本发明专利技术公开了一种铜抛光的方法，旨在提供一种抛光效果稳定，操作方便的铜抛光的方法；该方法依次包括下述步骤：1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到混合抛光液；2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30-180s；3)用清水冲洗干净即可；其中：步骤1)所述的每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水200-500g，氨基三乙酸二钠10-30g，二甘醇丁醚30-60g，酸80～120g，缓蚀剂3-8g，苯甲醇40-80g，余量为水；属于金属清洁技术领域。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，旨在提供一种抛光效果稳定，操作方便的铜抛光的方法；该方法依次包括下述步骤：1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到混合抛光液；2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30-180s；3)用清水冲洗干净即可；其中：步骤1)所述的每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水200-500g，氨基三乙酸二钠10-30g，二甘醇丁醚30-60g，酸80～120g，缓蚀剂3-8g，苯甲醇40-80g，余量为水；属于金属清洁
。【专利说明】
本专利技术涉及一种金属铜抛光剂方法，具体的说，是涉及，属于金 属清洁
。
技术介绍
金属器具加工成形后表面通常会附着一层油污或其它化学制剂，器具使用一段时 间后由使用环境的腐蚀，在表面会产生锈迹，为了美观和延长使用寿命，许多金属零部件都 需要一定的光亮度，抛光处理是零部件加工重要的环节，在抛光处理过程中常添加抛光剂， 以提高金属零部件的光亮度，并清洁金属表面。但现有抛光剂存在返锈快，可适用金属种类 窄、清洗不彻底等问题，许多抛光剂中含有氟化合物或含磷化合物，对环境污染。而且市场 上常用的抛光剂以固体为主，即抛光膏，这种产品在使用时往往是间歇式手段操作，劳动强 度大，单位产量低，对精细结构表面处理不够完全。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术的目的在于提供一种抛光效果稳定，操作方便的铜抛光的 方法。 为此，本专利技术提供的技术方案是这样的：该铜抛光的方法依次包括下述步骤： 1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到混合抛光液； 2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30-180S ; 3)用清水冲洗干净即可； 其中： 步骤1)所述的每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水200-500g，氨基三乙酸二钠 10-30g，二甘醇丁醚30-60g，酸80?120g，缓蚀剂3-8g，苯甲醇40-80g，余量为水。 上述的铜抛光的方法,所述的混合抛光液的pH值为2。 上述的铜抛光的方法，初次需要抛光的产品浸泡在步骤1)中的混合抛光液中 30_60s〇 上述的铜抛光的方法，二次需要抛光的产品浸泡在步骤1)中的混合抛光液中 60-180s〇 进一步的，上述的铜抛光的方法，每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水300? 400g，氨基三乙酸二钠15-25g，二甘醇丁醚40-50g，无机酸90?110g，缓蚀剂4-7g，苯甲醇 50_70g，余量为水。 进一步的，上述的铜抛光剂，所述的酸为柠檬酸。 进一步的，上述的铜抛光剂，所述的缓蚀剂为乙酰单乙醇胺。 与现有技术相比，本专利技术提供的技术方案具有如下优点： 1.本专利技术提供的铜抛光方法抛光效果好，能迅速除去铜表面的锈蚀物质，提高金 属表面的光亮度，操作简单，金属制品无残留。 2.本专利技术的金属抛光方法抛光效果稳定，具有可除锈、除油、去除氧化物、防锈、清 洗和抛光等多种功能。 【具体实施方式】 下面结合具体实施，对本专利技术的权利要求做进一步的详细说明，任何人在本专利技术 权利要求范围内所做的有限次的修改，仍在本专利技术的权利要求保护范围之内。 实施例1 本专利技术提供的，该方法依次包括下述步骤： 1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到pH值为2的混合抛光液； 2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中60s ; 3)用清水冲洗干净即可； 所用的铜抛光剂每升配方如下：双氧水500g，氨基三乙酸二钠10g，二甘醇丁醚 6〇g，朽 1檬酸80g，乙酰单乙醇胺8g，苯甲醇40g 实施例2 本专利技术提供的另，该方法依次包括下述步骤： 1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到pH值为2的混合抛光液； 2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30s ; 3)用清水冲洗干净即可； 所用的铜抛光剂配方如下：双氧水200g，氨基三乙酸二钠30g，二甘醇丁醚30g，柠 檬酸120g，乙酰单乙醇胺3g，苯甲醇80g。 实施例3 本专利技术提供的另，该方法依次包括下述步骤： 1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到pH值为2的混合抛光液； 2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中60s ; 3)用清水冲洗干净； 4)再次放入混合抛光液中60s ; 5)再次用清水冲洗干净即可。 所用的铜抛光剂配方如下：氧水300g，氨基三乙酸二钠30g，二甘醇丁醚30g，柠檬 酸100g，乙酰单乙醇胺38g，苯甲醇50g。 实施例4 本专利技术提供的另，该方法依次包括下述步骤： 1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到pH值为2的混合抛光液； 2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中60s ; 3)用清水冲洗干净； 4)再次放入混合抛光液中180s ; 5)再次用清水冲洗干净即可。 所用的铜抛光剂配方如下：双氧水400g，氨基三乙酸二钠30g，二甘醇丁醚50g，柠 檬酸90g，乙酰单乙醇胺6g，苯甲醇60g。 实施例1至4中任意一种铜抛光剂制备方法如下：【权利要求】1. ，其特征在于，该方法依次包括下述步骤： 1) 将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到混合抛光液； 2) 将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30-180s ; 3) 用清水冲洗干净即可； 其中： 步骤1)所述的每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水200-500g，氨基三乙酸二钠 10-30g，二甘醇丁醚30-60g，酸80?120g，缓蚀剂3-8g，苯甲醇40-80g，余量为水。2. 根据权利要求1所述的铜抛光的方法，其特征在于，所述的混合抛光液的pH值为2。3. 根据权利要求1所述的铜抛光的方法，其特征在于，初次需要抛光的产品浸泡在步 骤1)中的混合抛光液中30-60s。4. 根据权利要求1所述的铜抛光的方法，其特征在于，二次需要抛光的产品浸泡在步 骤1)中的混合抛光液中60-180s。5. 根据权利要求1所述的铜抛光的方法，其特征在于，每升铜抛光剂由下述组分构成： 双氧水300?400g，氨基三乙酸二钠15-25g，二甘醇丁醚40-50g，无机酸90?110g，缓蚀 剂4-7g，苯甲醇50-70g，余量为水。6. 根据权利要求1所述的铜抛光剂，其特征在于，所述的酸为柠檬酸。7. 根据权利要求1所述的铜抛光剂，其特征在于，所述的缓蚀剂为乙酰单乙醇胺。【文档编号】C23F3/06GK104046990SQ201410283529【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年6月23日 优先权日:2014年6月23日 【专利技术者】宋云 申请人:梧州恒声电子科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种铜抛光的方法，其特征在于，该方法依次包括下述步骤：1)将1重量份铜抛光剂和1重量份水混合均匀，得到混合抛光液；2)将需要抛光的铜件浸泡在步骤1)中的混合抛光液中30‑180s；3)用清水冲洗干净即可；其中：步骤1)所述的每升铜抛光剂由下述组分构成：双氧水200‑500g，氨基三乙酸二钠10‑30g，二甘醇丁醚30‑60g，酸80～120g，缓蚀剂3‑8g，苯甲醇40‑80g，余量为水。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宋云，
申请(专利权)人：梧州恒声电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广西;45
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