LAN_CWDM薄膜滤光片制造技术

技术编号:10477502 阅读:189 留言:0更新日期:2014-09-25 15:34
本实用新型专利技术公开了一种LAN_CWDM薄膜滤光片,它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由75个五氧化二铌反射介质层和75个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的150层结构,第1层至第149层的奇数层为五氧化二铌反射介质层,第2层至第150层的偶数层为二氧化硅反射介质层。由于采用上述的结构形式,本实用新型专利技术通过膜层的材料、厚度和叠放方式以及层数,经过大量实验和尝试,膜层数从200层较少到150层,Surfacequality(40/20)指标良率提高到90%。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片,特别是一种LAN_CWDM薄膜滤光片。 LAN_CWDM薄膜滤光片
技术介绍
LAN_CWDM薄膜滤光片,是指用于局域网(Local Area Network, LAN)的稀疏波分 复用(CWDM)的薄膜滤光片。通信界的带宽发展速度,基本上与计算领域的摩尔定律相当, 呈现高速的发展趋势。随着云计算和视频应用等各种新的应用的普及,客户高端光模块产 品的需求增长迅速,率先推出创新的适应高端市场的产品已经成为企业占据先机的优势渠 道。目前很多光器件商所生产的100G光模块多为25GX4的,学名QSFP上的光学薄膜滤光 片,QSFP主要是一个紧凑型的热插拔光纤收发器,主要应用于数据通信,用以连接网络设备 主板(如交换机、路由器、媒体转换器或类似的设备)到光纤电缆。QSFP是一个行业联合 开发的标准,有许多网络组件供应商。QSFP+光收发器的设计符合Serial Attached SCSI (串行连接 SCSI), 40G Ethernet (40G 以太网),20G/40G Infiniband,和其他通信标准。 因此,组成该器件的主要光学元件LAN-CWDM产品的开发及应用,理所当然的得到了广泛 的应用。 目前,LAN-CWDM薄膜滤光片存在以下缺点:1. LAN-CWDM薄膜滤光片镀膜层数达到 200层以上,由于镀膜时间较长,Surface quality (40/20)指标目前能达到的良率为50%。 2. LAN-CWDM薄膜滤光片通带范围要求窄,陡度要求高,目前相邻通道隔离度大于27dB,非 相邻通道隔离度大于40db,反射隔离度值达到12dB。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中的不足,提供一种能提高产品制造合格率的 LAN_CWDM薄膜滤光片。 为实现上述目的,本技术所采用的技术方案是: LAN_CWDM薄膜滤光片,它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反膜设在玻璃基 板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由75个五氧化二铌反射 介质层和75个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的150层结构,第1层至第149层的奇数 层为五氧化二铌反射介质层,第2层至第150层的偶数层为二氧化硅反射介质层。 所述偶数层中,其中,第148层的厚度为331. llum,第150层的厚度为356. 59um, 其余偶数层的厚度均为225. 7um ;所述奇数层中,第7层的厚度为461. 84um,第9层的厚度 为923. 68um,第149层的厚度为54. 69um,其余奇数层的厚度均为153. 95um。 所述增透膜是由1个五氧化二钽反射介质层和1个二氧化硅反射介质层构成,第1 层为二氧化硅反射介质层,紧贴在玻璃基板的表面,第2层为五氧化二钽反射介质层,紧贴 在第1层的表面。 所述增透膜的厚度为421. 97um。 所述增透膜中,第一层的厚度为66. 37um,第二层的厚度为355. 6um。 toon] 本技术的有益效果:由于采用上述的结构形式,本技术通过膜层的材料、 厚度和叠放方式以及层数,经过大量实验和尝试,膜层数从200层较少到150层,Surface quality (40/20)指标良率提高到90%;运用高折射率和底折射率相互配合,高能离子辅助 技术镀膜LAN-CWDM薄膜滤光片,提高到现在的相邻通道隔离度大于30dB,非相邻通道隔离 度大于55db,反射隔离度值可以到15dB。 【附图说明】 下面结合附图和【具体实施方式】对本技术作进一步详细说明: 图1为本技术的结构示意图。 图中:1、玻璃基板;2、高反膜;3、增透膜。 【具体实施方式】 如图1所示,LAN_CWDM薄膜滤光片,它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反 膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由75个五 氧化二铌反射介质层和75个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的150层结构,第1层至第 149层的奇数层为五氧化二铌反射介质层,第2层至第150层的偶数层为二氧化硅反射介 质层。所述偶数层中,其中,第148层的厚度为331. llum,第150层的厚度为356. 59um,其 余偶数层的厚度均为225. 7um ;所述奇数层中,第7层的厚度为461. 84um,第9层的厚度为 923. 68um,第149层的厚度为54. 69um,其余奇数层的厚度均为153. 95um。 所述增透膜是由1个五氧化二钽反射介质层和1个二氧化硅反射介质层构成,第1 层为二氧化硅反射介质层,紧贴在玻璃基板的表面,第2层为五氧化二钽反射介质层,紧贴 在第1层的表面。所述增透膜的厚度为421. 97um。所述增透膜中,第一层的厚度为66. 37um, 第二层的厚度为355. 6um。 以上所述是本技术的优选实施方式而已,当然不能以此来限定本技术之 权利范围,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,对本技术的技术方案进行 修改或者等同替换,都不脱离本技术技术方案的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种LAN_CWDM薄膜滤光片,其特征在于:它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高反膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由75个五氧化二铌反射介质层和75个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的150层结构,第1层至第149层的奇数层为五氧化二铌反射介质层,第2层至第150层的偶数层为二氧化硅反射介质层。

【技术特征摘要】
1. 一种LAN_CWDM薄膜滤光片,其特征在于:它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成,高 反膜设在玻璃基板的一侧表面,增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由75个 五氧化二铌反射介质层和75个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的150层结构,第1层至 第149层的奇数层为五氧化二铌反射介质层,第2层至第150层的偶数层为二氧化硅反射 介质层。2. 根据权利要求1所述的LAN_CWDM薄膜滤光片,其特征在于:所述偶数层中,其中,第 148层的厚度为331. llum,第150层的厚度为356. 59um,其余偶数层的厚度均为225. 7um ; 所述奇数层中,第7层的厚度为461. 84um,第...

【专利技术属性】
技术研发人员:王朋飞
申请(专利权)人:奥普镀膜技术广州有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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