一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜制造技术

本实用新型专利技术涉及光谱分析领域，具体提供一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜。其结构包括聚脂膜片及富集膜，富集膜设置在聚脂膜片顶面，其特点是富集膜上均匀分布有止流孔，止流孔直径0.5-1.5mm，相邻止流孔的孔心间距1-3.5mm。与现有技术相比，本实用新型专利技术的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜具有结构简单、样品分布均匀等特点，可广泛地应用于液态样品的X射线荧光光谱分析中。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及光谱分析领域，具体提供一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜。其结构包括聚脂膜片及富集膜，富集膜设置在聚脂膜片顶面，其特点是富集膜上均匀分布有止流孔，止流孔直径0.5-1.5mm，相邻止流孔的孔心间距1-3.5mm。与现有技术相比，本技术的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜具有结构简单、样品分布均匀等特点，可广泛地应用于液态样品的X射线荧光光谱分析中。【专利说明】一种X射线荧光光谱分析用均勾型超载膜
本技术涉及X射线荧光光谱分析领域，具体提供一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜。
技术介绍
对于擅长测定固体样品的X—荧光光谱分析法，测定液体样品的主要方法是使用超载膜，通常做法是将液体样品滴加在超载膜上，凉干或烘干后进行测量。所分析的液体样品一般为水样:如矿泉水、污水等。 现有技术中，普通超载膜主要由聚脂膜片、富集膜组成，其点滴量为500 μ L左右，而大容量超载膜的点滴量则已经达到ΙΟΟΟμ L的容量，其所具有的高灵敏度和低检测限已基本满足当前的分析要求。 但在实际应用中，由于液体所固有的表面张力和流动性的作用，使得干燥后的样品在超载膜上的分布经常表现出明显的不均匀性，且同一样品在不同超载膜上表现的不均匀性也不一样。从而使青睐于分析均匀样品的X—荧光光谱分析法遇到了麻烦，影响了测定结果的精密度和准确度，使同一样品出现了不同的分析结果。严重的困扰着该项分析技术的发展。
技术实现思路
本技术是针对上述现有技术的不足，提供一种设计合理、样品分布均匀的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜。 本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，包括聚脂膜片及富集膜，富集膜设置在聚脂膜片顶面，其特点是富集膜上均匀分布有止流孔，止流孔直径0.5-1.5mm,相邻止流孔的孔心间距1-3.5mm。 为了增强超载膜的承载力，可以在富集膜外侧环绕设置隔离膜。 所述止流孔可以是通孔，但为了达到最好的技术效果，止流孔优选为盲孔。 止流孔呈矩形阵列或环形阵列分布。 所述富集膜可选用亲水的定量滤纸。 所述隔离膜可选用疏水的蜡沁滤纸、醋滤纸等。 本技术的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜和现有技术相比，具有以下突出的有益效果: (一)干燥后的样品在超载膜上的分布更均匀，提高了测定结果的精密度和准确度； (二)在保证承载ΙΟΟΟμ L的点滴量前提下，其结构比现有大容量超载膜更为简单，即去除了原来大容量超载膜的缓冲区。 【专利附图】【附图说明】 附图1是实施例一 X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜的结构示意图； 附图2是图1所示超载膜的俯视图； 附图3是实施例二 X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜的结构示意图； 附图4是图3所示超载膜的俯视图。 【具体实施方式】 下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，但不作为对本技术的限定。 在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指参考附图所示的上、下、左、右。 实施例一: 一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，由聚脂膜片1、富集膜2及隔离膜3构成。 富集膜2粘结在聚脂膜片I顶面的中心位置。环状隔离膜3环绕粘结在富集膜2外侧。 富集膜2上均匀分布有止流孔4。止流孔4呈矩形阵列排布，且其直径为1mm，相邻止流孔的孔心间距2mm。 富集膜2、隔离膜3通过热压或用粘结剂与聚脂膜片I粘结成一体。 实施例二: —种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，由聚脂膜片1、富集膜2及隔离膜3构成。 富集膜2粘结在聚脂膜片I顶面的中心位置。环状隔离膜3环绕粘结在富集膜2外侧。 富集膜2上均匀分布有止流孔4。止流孔4为盲孔，呈环形阵列排布。止流孔4的直径为1mm，相邻止流孔的孔心间距2mm左右。 富集膜2、隔离膜3通过热压或用粘结剂与聚脂膜片I粘结成一体。 以上所述的实施例，只是本技术较优选的【具体实施方式】，本领域的技术人员在本技术技术方案范围内进行的通常变化和替换都应包含在本技术的保护范围内。【权利要求】1.一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，包括聚脂膜片及富集膜，富集膜设置在聚脂膜片顶面，其特征在于，富集膜上均匀分布有止流孔，止流孔直径0.5-1.5_，相邻止流孔的孔心间距1-3.5mmο2.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，其特征在于，富集膜外侧环绕设置有隔离膜。3.根据权利要求1或2所述的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，其特征在于，所述止流孔为盲孔。4.根据权利要求1或2所述的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，其特征在于，止流孔呈矩形阵列分布。5.根据权利要求1或2所述的X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，其特征在于，止流孔呈环形阵列分布。【文档编号】G01N23/223GK203929684SQ201420354407【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年6月30日 优先权日:2014年6月30日 【专利技术者】洪飞, 王卿, 姜云 申请人:洪飞, 王卿, 姜云本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线荧光光谱分析用均匀型超载膜，包括聚脂膜片及富集膜，富集膜设置在聚脂膜片顶面，其特征在于，富集膜上均匀分布有止流孔，止流孔直径0.5‑1.5mm，相邻止流孔的孔心间距1‑3.5mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：洪飞，王卿，姜云，
申请(专利权)人：洪飞，王卿，姜云，
类型：新型
国别省市：山东;37