荧光X射线分析装置制造方法及图纸

技术编号:10498049 阅读:88 留言:0更新日期:2014-10-04 15:11
本发明专利技术提供荧光X射线分析装置,其能够检测载置于落下防止板上的异物。该荧光X射线分析装置具有:试样台,其在X射线照射位置处具有孔部,能够在孔部上设置试样;X射线源,其从下方对试样照射原级X射线(X1);检测器,其相对于孔部配置在下方,对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线(X2)进行检测;透明的落下防止板,其以能够进退的方式支承在孔部的正下方;驱动机构,其使落下防止板进退;观察用照相机,其设置在孔部的下方,能够对位于孔部的正下方时的落下防止板进行观察;以及运算部,其对由观察用照相机拍摄到的落下防止板的图像进行处理,运算部根据落下防止板移动或振动前后的图像的差分,检测落下防止板上的异物。

【技术实现步骤摘要】
荧光X射线分析装置
本专利技术涉及能够检测有害物质等而用于产品筛选等的荧光X射线分析装置。
技术介绍
荧光X射线分析如下:对试样照射从X射线源射出的X射线,利用X射线检测器来检测从试样放出的作为特征X射线的荧光X射线,从而根据其能量取得光谱,进行试样的定性分析或定量分析。由于能够以非破坏的方式迅速地对试样进行分析,因此在工序/品质管理等中广泛利用该荧光X射线分析。近年来,实现了高精度化/高灵敏度化而能够进行微量测定,特别是期待普及为检测包含于材料或复合电子部件等中的有害物质的分析手法。 在该荧光X射线分析装置中,公知有从试样的下方照射原级X射线的下表面照射型装置。以往,在这种下表面照射型装置中,由于检测器等位于试样的下方,因此为了防止在试样设置时试样的一部分由于洒出等而落下,在试样台上设置透明的落下防止板。例如,在专利文献I中记载了如下装置:使用安装了被称为聚酯薄膜的PET薄膜等树脂薄膜的试样架,在树脂薄膜上载置试样,并且以堵住基板的开口的方式载置试样架,经由开口和树脂薄膜对试样照射激励X射线。 专利文献1:日本特开2011-203102号公报 在上述现本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置具有:试样台,其在X射线照射位置处具有孔部,能够在所述孔部上设置试样;X射线源,其从下方对设置在所述孔部上的所述试样照射原级X射线;以及检测器,其相对于所述孔部配置在下方,对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测,所述荧光X射线分析装置的特征在于,具有:透明的落下防止板,其以能够进退的方式支承在所述孔部的正下方;驱动机构,其使所述落下防止板进退;观察用照相机,其设置在所述孔部的下方,能够对位于所述孔部的正下方时的所述落下防止板进行观察;以及运算部,其对由所述观察用照相机拍摄到的所述落下防止板的图像进行处理,所述运算部根据由所述驱动机...

【技术特征摘要】
2013.03.25 JP 2013-0613111.一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置具有:试样台,其在X射线照射位置处具有孔部,能够在所述孔部上设置试样;x射线源,其从下方对设置在所述孔部上的所述试样照射原级X射线;以及检测器,其相对于所述孔部配置在下方,对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测,所述荧光X射线分析装置的特征在于,具有: 透明的落下防止板,其以能够进退的方式支承在所述孔部的正下方; 驱动机构,其使所述落下防止板进退; 观察用照相机,其设置在所述孔部的下方,能够对位于所述孔部的正下方时的所述落下防止板进行观察;以及 运算部,其对由所述观察...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐久田昌博长谷川清的场吉毅
申请(专利权)人:日本株式会社日立高新技术科学
类型:发明
国别省市:日本;JP

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