本实用新型专利技术公开了一种CWDM薄膜滤光片，它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由69个五氧化二钽反射介质层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结构，第1层至第137层的奇数层为五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为二氧化硅反射介质层。由于采用上述的结构形式，本实用新型专利技术通过膜层的材料、厚度和叠放方式以及层数，膜层数从200层较少到138层，产品的生产良率能提高到90%以上；由于减少了层数和各层的厚度设计，故将本实用新型专利技术的滤光片称为超薄型CWDM薄膜滤光片，该滤光片的反射插入损耗可做到0.15DB。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种CWDM薄膜滤光片，它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由69个五氧化二钽反射介质层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结构，第1层至第137层的奇数层为五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为二氧化硅反射介质层。由于采用上述的结构形式，本技术通过膜层的材料、厚度和叠放方式以及层数，膜层数从200层较少到138层，产品的生产良率能提高到90%以上；由于减少了层数和各层的厚度设计，故将本技术的滤光片称为超薄型CWDM薄膜滤光片，该滤光片的反射插入损耗可做到0.15DB。【专利说明】
本技术涉及一种滤光片，特别是一种CWDM薄膜滤光片。 CWDM薄膜滤光片
技术介绍
DWDM (即密集波分复用)是当今光纤应用领域的首选技术，但其昂贵的价格令不少 手头不够宽裕的运营商颇为踌躇。那么有没有或能以较低的成本享用波分复用技术呢？面 对这一需求，CWDM (稀疏波分复用)便应运而生了。CWDM调制激光采用非冷却激光，而DWDM 采用的是冷却激光。冷却激光采用温度调谐，非冷却激光采用电子调谐。由于在一个很宽 的波长区段内温度分布很不均匀，因此温度调谐实现起来难度很大，成本也很高。CWDM避开 了这一难点，因则大幅降低了成本。随着光通信市场的不断发展，CWDM器件需求出现连年增 长的趋势，各器件商也对该产品的性能不断升级改进，对器件的性能，外观，尺寸都提出了 较高的要求。作为器件最主要的组成部件CWDM薄膜滤光片也做了一系列升级改进。目前 实际采用的CWDM封装尺寸基本上都是110 X 80 X 12mm3,所采用的CWDM薄膜滤光片的尺寸 为1. 4*1. 4*1. 0 ;CWDM器件损耗的最根本因素是准直器之间的耦合损耗和滤波器损耗。因 此它的损耗也必然较大，尤其是在信道数量较大的时候准直器对的损耗都在〇. 2dB左右。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中的不足，提供一种反射插入损耗低的CWDM 薄膜滤光片。 为实现上述目的，本技术所采用的技术方案是： CWDM薄膜滤光片，它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的 一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面，所述高反膜是由69个五氧化二钽反射介质 层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结构，第1层至第137层的奇数层为 五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为二氧化硅反射介质层。 所述偶数层中，其中，第6层的厚度为1658. 65um，第20层的厚度为552. 88um，第 138层的厚度为408. 8um，其余偶数层的厚度均为276. 44um ;所述奇数层中，第19层的厚度 为565. 57um，第137层的厚度为46. 47um，其余奇数层的厚度均为188. 52um。 所述增透膜是由1个五氧化二钽反射介质层和1个二氧化硅反射介质层构成，第1 层为二氧化硅反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为五氧化二钽反射介质层，紧贴 在第1层的表面。 所述增透膜的厚度为421. 97um。 所述增透膜中，第一层的厚度为66. 37um，第二层的厚度为355. 6um。 本技术的有益效果：由于采用上述的结构形式，本技术通过膜层的材料、 厚度和叠放方式以及层数，经过大量实验和尝试，膜层数从200层较少到138层，Surface quality (40/20)指标良率提商到90%以上；由于减少了层数，故将本技术的滤光片称 为超薄型CWDM薄膜滤光片，能使现有的CWDM器件封装盒减小了 10倍；另外，该滤光片的反 射插入损耗可做到0. 15DB。 【专利附图】【附图说明】 下面结合附图和【具体实施方式】对本技术作进一步详细说明： 图1为本技术的结构示意图。 图中：1、玻璃基板；2、高反膜；3、增透膜。 【具体实施方式】 如图1所示，CWDM薄膜滤光片，它是由玻璃基板1、高反膜2和增透膜3构成，高 反膜2设在玻璃基板1的一侧表面，增透膜3设在玻璃基板1的另一侧表面，所述高反膜 2是由69个五氧化二钽反射介质层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结 构，第1层至第137层的奇数层为五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为 二氧化硅反射介质层。所述偶数层中，其中，第6层的厚度为1658. 65um，第20层的厚度为 552. 88um，第138层的厚度为408. 8um，其余偶数层的厚度均为276. 44um ;所述奇数层中，第 19层的厚度为565. 57um，第137层的厚度为46. 47um，其余奇数层的厚度均为188. 52um。 所述增透膜3是由1个五氧化二钽反射介质层和1个二氧化硅反射介质层构成， 第1层为二氧化硅反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为五氧化二钽反射介质层， 紧贴在第1层的表面。所述增透膜的厚度为421. 97um。所述增透膜中，第一层的厚度为 66. 37um，第二层的厚度为355. 6um。 以上所述是本技术的优选实施方式而已，当然不能以此来限定本技术之 权利范围，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，对本技术的技术方案进行 修改或者等同替换，都不脱离本技术技术方案的保护范围。【权利要求】1. 一种CWDM薄膜滤光片，其特征在于：它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜 设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面，所述高反膜是由69个五氧 化二钽反射介质层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结构，第1层至第 137层的奇数层为五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为二氧化硅反射介质 层。2. 根据权利要求1所述的CWDM薄膜滤光片，其特征在于：所述偶数层中，其中，第6 层的厚度为1658. 65um，第20层的厚度为552. 88um，第138层的厚度为408. 8um，其余偶 数层的厚度均为276. 44um ;所述奇数层中，第19层的厚度为565. 57um，第137层的厚度为 46. 47um，其余奇数层的厚度均为188. 52um。3. 根据权利要求1或2所述的CWDM薄膜滤光片，其特征在于：所述增透膜是由1个五 氧化二钽反射介质层和1个二氧化硅反射介质层构成，第1层为二氧化硅反射介质层，紧贴 在玻璃基板的表面，第2层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第1层的表面。4. 根据权利要求3所述的CWDM薄膜滤光片，其特征在于：所述增透膜的厚度为 421. 97um。5. 根据权利要求4所述的CWDM薄膜滤光片，其特征在于：所述增透膜中，第一层的厚 度为66. 37um，第二层的厚度为355. 6um。【文档编号】G02B1/11GK203849447SQ201420278483【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年5月28日 优先权日:2014年5月28日 【专利技术者】王朋飞 申请人:奥普镀膜技术（广州）有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种CWDM薄膜滤光片，其特征在于：它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面,所述高反膜是由69个五氧化二钽反射介质层和69个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的138层结构，第1层至第137层的奇数层为五氧化二钽反射介质层，第2层至第138层的偶数层为二氧化硅反射介质层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王朋飞，
申请(专利权)人：奥普镀膜技术广州有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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