一种膜层刻蚀防损伤监控设备制造技术

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，特别涉及一种膜层刻蚀防损伤监控设备，该监控设备包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。本实用新型专利技术提供的膜层刻蚀防损伤监控设备，结构简单，使用方便，通过对比不同状态下膜层的透光率，可有效监控对膜层的刻蚀程度，最大程度确保膜层不被过度刻蚀，确保膜层的性能，进而提高产品的良品率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及显示
，特别涉及一种膜层刻蚀防损伤监控设备，该监控设备包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。本技术提供的膜层刻蚀防损伤监控设备，结构简单，使用方便，通过对比不同状态下膜层的透光率，可有效监控对膜层的刻蚀程度，最大程度确保膜层不被过度刻蚀，确保膜层的性能，进而提高产品的良品率。【专利说明】一种膜层刻蚀防损伤监控设备
本技术涉及显示
，特别涉及一种膜层刻蚀防损伤监控设备。
技术介绍
目前，由于低温多晶硅显示基板相对非晶硅显示基板具有更高的驱动能力，可较 容易获得更高的显示质量，因此，越来越受到用户的追捧。如图1所示，为一种典型的顶栅 结构阵列基板的结构示意图，该阵列基板包括玻璃等透明基板101'、缓冲层102'、多晶硅 有源层103'、栅极绝缘层104'、栅极金属105'和层间绝缘层106'组成。参考附图1B，在刻 蚀过孔时，在层间绝缘层106'之上用光刻工艺形成掩膜107'，采用干法刻蚀108'将带刻蚀 区域109'刻蚀去除，从而形成过孔，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜层刻蚀防损伤监控设备，其特征在于，包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘政，任章淳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11