发光薄膜、制备方法及其应用技术

一种发光薄膜，包括介质层，第一发光层及第二发光层，所述介质层设置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层之间，并且，所述发光薄膜两端设置介质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材料的化学式为ZrO：xCu2+，ZrO是基质，Cu2+离子是激活元素，其中，x为0.01～0.05，所述第二发光层材料的化学式为ZrO：yMn4+，ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0.01～0.05。该的发光薄膜的电致发光光谱（EL）中，在510nm和620nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。本发明专利技术还提供该发光薄膜的制备方法及其应用。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种发光薄膜，包括介质层，第一发光层及第二发光层，所述介质层设置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层之间，并且，所述发光薄膜两端设置介质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材料的化学式为ZrO：xCu2+,ZrO是基质，Cu2+离子是激活元素，其中，x为0.01?0.05，所述第二发光层材料的化学式为ZrO：yMn4+,ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0.01?0.05。该的发光薄膜的电致发光光谱（EL)中，在510nm和620nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。本专利技术还提供该发光薄膜的制备方法及其应用。【专利说明】发光薄膜、制备方法及其应用 【
】 本专利技术涉及一种发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法。 【
技术介绍
】 薄膜电致发光显示器（TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角 大、适用温度宽、工序简单等优点，已引起了广泛的关注，且发展迅速。目前，研究彩色及至 全色TFELD，开发多波段发光的材料，是该课题的发展方向。 【
技术实现思路
】 基于此，有必要提供一种可应用于薄膜电致发光器件的发光薄膜、其制备方法、使 用该发光薄膜的薄膜电致发光器件及其制备方法。 -种发光薄膜，该发光薄膜包括介质层，第一发光层及第二发光层，所述介质层设 置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层之间，并且，所述发光薄膜两端设置介 质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材料的化学式为ZrO :XCu2+，ZrO是基质， Cu2+离子是激活元素，其中，X为0. 01?0. 05,所述第二发光层材料的化学式为ZrO :yMn4+， ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0. 01?0. 05。 所述介质层厚度为〇? 5nm?5nm，所述第一发光层厚度为60nm?150nm，所述第二 发光层厚度为60nm?150nm。 -种发光薄膜的制备方法，包括以下步骤： 将氧化镁靶材，ZrO :xCu2+靶材，ZrO :yMn4+及基板放入镀膜设备的真空腔体内，设 置真空度为I. OX 10_3Pa?I. OX KT5Pa,调节祀材与基板之间的间距为45mm?95mm，基板 温度为250°C?750°C， 然后在基板表面依次沉积介质层，第一发光层，介质层、第二发光层及介质层， 制备介质层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强0. 5Pa?5Pa，工作气体的流量 为IOsccm?4〇SCCm，脉冲激光能量为50W?250W，其中，介质层材料为氧化镁； 制备所述第一发光层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强〇. 5Pa?5Pa，工作气 体的流量为IOsccm?4〇SCCm，脉冲激光能量为60W?300W，其中，第一发光层材料为ZrO : xCu2+，X 为 0? 01 ?0? 05 ; 制备所述第二发光层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强〇. 5Pa?5Pa，工作气 体的流量为IOsccm?5〇SCCm，脉冲激光能量为60W?300W，其中，第二发光层材料为ZrO : yMn4+，y 为 0? 01 ?0? 05 ;及 剥离基板得到所述发光薄膜。 该ZrO :XCu2+靶材的制备方法为，按照化学计量比称取ZrO和CuO粉体，均匀混合 后在900°C?1300°C烧结，得到靶材化学式ZrO :xCu2+，X为0. 01?0. 05。 该ZrO :yMn4+靶材的制备方法为，按照化学计量比称取ZrO和MnO2粉体，均匀混合 后在900°C?1300°C烧结，得到靶材化学式ZrO :yMn4+，y为0. 01?0. 05。 一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光 层以及阴极层，其特征在于，所述发光层为发光薄膜，该发光薄膜包括介质层，第一发光层 及第二发光层，所述介质层设置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层之间，并 且，所述发光薄膜两端设置介质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材料的化学 式为ZrO :XCu2+，ZrO是基质，Cu2+离子是激活元素，其中，X为0.01?0.05,所述第二发光 层材料的化学式为ZrO :yMn4+，ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0. 01?0. 05。 所述介质层厚度为〇? 5nm?5nm，所述第一发光层厚度为60nm?150nm，所述第二 发光层厚度为60nm?150nm。 一种薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤： 提供具有阳极的衬底； 在所述阳极上形成发光层，所述发光层为发光薄膜，该发光薄膜的包括介质层，第 一发光层及第二发光层，所述介质层设置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层 之间，并且，所述发光薄膜两端设置介质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材 料的化学式为ZrO :XCu2+，ZrO是基质，Cu2+离子是激活元素，其中，X为0. 01?0. 05,所述第 二发光层材料的化学式为ZrO :yMn4+，ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0. 01?0. 05 ; 在所述发光层上形成阴极。 所述发光层的制备包括以下步骤： 将氧化镁靶材，ZrO :xCu2+靶材，ZrO :yMn4+靶材及基板放入镀膜设备的腔体的真空 腔体内，设置真空度为1.0 X KT3Pa?I. OXKT5Pa,调节靶材与基板之间的间距为45mm? 95mm，基板温度为250°C?750°C， 然后在基板表面依次沉积介质层，第一发光层，介质层、第二发光层及介质层， 制备介质层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强0. 5Pa?5Pa，工作气体的流量 为IOsccm?4〇SCCm，脉冲激光能量为50W?250W，其中，介质层材料为氧化镁； 制备所述第一发光层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强0. 5Pa?5Pa，工作气 体的流量为IOsccm?4〇SCCm，脉冲激光能量为60W?300W，其中，第一发光层材料为ZrO : xCu2+，X 为 0? 01 ?0? 05; 制备所述第二发光层的工艺条件为：脉冲激光沉积工作压强0. 5Pa?5Pa，工作气 体的流量为IOsccm?5〇SCCm，脉冲激光能量为60W?300W，其中，第二发光层材料为ZrO : yMn4+，y 为 0? 01 ?0? 05 ;及 剥离基板得到所述发光层。 所述ZrO :XCu2+靶材的制备方法为，按照化学计量比称取ZrO和CuO粉体，均匀混 合后在900°C?1300°C烧结，得到靶材化学式ZrO :xCu2+，X为0. 01?0. 05， 所述ZrO :yMn4+靶材的制备方法为，按照化学计量比称取ZrO和MnO2粉体，均匀混 合后在900°C?1300°C烧结，得到靶材化学式ZrO :yMn4+，y为0. 01?0. 05。 上述发光薄膜的电致发光光谱（EU中，在510nm和620nm波长区都有很强的发光 峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。 【【专利附图】【附图说明】】 图1为一实施方式的发光薄膜的结构示意图； 图2为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图； 图3为实施例1制备的发光薄膜的电致发光谱（EL); 图4是实施例1制备的薄膜电致发光器件的电压与电流密度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光薄膜，其特征在于：该发光薄膜包括介质层，第一发光层及第二发光层，所述介质层设置在间隔设置的所述第一发光层与所述第二发光层之间，并且，所述发光薄膜两端设置介质层，所述介质层材料为氧化镁，所述第一发光层材料的化学式为ZrO：xCu2+，ZrO是基质，Cu2+离子是激活元素，其中，x为0.01～0.05，所述第二发光层材料的化学式为ZrO：yMn4+，ZrO是基质，Mn4+离子是激活元素，y为0.01～0.05。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，陈吉星，王平，黄辉，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44