再分散型粉末分散化妆品制造技术

技术编号:10509040 阅读:124 留言:0更新日期:2014-10-08 12:04
本发明专利技术提供未使用时上清澄净,且使用时通过摇动粉末再分散性良好,涂布于皮肤时光滑感及干爽感之类的使用感触优异,而且具有优异的角栓溶解去除效果的再分散型粉末分散化妆品。其特征在于,含有:(A)琥珀酸和/或其盐、(B)膨润土、和(C)亲水性表面活性剂。特别优选还包含纤维素末。另外,优选(A)琥珀酸和/或其盐相对于化妆品总量配合0.01~10.0质量%。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】再分散型粉末分散化妆品
本专利技术涉及通过摇动使粉末成分分散后涂布于皮肤类型的、具有角栓溶解去除效 果的再分散型粉末分散化妆品。更详细而言,涉及未使用时上清澄净,且使用时通过摇动粉 末再分散性良好,涂布于皮肤时光滑感及干爽感之类的使用感触优异,而且具有优异的角 栓溶解去除效果的再分散型粉末分散化妆品。
技术介绍
角栓是从皮脂腺分泌的皮脂、周围的老旧角质在毛孔中积蓄并凝固的物质,是形 成粉刺、毛孔的黑头的原因。迄今为止,作为去除角栓的主要方法,可以使用将胶纸剂贴附 于皮肤,或者用撕拉面膜剂包住毛孔后,使角栓吸附于它们之上,然后将角栓连同胶纸剂、 撕拉面膜剂(pack preparation)剥离的方法。但是,这些方法中,胶纸剂、撕拉面膜剂剥离 时会感到疼痛,或者会有不仅是角栓连健康的皮肤表面的角质也被去除的可能性,从而产 生皮肤问题。因此,提出了不利用这种物理去除方法,而使用乳酸、柠檬酸等有机酸和/或 其盐,高效地从毛孔去除角栓的方法(专利文献1)。 另一方面,已知有含有粉末成分、使用时摇动而使粉末成分再分散类型的化妆品 即再分散型粉末分散化妆品。再分散型粉末分散化妆品中,为了抑制黏腻、赋予干爽的感 触,可以使用滑石、氧化钛、二氧化硅等无机粉末以及尼龙粉末、聚乙烯等有机粉末等作为 粉末成分。但是,这些粉末在配合于化妆水之类的非乳化型化妆品时,会有粉末之间发生摩 擦而产生发涩感、粉末与皮肤直接摩擦而损伤角质层的情况。因此,提出了使用粉末的硬度 比较低的球状纤维素末的方案等(专利文献2)。 然而,为了得到发挥出涂布于皮肤时的优异的使用感触之类的优点并且具有角栓 溶解去除效果的再分散型粉末分散化妆品,如果在含有球状纤维素末等粉末成分的再分散 型粉末分散化妆品中配合柠檬酸等有机酸和/或其盐,则尽管含有粉末成分也无法得到充 分的使用感触。另外,使用时会有即使摇动粉末成分也会残留于容器底部而无法实现粉末 充分再分散的倾向。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平4-360830号公报 专利文献2 :日本特开平11-116427号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问是页 本专利技术是鉴于前述现有技术的缺点而做出的,目的在于提供未使用时上清澄净, 且使用时通过摇动粉末分散性良好,涂布于皮肤时光滑感及干爽感之类的使用感触优异 的、具有角栓溶解去除效果的再分散型粉末分散化妆品。 用于解决问题的方案 本专利技术人等经过深入研究,结果发现,再分散型粉末分散化妆品中,使用琥珀酸和 /或其盐作为角栓溶解去除成分,进而配合膨润土及亲水性表面活性剂,由此得到使用感触 及粉末再分散性优异、且具有优异的角栓溶解去除效果的化妆品,从而完成了本专利技术。 gp,本专利技术的要旨如下所述。 (1) -种再分散型粉末分散化妆品,其含有: (A)琥珀酸和/或其盐、 (B)膨润土、和 (C)亲水性表面活性剂。 (2)根据(1)的再分散型粉末分散化妆品,其还含有纤维素末。 (3)根据(1)或(2)的再分散型粉末分散化妆品,其中,(A)琥珀酸和/或其盐相 对于化妆品的总量配合〇. 01?10. 〇质量%。 专利技术的效果 本专利技术所述的再分散型粉末分散化妆品,保存时上清澄净,且使用时通过摇动粉 末再分散性良好,涂布于皮肤时光滑感及干爽感之类的使用感触优异,而且角栓溶解去除 效果也优异。因此,可以不损伤皮肤地去除角栓,使毛孔不明显,另外,其使用感也舒适。 【具体实施方式】 本专利技术的再分散型粉末分散化妆品的特征在于,含有:(A)琥珀酸和/或其盐、(B) 膨润土、和(C)亲水性表面活性剂。以下,对于本专利技术进行详细叙述。 <㈧琥珀酸和/或其盐> 本专利技术所使用的琥珀酸为下式所示的公知的物质。 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种再分散型粉末分散化妆品,其包含:(A)琥珀酸和/或其盐、(B)膨润土、和(C)亲水性表面活性剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.02 JP 2012-020547;2012.12.18 JP 2012-275271. 一种再分散型粉末分散化妆品,其包含: (A)琥珀酸...

【专利技术属性】
技术研发人员:白尾雅之麦仓茂
申请(专利权)人:株式会社资生堂
类型:发明
国别省市:日本;JP

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