ITO导电玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种LCD用无色高透5欧姆～200欧姆ITO导电玻璃，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层；第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2。这种ITO导电玻璃以层叠的膜层结构替代传统的SiO2层，折射率高低结合的膜层结构解决了LCD用SiO2膜层上镀5欧姆～200欧姆ITO膜层透过率偏低问题，提升了ITO玻璃的透过率，视觉效果较好。本发明专利技术还公开了上述ITO导电玻璃的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种LCD用无色高透5欧姆～200欧姆ITO导电玻璃，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层；第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2。这种ITO导电玻璃以层叠的膜层结构替代传统的SiO2层，折射率高低结合的膜层结构解决了LCD用SiO2膜层上镀5欧姆～200欧姆ITO膜层透过率偏低问题，提升了ITO玻璃的透过率，视觉效果较好。本专利技术还公开了上述ITO导电玻璃的制备方法。【专利说明】ITO导电玻璃及其制备方法
本专利技术涉及一种用于IXD的无色高透ITO导电玻璃及其制备方法。
技术介绍
ITO导电玻璃是在钠钙基片或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法依次沉积二氧化硅(S12)和氧化铟锡(通称ΙΤ0)薄膜加工制作成的。 ITO是一种具有良好本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ITO导电玻璃，用于LCD，其特征在于，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层；所述第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2；所述第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；所述第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2；所述第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；所述第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2；所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘玉华，方凤军，陈立，谭伟，杜晓峰，
申请(专利权)人：宜昌南玻显示器件有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42