皮炎治疗剂制造技术

本发明专利技术提供一种外用皮炎治疗剂，其以下式[I]所示的化合物或者其药理上可允许的盐为有效成分而形成，式中，R1和R2表示低级烷氧基，＝Ｘ－表示式所示的基团或式＝N－所示的基团，环A表示具有选自羟基、氧基、低级烷氧基、二低级烷氨基苯基、哌啶子基低级烷氧基、吗啉基低级烷氧基、低级环烷基氨基低级烷氨基、吡啶基以及吗啉基中的1～4个取代基的饱和或不饱和二环式含氮杂环基，表示单键或双键。

【技术实现步骤摘要】
皮炎治疗剂本申请是中国专利申请201210495125.7的分案申请，原申请201210495125.7的申请日为2006年10月05日，其名称为“皮炎治疗剂”。
本专利技术涉及对治疗特应性皮炎等皮炎有用的新的外用药。
技术介绍
皮炎是皮肤对各种内在、外在原因的炎症反应，该疾病包括特应性皮炎、接触性皮炎、脂溢性皮炎、钱币状湿疹、自体敏感性湿疹等。这些皮炎在多数情况下伴随有搔痒。另外，在这些当中，特应性皮炎是症状消失及恶化不断反复的顽固性的慢性炎症性疾病，其发病和慢性化方面显示出与嗜酸性中性粒细胞或淋巴细胞浸润以及伴随炎症部位的各种细胞因子的产生的迟发型反应有关(非专利文献I和2)。 特应性皮炎的治疗中，在发病?恶化因子的除去和皮肤养护的同时，可以根据症状使用药物疗法，但对于炎症，主要使用类固醇类外用药。另外，最近作为免疫抑制剂的一种的他克莫司(tacrolimus)被用于特应性皮炎治疗。然而，从安全性和副作用的观点出发，这些现有的药剂未必令人满意。因此，期望开发出不仅有效性高而且安全性高的皮炎治疗剂。 已知作为本专利技术的有效成分的化合物[I]具有选择性磷酸二酯酶IV(PDE IV)抑制作用，作为哮喘等的预防?治疗剂有用(专利文献I和2)。然而，还没有报道该化合物 [I]可用作特应性皮炎等皮炎的治疗剂。 专利文献1:欧洲专利第748805号(第2页) 专利文献2:欧洲专利第848000号(第2页) 非专利文献1:1wamoto 等，J.Leukoc.B1l., Vol.52，pp.572-578 (1992) 非专利文献2:Frigas 等，J.Allergy Clin.Tmmunol., Vol.77, pp.527-537 (1986)
技术实现思路
专利技术要解决的问题 本专利技术提供对特应性皮炎等皮炎的治疗有用的新的外用药。 用于解决问题的手段 本专利技术涉及一种外用皮炎治疗剂，其以下式[I]所示的化合物或者其药理上可允许的盐为有效成分而形成， 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学活性四氢喹啉化合物，所述光学活性四氢喹啉化合物由下式表示：其中，OZ表示被保护的羟基。

【技术特征摘要】
2005.10.05 JP 2005-2920401.一种光学活性四氢喹啉化合物，所述光学活性四氢喹啉化合物由下式表示:其中，OZ表示被保护的羟基。2.根据权利要求1所述的光学活性四氢喹啉化合物，其中Z为叔丁基二甲基甲硅烷基。3.一种由下式表示的光学活性四氢喹啉化合物的制备方法:其中，OZ表示被保护的羟基，所述方法包括以下步骤: ...

【专利技术属性】
技术研发人员：直塚敦子，菊地松夫，
申请(专利权)人：田边三菱制药株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP