其中，所述第一气体阻隔层和所述第二气体阻隔层位于所述塑料基板的两侧，以阻止水气进入所述塑料基板；以及 采用激光剥离(Laser Lift Off, LL0)制程移除所述刚性基板。 在其中的一实施例,所述第一缓冲层为铟锡氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)材质。 在其中的一实施例，所述第二缓冲层为铟镓锌氧化物(Indium Gallium ZincOxide, IGZ0)材质。 在其中的一实施例，所述第一缓冲层的导电度大于所述第二缓冲层的导电度，且所述第一缓冲层的被还原力小于所述第二缓冲层的被还原力。 在其中的一实施例，所述第一气体阻隔层和所述第二气体阻隔层均为氮化硅(SiNx)、氧化娃(S1x)或氮氧化娃(S1xNy)材质。 在其中的一实施例,所述塑料基板为聚酰亚胺(Polyimide)材质。 依据本专利技术的另一个方面，提供了一种软性AMOLED显示器，包括一阵列基板以及位于所述阵列基板上方的有机发光二极管，其中，所述软性AMOLED显示器还包括: 一塑料基板； —第一气体阻隔层(first gas barrier layer),设置于所述塑料基板的下方；以及 一第二气体阻隔层(second gas barrier layer),设置于所述塑料基板的上方，其中，所述第一气体阻隔层和所述第二气体阻隔层用以阻止水气进入所述塑料基板， 一第二缓冲层，设置于所述第一气体阻隔层的下方；以及 一第一缓冲层，设置于所述第二缓冲层的下方， 其中，所述软性AMOLED显示器采用激光剥离(Laser Lift Off, LL0)制程移除所述第一缓冲层下方的刚性基板时，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层作为激光牺牲层对所述塑料基板进行保护。 在其中的一实施例，所述第一气体阻隔层和所述第二气体阻隔层均为氮化硅(SiNx)、氧化娃(S1x)或氮氧化娃(S1xNy)材质。 在其中的一实施例,所述第一缓冲层为铟锡氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)材质，所述第二缓冲层为铟镓锌氧化物(Indium Gallium Zinc Oxide, IGZ0)材质。 在其中的一实施例，所述第一缓冲层的导电度大于所述第二缓冲层的导电度，且所述第一缓冲层的被还原力小于所述第二缓冲层的被还原力。 采用本专利技术的软性AMOLED显示器及其制造方法，首先提供一刚性基板，然后依序形成层叠的一第一缓冲层以及一第二缓冲层于刚性基板的上方，并且设置一第一气体阻隔层和一第二气体阻隔层于塑料基板的两侧，藉由该第一气体阻隔层和该第二气体阻隔层来阻止水气进入该塑料基板的内部，最后采用激光剥离制程移除刚性基板从而形成该软性AMOLED显示器。相比于现有技术，本专利技术将诸如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或其它具有阻水功效的无机化合物形成于塑料基板的上下两侧，从而可有效阻隔外部的水气进入塑料基板内部。此外，本专利技术还在第一气体阻隔层的下方增设两个层叠的缓冲层，当使用激光剥离方式移除刚性基板时，这两个缓冲层作为激光牺牲层以确保塑料基板不被损伤。 【专利附图】【附图说明】 读者在参照附图阅读了本专利技术的【具体实施方式】以后，将会更清楚地了解本专利技术的各个方面。其中， 图1示出现有技术中的一种软性AMOLED显示器的结构组成示意图； 图2示出图1的软性本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种软性主动矩阵有机发光二极管显示器的制造方法，该软性主动矩阵有机发光二极管显示器包括一阵列基板以及位于所述阵列基板上方的有机发光二极管，其特征在于，该制造方法包括以下步骤：提供一刚性基板；依序形成一第一缓冲层以及一第二缓冲层于所述刚性基板的上方；形成一第一气体阻隔层于所述第二缓冲层的上方；形成一塑料基板于所述第一气体阻隔层的上方；形成一第二气体阻隔层于所述塑料基板的上方，其中，所述第一气体阻隔层和所述第二气体阻隔层位于所述塑料基板的两侧，以阻止水气进入所述塑料基板；以及采用激光剥离制程移除所述刚性基板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志鸿，吕学兴，林佳桦，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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