本发明专利技术公开了一种六工位CCD检测机遮光暗箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置在所述滑轨底端，所述遮光罩固定在所述内部暗箱上侧。本发明专利技术提高检测效果及稳定性，从而提高被检产品的品质等特点。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种六工位CCD检测机遮光暗箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置在所述滑轨底端，所述遮光罩固定在所述内部暗箱上侧。本专利技术提高检测效果及稳定性，从而提高被检产品的品质等特点。【专利说明】
本专利技术涉及一种光学量测，尤其涉及一种六工位CCD检测机遮光暗箱。 六工位CCD检测机遮光暗箱
技术介绍
光学测量是光电技术与机械测量结合的高科技。借用计算机技术，可以实现快速， 准确的测量。方便记录，存储，打印，查询等等功能。据中国仪器超市介绍，光学测量主要应 用在现代工业检测，主要检测产品的形位公差以及数值孔径等是否合格。主要应用的行业 领域有：金属制品加工业、模具、塑胶、五金、齿轮、手机等行业的检测，以及工业界的产品开 发、模具设计、手扳制作、原版雕刻、RP快速成型、电路检测等领域。主要仪器表现为：二次 元、工具显微镜、光学影像测量仪、光学影像投影仪、三次元、三坐标测量机、三维激光抄数 机等。在机械制造行业中，为了使机加工的产品能达到设计精度和质量要求，除了传统的物 理计量与检测实现方法，可以运用高性能计算机及软件技术、光学、光学成像、声学与机器 动作多种混合技术实现的逻辑计量与检测，我们习惯将这些复杂的计量与检测技术称之为 非接触计量与检测技术。将这些非接触计量与检测技术应用到为客户定制的计量与检测工 具和设备之中，在实际项目中取得了满意的预期效果。CCD是使用一种高感光度的半导体材 料集成，它能够根据照射在其面上的光线产生相应的电荷信号，在通过模数转换器芯片转 换成"〇"或" 1"的数字信号，这种数字信号经过压缩和程序排列后，可由闪速存储器或硬盘 卡保存即收光信号转换成计算机能识别的电子图像信号，可对被侧物体进行准确的测量、 分析。传统的CCD检测时容易漏光，反光，造成被检产品误检。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种提商了检测效果及稳定性，从而提商被检广品的品质 等特点的六工位CCD检测机遮光暗箱。 为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：一种六工位CCD检测机遮光暗 箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外 部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部 暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置 在所述滑轨底端，所述遮光罩为双层遮光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间 槽内，所述外层遮光罩固定在所述内部暗箱上侧，所述遮光罩框架采用黑色材料制成。 在本专利技术一个较佳实施例中，所述黑色材料为铝合金。 在本专利技术一个较佳实施例中，所述遮光罩定位精度为0. 02mm。 在本专利技术一个较佳实施例中，所述黑色材料通过黑色阳极氧化处理。 在本专利技术一个较佳实施例中，所述外部暗箱内部涂有吸光层。 本专利技术的六工位CCD检测机遮光暗箱具有提高了检测效果及稳定性，从而提高被 检广品的品质等特点。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术六工位CCD检测机遮光暗箱一较佳实施例的立体结构示意图； 图2是图1内部暗箱的局部结构不意图； 附图中各部件的标记如下：1、外部暗箱，2、滑轨，3、遮光罩，4、内部暗箱，4、卡扣。 【具体实施方式】 以上仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可 依照说明书的内容予以实施，以下以一较佳实施例以及附图对本专利技术的技术方案作进一步 的说明。 参阅图1，一种六工位C⑶检测机遮光暗箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主 体包括外部暗箱1、滑轨2、遮光罩3和内部暗箱4,所述外部暗箱1为底部开放的长方形箱 体，所述滑轨2上端垂直固定在所述外部暗箱1内侧，所述内部暗箱4为顶部开放的长方 形箱体，所述内部暗箱4侧面设有一个卡扣41，所述卡扣41可移动的设置在所述滑轨2底 端，所述遮光罩3为双层遮光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间槽内，所述外 层遮光罩固定在所述内部暗箱4上侧，所述遮光罩3框架采用黑色材料制成。 本专利技术的六工位CCD检测机遮光暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体， 其尺寸为直径582cm，高337. 5cm，外部暗箱内壁涂有吸光层，所述遮光罩通过双层遮光，提 高遮光效果，遮光罩框架采用黑色材料及通过发黑及磨砂处理，外层遮光罩把外部光源遮 蔽，内遮光罩遮蔽被检产品的四周框架，防止零件的折射光，杜绝产品本身的反光，所述黑 色材料为铝合金，所述黑色材料通过黑色阳极氧化处理。通过定位精度来保证每工位、每次 量测的数据准确性，准确保证遮光罩定位精度为〇. 〇2mm。因此本专利技术的六工位CCD检测机 遮光暗箱具有提1? 了检测效果及稳定性，从而提1?被检广品的品质等特点。 以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本发 明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技 术领域，均同理包括在本专利技术的专利保护范围。【权利要求】1. 一种六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主 体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述 滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内 部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置在所述滑轨底端，所述遮光罩为双层遮 光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间槽内，所述外层遮光罩固定在所述内部 暗箱上侧，所述遮光罩框架采用黑色材料制成。2. 根据权利要求1所述的六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：所述黑色材料为 错合金。3. 根据权利要求1所述的六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：所述遮光罩定位 精度为〇· 〇2mm。4. 根据权利要求1所述的六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：所述黑色材料通 过黑色阳极氧化处理。5. 根据权利要求4所述的六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：所述外部暗箱内 部涂有吸光层。【文档编号】G01B11/00GK104101298SQ201410361805【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年7月28日 优先权日:2014年7月28日 【专利技术者】陈士波, 徐二贵, 赵琳娜 申请人:苏州春田机械有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种六工位CCD检测机遮光暗箱，其特征在于：包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置在所述滑轨底端，所述遮光罩为双层遮光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间槽内，所述外层遮光罩固定在所述内部暗箱上侧，所述遮光罩框架采用黑色材料制成。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈士波，徐二贵，赵琳娜，
申请(专利权)人：苏州春田机械有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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