覆盖件、印刷工艺、以及显示单元和电子设备的制造方法技术

本发明专利技术涉及覆盖件、印刷工艺、以及显示单元和电子设备的制造方法。该覆盖件，包括能释放基底；以及提供于基底上并在印刷中与基底分离的牺牲层。

【技术实现步骤摘要】
覆盖件、印刷工艺、以及显示单元和电子设备的制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2013年5月24日提交的日本专利申请JP2013-100772的权益，通过引用将其整体内容结合于此。
本公开涉及一种用于形成要图案化的层的覆盖件(blanket)，诸如，如有机场致发光(EL)显示单元的有机层、使用覆盖件的印刷工艺以及显示单元和电子设备的每个的制造方法。
技术介绍
最近，响应于电子设备的降低成本以及增加面积的需求，已经考虑降低材料用量并减小尺寸以及简单化制造设备。因此，使用各种印刷工艺的各种功能电子材料(例如，导体、荧光体、电介质等等)的图案形成受到关注。印刷工艺的实例可以包括旋涂、诸如喷墨印刷的吐出型印刷工艺、柔板印刷、以及诸如反向胶板印刷的有版印刷(plateprinting)。在有版印刷中，例如，在称为覆盖件的中间转印体上形成墨水涂层(墨水层)。接着，使墨水层与凸版接触，并且将覆盖件上留下的图案从覆盖件转印到印刷基板以进行印刷(例如，参见日本未经审查专利申请公开第2000-289320号)。然而，因为覆盖件是由硅橡胶等形成的，其润湿性较低；因此，墨水层在厚度上容易变得不均匀。为了解决该问题，已经公开了一种没有厚度不均的均匀墨水层的形成方法，其中有机溶剂用作墨水溶液的溶剂，有机溶剂具有低于覆盖件(即，硅橡胶)的涂布表面的表面自由能，或者添加表面活化剂以形成这种均匀墨水层(例如，参见日本未经审查专利申请公开第2003-17261、2005-175061、以及2005-128346号)。诸如硅橡胶的软材料容易吸收有机溶剂。因此，涂布于覆盖件上的墨水层容易干燥成膜，从而降低了图案精确性，或者图案化变得困难。为了解决这个问题，例如，已经公开了一种防止墨水层干燥的方法，其中，覆盖件预先被沉浸于预定有机溶剂中从而在墨水涂布到覆盖件之前膨胀(例如，参见日本未经审查专利申请公开第2007-160514号)。或者，已经公开一种形成墨水层的方法，其中，将覆盖件的墨水涂布表面进行等离子体处理从而成为亲水性的，并且将硅橡胶较少吸收的水性墨水用于形成墨水层(例如，参见日本未经审查专利申请公开第2007-95517号)。
技术实现思路
然而，覆盖件必须在控制膨胀量的情况下进行膨胀。此外，因为使用大量的有机溶剂，增加了成本，并且难以适用于大面积。此外，反复膨胀加速了硅橡胶的退化，并且覆盖件的寿命降低。此外，当等离子体处理覆盖件的涂布表面时，虽然提高了润湿性，但降低了可分离性，并且导致产生残余物。此外，因为等离子体处理改性(改变)覆盖件的表面，所以在膨胀的情况下加速了覆盖件的劣化。希望提供覆盖件和印刷工艺，其各自都能增加用作墨水溶液的溶剂的选择自由度并且实现了高质量图案化，以及显示单元的制造方法和电子设备的制造方法。根据本技术的实施方式，提供一种覆盖件，包括：能释放基底；以及提供于基底上并在印刷中与基底分离的牺牲层。根据本技术的实施方式，提供一种印刷工艺，包括：在能释放基底上具有牺牲层的覆盖件上形成功能墨水层，在印刷中牺牲层与基底分离；将具有预定图案的凸部的移除板按压到墨水层上以在覆盖件上形成图案层；以及将图案层转印到印刷基板。根据本技术的实施方式，提供一种显示单元的制造方法，该方法包括形成显示装置，显示装置的形成包括：在能释放基底上具有牺牲层的覆盖件上形成功能墨水层，在印刷中牺牲层与基底分离；将具有预定图案的凸部的移除板按压到墨水层以在覆盖件上形成图案层；以及将图案层转印到印刷基板。根据本技术的实施方式，提供一种电子设备的制造方法，该方法包括形成显示单元，显示单元的形成包括：在能释放基底上具有牺牲层的覆盖件上形成功能墨水层，在印刷中牺牲层与基底分离；将具有预定图案的凸部的移除板按压到墨水层上以在覆盖件上形成图案层；以及将图案层转印至印刷基板。在根据本技术的上述相应实施方式的覆盖件、印刷工艺、显示单元的制造方法和电子设备的制造方法中，将具有牺牲层(在印刷中牺牲层与墨水层一起与基底分离)的覆盖件形成于基底上，以及使用该覆盖件进行印刷，这样使得可以将墨水层转印到印刷基板上，从而无需优化墨水溶液等。在根据本技术的上述相应实施方式的覆盖件、印刷工艺、显示单元的制造方法和电子设备的制造方法中，形成包括提供于基底上的牺牲层(在印刷中牺牲层与墨水层一起与基底分离)的覆盖件，以及使用该覆盖件进行印刷。这增加了用作墨水溶液的溶剂的选择自由度，并且实现了高质量的图案形成。应当理解的是，前面的一般描述和下面的详细描述都是示例性的，并且旨在提供所要求保护的技术的进一步说明。附图说明包括附图以提供对本公开的进一步理解，以及结合在本说明书中并且构成本说明书的一部分。附图示出了实施方式，并与说明书一起，用于说明本技术的原理。图1是示出根据本公开示例性实施方式的覆盖件的构造的截面图。图2A至图2C是使用在图1中示出的覆盖件说明印刷工艺的流程的过程图。图3A至图3C是继图2C之后的过程图。图4A至图4C是继图3C之后的过程图。图5A至图5C是继图4C之后的过程图。图6是示出根据本公开示例性实施方式的显示单元的总体构造的平面图。图7是示出在图6中示出的像素驱动电路的实例的电路图。图8是在图6中示出的显示单元的制造方法的流程图。图9是示出在图6中示出的显示单元的示例性构造的截面图。图10是示出在图6中示出的显示单元的另一种示例性构造的截面图。图11是示出根据本公开变形例的覆盖件的构造的截面图。图12A是示出从其前侧观看的根据上述实施方式的显示单元的应用例1的外观的立体图。图12B是示出从其后侧观看的根据上述实施方式及其变形例的任何一者的使用像素的显示单元的应用例1的外观的立体图。图13是示出应用例2的外观的立体图。图14A是示出从其前侧观看的应用例3的外观的立体图。图14B是示出从其后侧观看的应用例3的外观的立体图。图15是示出应用例4的外观的立体图。图16是示出应用例5的外观的立体图。图17A包括处于关闭状态中的应用例6的正视图、左视图、右视图、俯视图、以及仰视图。图17B包括处于打开状态中的应用例6的正视图和侧视图。具体实施方式在下文中，将参考附图进行详细地描述本技术的实施方式。应注意，将按以下顺序进行说明。1.实施方式1-1覆盖件1-2制造方法1-3显示单元的构造1-4功能与操作2.变形例3.实施例4.应用例[1.实施方式](1-1覆盖件)图1示出了根据本公开的实施方式的覆盖件(覆盖件1)的截面构造。覆盖件1用于通过有版印刷形成构成设置于有机场致发光显示单元(例如，显示单元5A，参见图9)的半导体层20中的薄膜晶体管(TFT)的各个层，或者形成发出红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的光之一的发光层33C。在有版印刷中，例如，在反向胶板印刷(reverseoffsetprinting)中，在覆盖件1上形成墨水层A，并且接下来使墨水层与移除板2(反向印刷版)接触，将留在覆盖件1上的图案(划线部分A')从覆盖件1接触转印至印刷基板(基板3)以进行印刷(参见图3至5)。在本实施方式中，详细地描述在有版印刷中使用的覆盖件1的构造。覆盖件1具有这样的构造：由不溶于墨水溶液(溶液D2r)(构成墨水层A的功能材料溶解在墨水溶液中)所用的溶剂中的材料构成的牺牲层12堆叠在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种覆盖件，包括：能释放基底；以及牺牲层，设置在所述基底上并且在印刷中从所述基底分离。

【技术特征摘要】
2013.05.24 JP 2013-1097721.一种印刷方法，包括：在基底上具有牺牲层的覆盖件上形成指定材料墨水层；将具有预定图案的凸部的移除板按压到所述墨水层并且移除与所述预定图案相关的所述牺牲层和所述墨水层的部分以在所述覆盖件上形成图案层；所述图案层包括所述牺牲层和所述墨水层的剩余部分；将所述图案层转印至印刷基板；以及在将所述图案层转印至所述印刷基板之后，从所述墨水层的表面移除所述牺牲层，所述指定材料墨水层包括聚芴类聚合物衍生物、聚对苯撑乙烯撑衍生物、聚苯撑衍生物、聚乙烯咔唑衍生物、聚噻吩衍生物、二萘嵌苯类染料、香豆素类染料、以及罗丹明类染料。2.根据权利要求1所述的印刷方法，进一步包括在所述基底上形成所述牺牲层。3.一种显示单元的制造方法，所述方法包括：形成显示装置，形成所述显示装置包括：在基底上具有牺牲层的覆盖件上形成指定材料墨水层；将具有预定图案的凸部的移除板按压到所述墨水层并且移除与所述预定图案相关的所述牺牲层和所述墨水层的部分以在所述覆盖件上形成图案层，所述图案层包括所述牺牲层和所述墨水层的剩余部分；将所述图案层转印至印刷基板；以及在将所述图案层转印至所述印刷基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：福田敏生，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP