荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供荧光X射线分析装置，其能够通过比较简单的结构和控制来抑制输出强度的变动。该荧光X射线分析装置（1）具有：X射线源（2），其对试样S照射原级X射线；聚光元件（3），其会聚从X射线源照射的原级X射线，减小对于试样的照射面积；检测器（4），其对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线进行检测；筐体（5），其收纳X射线源和聚光元件；温度传感器（6），其设置在X射线源和X射线源周围的至少一方；外气用扇（7），其在筐体上至少设置有一个，能够更换内部与外部的空气；以及控制部（C），其根据由温度传感器检测出的温度信息对外气用扇进行驱动，将X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。

【技术实现步骤摘要】
荧光X射线分析装置
本专利技术涉及能够检测有害物质等而在产品筛选等或者镀金等的膜厚测定中使用的荧光X射线分析装置。
技术介绍
荧光X射线分析如下:对试样照射从X射线源射出的X射线，利用X射线检测器来检测从试样放出的作为特征X射线的荧光X射线，从而根据其能量取得光谱，进行试样的定性分析、定量分析或膜厚测定。由于能够以非破坏的方式迅速地对试样进行分析，因此在工序/品质管理等中广泛利用该荧光X射线分析。近年来，实现了高精度化/高灵敏度化而能够进行微量测定，特别是期待普及为检测包含于材料或复合电子部件等中的有害物质的分析手法。 关于该荧光X射线分析装置，已知有如下装置:该装置具备能够会聚来自X射线源的X射线而减小对于试样的照射面积的多毛细管。该多毛细管是如下这样的X射线聚光元件:其由直径10 μ m左右的玻璃管(毛细管)束构成，具有使所入射的X射线在内部进行全反射而进行会聚并射出的透镜功能。 例如，在专利文献I中记载了如下的X射线源组件:其具备X射线管和作为收集来自X射线管的X射线的X射线光学设备的多毛细管。在该X射线源组件中具备温度致动器(temperature actuator)，该温度致动器为了进行位置调整而直接对X射线管的靶进行加热/冷却。 专利文献1:日本特开2011-71120号公报 在上述以往的技术中留有以下的问题。 即，在将多毛细管安装到X射线源的管球的装置中存在如下问题:来自多毛细管的输出强度依赖于其安装位置，当产生位置偏差时输出强度降低。例如，多毛细管在水平方向上仅相对地偏差1ym,输出强度就减少5%。因此，为了以稳定的输出强度进行测定，需要将多毛细管安装在输出强度最大的部分，并且必须确保不会从已安装的位置偏离。作为多毛细管的位置偏差的要因，举出了机械性的要因和由于热(温度漂移)而导致的要因。尤其，在X射线源的管球中一般施加30W至50W的功率，因此根据功率变更而温度变化大。另夕卜，关于装置周边的温度，只要不特别进行控制，则会变化到10°C?30°C。因为由这种温度变化导致的热膨胀会引起多毛细管的相对位置偏差，因此存在输出强度变动这样的不良情况。 与此相对，在上述专利文献I的技术中，为了抑制由于温度变化而引起的输出强度的变动，对于周围的温度变化直接利用温度致动器来对管球的靶(正极)进行加热/冷却，由此使位置移动，进行基于温度变化的位置校正。但是，存在如下的问题:如上所述在管球的靶上设置温度致动器使得构造变得复杂，并且还难以进行控制，成本也进一步增大。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，提供能够通过比较简单的结构和控制来抑制输出强度的变动的荧光X射线分析装置。 解决问题的手段 本专利技术为了解决上述课题而采用了以下的结构。即，第I方面的荧光X射线分析装置具有:χ射线源，其对试样照射原级X射线；聚光元件，其会聚从所述X射线源照射的所述原级X射线，减小对于所述试样的照射面积；检测器，其对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测；以及筐体，其至少收纳所述X射线源和所述聚光元件，所述荧光X射线分析装置的特征在于，具有:温度传感器，其设置在所述X射线源和所述X射线源周围的至少一方；外气用扇，其在所述筐体上至少设置有一个，更换内部与外部的空气；以及控制部，其根据由所述温度传感器检测出的温度信息对所述外气用扇进行驱动，将所述X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。 在该荧光X射线分析装置中，控制部根据由温度传感器检测出的温度信息对外气用扇进行驱动，将X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度，因此不是如以往技术那样对X射线源部分地进行温度控制，而是将X射线源周围的整个气氛温度控制为恒定的温度，从而能够整体地消除温度变动并抑制位置偏差。因此，不需要在X射线源上直接组合温度控制机构而使构造复杂化，能够通过基于作为热源的X射线源和进行换气的外气用扇实现的比较简单的结构和控制来抑制X射线源与多毛细管之间的温度变动，能够抑制由位置偏差引起的输出强度的变动。 第2方面的荧光X射线分析装置是，在第I方面中，其特征在于，所述荧光X射线分析装置具有循环用扇，该循环用扇设置于所述X射线源的周围，所述控制部还对所述循环用扇进行驱动而进行所述调整。 S卩，在该荧光X射线分析装置中，因为控制部还对循环用扇进行驱动而进行所述调整，所以不会出现仅通过外气用扇的驱动无法使冷却效果充分的情况等，不仅是外气用扇还对循环用扇进行驱动，从而能够使X射线源周围的气氛循环，不产生由于滞留而引起的温差。 第3方面的荧光X射线分析装置是，在第I或第2方面中，其特征在于，所述荧光X射线分析装置具有加热器，该加热器配置在导入所述外气的所述外气用扇与所述X射线源之间，所述控制部还对所述加热器进行驱动而进行所述调整。 S卩，在该荧光X射线分析装置中，控制部还对加热器进行驱动而进行所述调整，因此即使在由外气用扇导入的外气的温度过低的情况或仅依靠X射线源自身的热而导致气氛温度的上升不充分的情况下，也能够通过加热器对所导入的外气进行加热而使其成为温风，从而能够容易地提高气氛温度，能够进行更灵活的温度控制。 第4方面的荧光X射线分析装置是，在第I?第3方面的任意一个中，其特征在于，所述聚光元件是多毛细管。 第5方面的荧光X射线分析装置是，在第I方面的荧光X射线分析装置中，其特征在于，所述外气用扇具有将所述外气导入到所述筐体的吸气扇和排出所述内部的空气的排气扇。 第6方面的荧光X射线分析装置是，在第5方面的荧光X射线分析装置中，其特征在于，所述吸气扇构成为向所述X射线源导入所述外气，所述荧光X射线分析装置具有循环用扇，该循环用扇设置在所述X射线源的周围，使空气在所述X射线源的周围进行循环，所述控制部根据由所述温度传感器检测出的温度信息，选择性地对所述吸气扇、所述排气扇、所述循环用扇进行驱动而进行所述调整。 第7方面的荧光X射线分析装置是，在第6方面的荧光X射线分析装置中，其特征在于，所述温度传感器安装在所述X射线源上，检测所述X射线源的温度。 [0021 ] 第8方面的荧光X射线分析装置是，在第5方面的荧光X射线分析装置中，其特征在于，所述荧光X射线分析装置具有加热器，该加热器配置在所述吸气扇与所述X射线源之间，对由所述吸气扇导入的所述外气进行加热，所述温度传感器由安装在所述X射线源上而检测所述X射线源的温度的第I温度传感器和配置在所述加热器与所述X射线源之间而检测所述加热空气的温度的第2温度传感器构成，所述控制部根据由所述第I温度传感器、第2温度传感器检测出的温度信息，选择性地对所述吸气扇、所述排气扇、所述加热器进行驱动而进行所述调整。 根据本专利技术具有以下效果。 即，根据本专利技术的荧光X射线分析装置，控制部根据由温度传感器检测出的温度信息来对外气用扇进行驱动，将X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度，因此能够通过比较简单的结构和控制，以低成本抑制X射线源与多毛细管之间的温度变动，能够抑制由于位置偏差而引起的输出强度的变动。因此，即使X射线源或装置周边的温度变化，也能够将装置内部的气氛温度保持恒定，从而抑制输出强度的变动，能够进行稳定的测定。 【附图说明】 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光X射线分析装置，其具有：X射线源，其对试样照射原级X射线；聚光元件，其会聚从所述X射线源照射的所述原级X射线，减小对于所述试样的照射面积；检测器，其对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测；以及筐体，其至少收纳所述X射线源和所述聚光元件，所述荧光X射线分析装置的特征在于，具有：温度传感器，其设置在所述X射线源和所述X射线源周围的至少一方；外气用扇，其在所述筐体上至少设置有一个，更换内部与外部的空气；以及控制部，其根据由所述温度传感器检测出的温度信息对所述外气用扇进行驱动，将所述X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。

【技术特征摘要】
2013.03.27 JP 2013-0657141.一种荧光X射线分析装置，其具有:χ射线源，其对试样照射原级X射线；聚光元件，其会聚从所述X射线源照射的所述原级X射线，减小对于所述试样的照射面积；检测器，其对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测；以及筐体，其至少收纳所述X射线源和所述聚光元件， 所述荧光X射线分析装置的特征在于，具有: 温度传感器，其设置在所述X射线源和所述X射线源周围的至少一方； 外气用扇，其在所述筐体上至少设置有一个，更换内部与外部的空气；以及控制部，其根据由所述温度传感器检测出的温度信息对所述外气用扇进行驱动，将所述X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于， 所述荧光X射线分析装置具有循环用扇，该循环用扇设置于所述X射线源的周围， 所述控制部还对所述循环用扇进行驱动而进行所述调整。3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于， 所述荧光X射线分析装置具有加热器，该加热器配置在导入所述外气的所述外气用扇与所述X射线源之间， 所述控制部还对所述加热器进行驱动而进行所述调整。4.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：广瀬龙介，高桥春男，的场吉毅，田村浩一，
申请(专利权)人：日本株式会社日立高新技术科学，
类型：发明
国别省市：日本;JP