透明基板监测装置和透明基板监测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种透明基板监测装置和透明基板监测方法。所述透明基板监测装置包括：用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以使光能够从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量形成在屏幕平面上的干涉图样的强度轮廓或位置；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算光学相位差或光程差。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明基板监测装置和透明基板监测方法
本专利技术涉及一种厚度变化测量装置和厚度变化测量方法，更加具体地，涉及一种能够使用双狭缝精确测量厚度变化的厚度变化测量装置和厚度变化测量方法。本专利技术还涉及一种透明基板监测装置和透明基板监测方法，更加具体地，涉及一种能够使用双狭缝精确监测光程差的变化的透明基板监测装置和透明基板监测方法。
技术介绍
由玻璃等制成的基板用于诸如液晶显示器(LCD)或有机发光二极管(OLED)显示器件等平板显示器件。随着最近的朝着更大面积和更高分辨率显示器件的趋势，显示器件中包含的基板的面积变得更大。这样的基板厚度的不均匀性可能对显示器件的图像质量造成不利影响。因此，保持基板的整个表面的均匀厚度是重要的。一般而言，反射式厚度测量装置用来测量几纳米(nm)至几十纳米(nm)的厚度变化。反射式厚度测量装置利用从基板的正面反射的光和从基板背面反射的光之间的干涉。然而，大面积的基板可能导致基板在基板厚度测量期间内翘曲。根据基板的翘曲程度，从基板反射的光的路径发生改变，这使得精确地测量基板厚度变得困难。
技术实现思路
技术问题本专利技术的实施例提供了能够通过使用双狭缝精确测量测量目标的厚度变化的厚度变化测量装置和厚度变化测量器件。本专利技术的实施例还提供了这样的透明基板监测装置和透明基板监测方法：上述装置和方法使用双狭缝测量光学相位差，并且通过使透明基板在双狭缝的方向上移动双狭缝的间隔并连接所有的测量位置来提供光学相位差的空间分布。解决该技术问题的技术方案根据本专利技术实施例的透明基板监测装置可以包括：用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算穿过所述透明基板的所述第一位置与所述第二位置的光线的光学相位差或光程差。在本专利技术的实施例中，所述信号处理单元可以使用所述干涉图样在所述第一方向上的位置来计算所述光程差。在本专利技术的实施例中，在所述第一方向上移动的所述透明基板是玻璃基板。在本专利技术的实施例中，所述光学检测单元可以包括位置敏感检测器。所述透明基板监测装置还可以包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方以使所述干涉图样的主极大图样能够从该光圈中穿过。所述位置敏感检测器可以输出所述主极大图样的中心位置。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括第一光圈和第二光圈，所述第一光圈和所述第二光圈布置在所述光学检测单元的前方并在所述第一方向上彼此间隔开。所述光学检测单元可以包括布置在所述第一光圈后方的第一光学检测单元和布置在所述第二光圈后方的第二检测单元。所述第一光圈与所述第二光圈之间的间隔可以小于所述主极大图样的宽度。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方。所述光学检测单元可以包括布置在所述光圈的后方并且在所述第一方向上排列的光学传感器阵列。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括透镜单元，所述透镜单元布置在所述双狭缝与所述光学检测单元之间。所述光学检测单元可以布置在所述透镜单元的焦点处。在本专利技术的实施例中，所述发光单元可以包括：光源；和反射组件，所述反射组件改变所述光源的输出光的光路并将光路改变的光提供至所述双狭缝。在本专利技术的实施例中，所述发光单元可以包括：光源；光纤，所述光纤接收所述光源的输出光；和准直透镜，所述准直透镜将从所述光纤输出的光转换成准直光并将所述准直光提供至所述双狭缝。在本专利技术的实施例中，所述发光单元可以包括：第一光源，所述第一光源发出第一波长的光；第二光源，所述第二光源发出第二波长的光，所述第一波长不同于所述第一波长；定向耦合器，所述定向耦合器将所述第一光源的光路与所述第二光源的光路耦合；和准直透镜，所述准直透镜将所述定向耦合器的输出光提供至所述双狭缝。在本专利技术的实施例中，所述第一光源和所述第二光源可以以脉冲模式工作。所述第一光源和所述第二光源可以依次将输出光提供至所述双狭缝。根据本专利技术实施例的透明基板监测方法可以包括：设置双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；通过让具有相干性的第一波长的光相继穿过透明基板和所述双狭缝来形成第一干涉图样；测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的所述第一干涉图样的位置，所述第一光透过布置在所述双狭缝前方的所述透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；并且通过分析所述第一波长的光的所述第一干涉图样的位置来测量由所述透明基板造成的第一相位差。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：通过对在之前位置处测量的所述第一相位差求和来计算所述透明基板的第一累积相位差的空间分布。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：通过让具有相干性的第二波长的光相继通过所述透明基板和所述双狭缝来形成第二干涉图样；通过测量所述第二波长的光的所述第二干涉图样的位置来测量由所述透明基板造成的第二相位差；并且通过使用所述第一相位差和所述第二相位差来提取出所述透明基板的所述第一位置与所述第二位置之间的折射率差和厚度差。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：通过对在之前位置处测量的所述折射率差求和来提取折射率差的空间分布，并且通过对在之前位置处测量的所述厚度差求和来提取厚度差的空间分布。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：在所述双狭缝的后方安装透镜以具有在所述屏幕平面上的焦点。在本专利技术的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括：在所述屏幕平面上设置光圈以仅允许所述第一干涉图样中的主极大图样从所述光圈中穿过。根据本专利技术实施例的光学相位差测量装置可以包括：用于发光的发光单元；双狭缝，其布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，其测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的测量目标的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述测量目标的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算穿过所述测量目标的所述第一位置和所述第二位置的光线的光学相位差。根据本专利技术实施例的厚度变化测量装置可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明基板监测装置，其包括：用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算由所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置造成的光学相位差或光程差。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.21 KR 10-2012-0028938;2013.01.28 KR 10-2011.一种透明基板监测装置，其包括：用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于第一方向和第二方向所限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算由所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置造成的光学相位差或光程差，所述发光单元包括：第一光源，所述第一光源发出第一波长的光；第二光源，所述第二光源发出第二波长的光，所述第二波长不同于所述第一波长；定向耦合器，所述定向耦合器将所述第一光源的光路与所述第二光源的光路耦合；和准直透镜，所述准直透镜将所述定向耦合器的输出光提供至所述双狭缝。2.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述信号处理单元使用所述干涉图样在所述第一方向上的移动位置来计算所述光程差。3.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，在所述第一方向上移动的所述透明基板是玻璃基板。4.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述光学检测单元包括位置敏感检测器，所述透明基板监测装置还包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方以使所述干涉图样的主极大图样能够从所述光圈中穿过，并且其中，所述位置敏感检测器输出所述主极大图样的中心位置。5.如权利要求1所述的透明基板监测装置，还包括：第一光圈和第二光圈，所述第一光圈和所述第二光圈布置在所述光学检测单元的前方并且在所述第一方向上彼此间隔开，其中，所述光学检测单元包括布置在所述第一光圈后方的第一光学检测单元和布置在所述第二光圈后方的第二检测单元，并且其中，所述第一光圈与所述第二光圈之间的间隔小于所述干涉图样的主极大图样的宽度。6.如权利要求1所述的透明基板监测装置，还包括：光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方，其中，所述光学检测单元包括布置在所述光圈的后...

【专利技术属性】
技术研发人员：金在完，金钟安，陈宗汉，姜宙植，严泰凤，
申请(专利权)人：韩国标准科学研究院，
类型：发明
国别省市：韩国;KR