【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，其特征在于：还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶部水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封漏斗。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王仲伟，季明其，杨加华，
申请(专利权)人：优德精密工业昆山股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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